JPH01128456A - Surface packaging type semiconductor device and leadframe - Google Patents

Surface packaging type semiconductor device and leadframe

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JPH01128456A
JPH01128456A JP62286227A JP28622787A JPH01128456A JP H01128456 A JPH01128456 A JP H01128456A JP 62286227 A JP62286227 A JP 62286227A JP 28622787 A JP28622787 A JP 28622787A JP H01128456 A JPH01128456 A JP H01128456A
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JP
Japan
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lead
solder
flat surface
lead frame
semiconductor device
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Japanese (ja)
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Akiro Hoshi
星 彰郎
Usuke Enomoto
榎本 宇佑
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To assure satisfactory soldering over the whole surface between corners of both edges of a lead with respect to a lead surface subject to coining by forming a stepped surface on the lead surface by subjecting part of a lead frame where a sag thereof is produced by a press and providing the corners on the edges of the lead frame, each corner having a substantially right angle. CONSTITUTION:In a microminiature transistor 8, a lead 1 has a structure where any sag produced upon manufacture has been corrected. That is, any sag on the edge of the lead 1 is subject to coining and jence is eliminated, and instead a flat surface 14 lowered by one step is provided. The flat surface 14 is formed on the part of the sag 2 by coining by a pair of presses composed of top and bottom forces. Accordingly, the lead 1 is comprised of a wide flat surface 15 and the flat surface 14 lowered by one step and extending to both sides of the wide flat surface 15. Upon dipping a solder in the protuberant lead 1, the solder 3 is sticked in a protuberant state at the center thereof to the lead over a region from the corner 16 of the flat surface 14 through the wide flat surface 15 to the corner 16 of the other flat surface 14.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は面実装型半導体デバイス、特にリードの半田濡
れ性が良好な面実装型半導体デバイスおよびその組立に
用いられるリードフレームに間する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] The present invention relates to a surface mount type semiconductor device, particularly a surface mount type semiconductor device whose leads have good solder wettability, and a lead frame used for assembling the same.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

電子機器は、機能面から高密度実装化が、実装面から軽
量化、小型化、薄型化が要請されている。
Electronic devices are required to be more densely packaged from a functional standpoint, and to be lighter, smaller, and thinner from a packaging standpoint.

このため、電子機器に組み込まれる電子部品の多(は、
面実装が可能な構造に移行してきている。
For this reason, a large number of electronic components are incorporated into electronic devices (
There is a shift towards structures that allow surface mounting.

また、電子部品の製造コスト低減のために、パッケージ
形態は材料が安くかつ生産性が良好なレジンパッケージ
が多用されている。
Furthermore, in order to reduce the manufacturing cost of electronic components, resin packages are often used as the package form because they are made of cheap materials and have good productivity.

このような半導体デバイスの一つとして、超小型のトラ
ンジスタが知られている。超小型のトランジスタの例に
つい°ては、たとえば、工業調査会発行[電子材料J 
1972年3月号、昭和47年3月1日発行、P91−
P96に記載されている。
An ultra-small transistor is known as one such semiconductor device. For examples of ultra-small transistors, see, for example, the Industrial Research Council [Electronic Materials J.
March 1972 issue, published March 1, 1972, P91-
It is described on page 96.

一方、電子機器の製造コスト低減等の目的から、電子部
品の実装(搭@)の自動化が図られている。
On the other hand, for the purpose of reducing manufacturing costs of electronic devices, efforts are being made to automate the mounting of electronic components.

また、前記超小型トランジスタ等の電子部品を固定する
一つの方法としては、半田ペーストが印刷された配線基
板上に電子部品を仮付けした後(半田ペーストの表面張
力によってリードの半田ペーストとの接触部分が仮付け
される。)、半田をリフローする方法が知られている。
In addition, one method for fixing electronic components such as the aforementioned ultra-small transistors is to temporarily attach the electronic components onto a wiring board printed with solder paste (the surface tension of the solder paste causes the leads to come into contact with the solder paste). ), methods of reflowing solder are known.

なお、自動実装技術を詳しく述べである文献の例として
、工業調査会発行「電子材料J 1979年3月号、昭
和54年3月1日発行、P54〜P5Bがある。
An example of a document that describes automatic mounting technology in detail is "Electronic Materials J, March 1979 issue, March 1, 1979, published by Kogyo Kenkyukai, pages 54 to 5B.

