JPH01127731U - - Google Patents

Description

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案の一実施例による真空ラミネー
ト装置の全体斜視図、第２図はフイルムの平面図
、第３図はフイルム位置決め装置の平面図、第４
図は第３図の―線による断面図、第５図は第
３，４図の―線による断面図、第６ａ〜６ｃ
図は位置決め工程の説明図、第７図は第８図の
―線による断面図に対応するフイルム供給装置
を示す図、第８図は第７図の―線による断面
図、第９図は第７図の―線による断面図に対
応する真空ラミネート機を示す図、第１０図は第
９図の―線による断面図、第１１ａ〜１１ｅ
図はラミネート工程の説明図である。 Ｅ…真空ラミネート機、Ｆ…フイルム、３４…
台車、３９…バキユームカツプ、４０…搬送枠、
５０…固定側箱半体、５１…可動側箱半体、５２
…分割気密箱。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 真空ラミネート機Ｅの分割気密箱５２の固定側
   箱半体５０と可動側箱半体５１の間隙にフイルム
   Ｆを供給するための装置であつて； フイルムＦを受け取る位置と、このフイルムＦ
   を分割気密箱５２に受け渡す位置との間を往復走
   行可能であつて、分割気密箱５２に対向する一辺
   が開放した平面視コ字形の形状を有する台車３４
   と、 この台車３４に、分割気密箱５２の固定側箱半
   体５０の上面より高い位置と低い位置との間を昇
   降自在に支持されるとともに、分割気密箱５２に
   対向する一辺が開放した平面視コ字形の形状を有
   する搬送枠４０と、 この搬送枠４０に設けられ、フイルムＦの少な
   くとも四隅を吸着する複数の上向きのバキユーム
   カツプ３９とを備えてなる、真空ラミネート装置
   におけるフイルムの供給装置。