ところで、前記超小型トランジスタは、パッケージの寸
法は縦、横、高さが1〜2mm前後と橿めて小さく、パ
ッケージの一側面から2本、他側面から1本と、それぞ
れ突出したリードをも含んでも製品幅が3mmにも満た
ない、また、突出したリードの幅も狭いことから、超小
型トランジスタを配線基板に取付ける取付は面積も小さ
くならざるを得ない。
By the way, the package size of the ultra-small transistor is very small, around 1 to 2 mm in length, width, and height, and it also has two leads protruding from one side of the package and one from the other side. Since the product width is less than 3 mm even if it is included, and the width of the protruding leads is also narrow, the mounting area for attaching the ultra-small transistor to the wiring board must be small.

したがって、超小型トランジスタの半田によるより確実
な固定が望まれる。
Therefore, it is desired that ultra-small transistors be more securely fixed by soldering.

一方、超小型トランジスタの実装時の半田の吸上げを良
好とする例が、特開昭61−64146号公報に記載さ
れている。この文献には、ハイブリッド対応素子のリー
ドの断面を略台形状をなす形状にしてリードを1細りに
し、半田の吸い上げを良好にする技術が開示されている
On the other hand, an example of improving the suction of solder when mounting a microtransistor is described in Japanese Patent Laid-Open No. 61-64146. This document discloses a technique in which the cross section of the lead of a hybrid compatible element is made into a substantially trapezoidal shape to make the lead thinner, thereby improving the suction of solder.

また、前記超小型トランジスタはリードフレームを用い
て組み立てられている。前記リードフレームは、薄い金
属板をプレス(打ち抜き)やエツチングによって成形す
ることによって形成されている。リードフレームについ
ては、工業調査会発行「電子材料J 19B2年8月号
、昭和57年8月1日発行、P69〜P74に記載され
ている。
Furthermore, the microtransistor is assembled using a lead frame. The lead frame is formed by forming a thin metal plate by pressing (punching) or etching. Lead frames are described in "Electronic Materials J, August 19B2, August 1, 1980, published by Kogyo Kenkyukai, pages 69 to 74.

この文献には、リードフレームのプレス加工の動向、た
とえば、極薄板の抜きによるそりの発生状況等について
記載されている。
This document describes trends in press working of lead frames, such as the occurrence of warpage due to punching of ultra-thin plates.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

前記のような打ち抜きによって成形されたリードフレー
ムは、半田デイツプにおいて問題がある。
Lead frames formed by punching as described above have problems with solder dip.

すなわち、パッケージ7の周縁から突出するリードを半
田デイツプした場合、第20図に示されるように、リー
ド1の上面の両縁にリードフレーム形成時の打ち抜きに
よってだれ(曲面)2が存在すると、このだれ2の部分
、たとえば、a、  bで示される領域には、半田3は
薄くしか付着しないという現象が生じる。また、前記リ
ードフレームの形成時の打ち抜きによって、だれ2が生
じる面の裏側の面には、突出したバリ4が発生する。
That is, when the leads protruding from the periphery of the package 7 are soldered-dipped, as shown in FIG. 20, if there is a droop (curved surface) 2 on both edges of the upper surface of the lead 1 due to punching when forming the lead frame, this A phenomenon occurs in which the solder 3 adheres only thinly to the droop 2, for example, the areas indicated by a and b. Further, due to punching during formation of the lead frame, a protruding burr 4 is generated on the surface on the back side of the surface where the droop 2 is formed.

しかし、このパリ4部分は薄くても、全体は半田3で被
われる。
However, even if this portion of solder 4 is thin, the entire portion is covered with solder 3.

ところで、半導体デバイスはその最終製造工程で、パッ
ケージの表面に製品名等が捺印される。
Incidentally, in the final manufacturing process of a semiconductor device, a product name and the like are stamped on the surface of the package.

この捺印にあって、捺印されたインクは、たとえば、1
50″Cで1〜2時間ベーキングされる。このため、こ
のベーキング時の熱によって、前記リードIのa、bS
Jf域の半田は、薄くかつその範囲が広いことから、p
bリッチとなって組成が変化し、酸化してしまう、この
ため、完成品となった半導体デバイスを配線基板に面実
装した場合、第18図および第19図に示されるように
、配線基板5の配線層6上に図示しない半田クリームを
設け、この半田クリーム上にリード1を載せてリフロー
して実装する場合、リード1の上面のだれ2部分に酸化
膜が存在することから、半田クリームが溶けても半田3
は、第19図に明瞭に示されるように、リードlの上面
側に吸い寄せられず、半田3がリード1全周を被うよう
な確実な半田付けが行えなくなる。このような半田付は
状態は、信鎖度的に問題があるばかりでなく、検査の際
、外観不良と判定されることが多く歩留り的にも問題が
ある。
In this stamp, the stamped ink is, for example, 1
It is baked at 50"C for 1 to 2 hours. Therefore, due to the heat during baking, the a and bS of the lead I
Solder in the Jf range is thin and has a wide range, so p
b-rich, the composition changes, and oxidation occurs.For this reason, when a finished semiconductor device is surface-mounted on a wiring board, as shown in FIGS. 18 and 19, the wiring board 5 When a solder cream (not shown) is provided on the wiring layer 6 of the wiring layer 6 and the leads 1 are placed on this solder cream and mounted by reflowing, the solder cream may be Even if it melts, solder 3
As clearly shown in FIG. 19, the solder 3 is not attracted to the upper surface of the lead 1, making it impossible to perform reliable soldering in which the solder 3 covers the entire circumference of the lead 1. This type of soldering is not only problematic in terms of reliability, but also in terms of yield as it is often determined to be poor in appearance during inspection.

また、このような半田3のリード1上への吸い上げは、
前記公知例のように、リードlの上縁を平な傾斜面とし
ただけでは必ずしも充分ではない。
In addition, this kind of suction of solder 3 onto lead 1 is as follows:
It is not necessarily sufficient to simply form the upper edge of the lead l into a flat inclined surface as in the above-mentioned known example.

すなわち、半田デイツプ時、傾斜面部分の半田は、その
上の広い上面に吸い寄せられてしまい、傾斜面には、リ
ードを固定するに充分な半田が残留しない。
That is, during solder dipping, the solder on the sloped surface portion is attracted to the wide upper surface above it, and there is not enough solder left on the sloped surface to fix the leads.

本発明の目的は、半田実装性の良好な面実装型半導体デ
バイスを提供することにある。
An object of the present invention is to provide a surface-mounted semiconductor device with good solder mountability.

本発明の他の目的は、実装歩留りおよび実装信幀度が高
い面実装型半導体デバイスを提供することにある。
Another object of the present invention is to provide a surface-mounted semiconductor device with high mounting yield and high mounting confidence.

本発明の他の目的は、半田実装性の良好なリードフレー
ムを提供することにある。
Another object of the present invention is to provide a lead frame with good solder mounting properties.

本発明の前記ならびにそのほかの目的と新規な特徴は、
本明細書の記述および添付図面からあきらかになるであ
ろう。
The above and other objects and novel features of the present invention include:
It will become clear from the description of this specification and the accompanying drawings.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、下記のとおりである。
A brief overview of typical inventions disclosed in this application is as follows.

すなわち、本発明にあっては、面実装型半導体デバイス
の組み立てに際して、プレスで形成されたリードフレー
ムが使用されるが、このリードフレームはプレスによっ
てパターニングされた後、プレスによってだれが生じた
部分はコイニングされて段付面とされ、縁に略直角に近
い角度を有する角部が設けられている。この結果、この
ようなリードに半田デイツプが施された場合、コイニン
グされたリード面は、前記リードの両縁の角部間の面全
域に亘つて充分半田が付着する。したがって、このよう
なリードフレームを用いて製造された半導体デバイスは
、パッケージから突出するリードは、その全周に充分な
半田を存している。
That is, in the present invention, a lead frame formed by a press is used when assembling a surface-mounted semiconductor device, and after this lead frame is patterned by a press, the portions formed by the press are removed. It is coined to form a stepped surface, and the edge is provided with a corner portion having an angle close to a right angle. As a result, when a solder dip is applied to such a lead, solder is sufficiently adhered to the coined lead surface over the entire surface between the corners of both edges of the lead. Therefore, in a semiconductor device manufactured using such a lead frame, the leads protruding from the package have sufficient solder around the entire circumference.

〔作用〕[Effect]

上記した手段によれば、本発明の半導体デバイスにあっ
ては、リードのだれ部分がコイニングによって修正され
、修正によって生じた両縁の角部の間の面全域に半田が
付着させられている。このため、半田はリードの全周に
亘って付着しているため、配線基板に半導体デバイスを
実装した際、リードに付着していた半田およびリードの
下面側に設けられた半田クリームは、熱によって溶けて
一体となる。一体となった半田はリードフレーム表面が
酸化されていないことからリードの上面にまで良く吸い
上げられる。この結果、リード全周は半田で被われるた
め、確実でかつ高信幀度の半田固定が行えることになる
According to the above-mentioned means, in the semiconductor device of the present invention, the droop portion of the lead is corrected by coining, and the solder is adhered to the entire surface between the corner portions of both edges caused by the correction. For this reason, the solder adheres to the entire circumference of the leads, so when a semiconductor device is mounted on a wiring board, the solder adhered to the leads and the solder cream provided on the bottom side of the leads are damaged by heat. Melt and become one. Since the surface of the lead frame is not oxidized, the integrated solder is easily absorbed to the top surface of the leads. As a result, the entire circumference of the lead is covered with solder, so that secure and reliable solder fixation can be performed.

〔実施例〕〔Example〕

以下図面を参照して本発明の一実施例について説明する
An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

第1図は本発明の一実施例による半導体デバイスの一部
を示す斜視図、第2図は同じくリードの拡大断面図、第
3図は同じく反転状態の半導体デバイスの斜視図、第4
図は同じく半導体デバイスの実装状態を示す斜視図、第
5図は同じく半導体デバイスの製造方法を示すフローチ
ャート、第6図〜第16図は本発明の半導体デバイスの
製造状態を示す図であって、第6図はリードフレームを
示す平面図、第7図はリードフレームのリードを示す断
面図、第8図はリードのだれにコイニング処理を施す状
態を示す拡大断面図、第9図はコイニングされたリード
を示す拡大断面図、第10図はメツキ処理されたリード
フレームを示す平面図、第11図はチップボンディング
状態を示す断面図、第12図はワイヤボンディング状態
を示す断面図、第13図はレジンモールド状態を示す断
面図、第14図はモールドされた状態のリードフレーム
を示す平面図、第15図は実装された半導体デバイスを
示す断面図、第16図は半田固定状態のり一部を示す拡
大断面図である。
FIG. 1 is a perspective view showing a part of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is an enlarged sectional view of a lead, FIG. 3 is a perspective view of the semiconductor device in an inverted state, and FIG.
FIG. 5 is a flowchart showing a method of manufacturing a semiconductor device, and FIGS. 6 to 16 are diagrams showing a state of manufacturing a semiconductor device of the present invention. Fig. 6 is a plan view showing the lead frame, Fig. 7 is a sectional view showing the leads of the lead frame, Fig. 8 is an enlarged sectional view showing the state in which the coining process is applied to the droop of the lead, and Fig. 9 is a sectional view showing the coining process. FIG. 10 is a plan view showing a plated lead frame, FIG. 11 is a sectional view showing a chip bonding state, FIG. 12 is a sectional view showing a wire bonding state, and FIG. 13 is a sectional view showing a lead frame. 14 is a plan view showing the lead frame in the molded state, FIG. 15 is a sectional view showing the mounted semiconductor device, and FIG. 16 is a part of the solder-fixed state. It is an enlarged sectional view.

この実施例では、パッケージ寸法が数mmとなる超小型
トランジスタ(半導体デバイス)に本発明を適用した例
について説明する。超小型トランジスタは、第3図に示
されるような構造となっている。第3図は、説明の便宜
上、超小型トランジスタを反転させた状態にした図であ
る。
In this embodiment, an example in which the present invention is applied to an ultra-small transistor (semiconductor device) whose package size is several mm will be described. The ultra-small transistor has a structure as shown in FIG. For convenience of explanation, FIG. 3 shows a microtransistor in an inverted state.

超小型トランジスタ8は、レジン(たとえば、エポキシ
樹脂)のパッケージ7の一側がら1本、他側から2本、
合計3本のり一部1を突出させた構造となっている。同
図は、超小型トランジスタ8の実装面が上となるように
裏返しにした状態を示す図である。前記パッケージ7は
、たとえば、縦が1.5mm、横が2. 8mm、高さ
が1.1mmとなっている。また、前記リード1はパッ
ケージ7の付は根近傍で実装面側に折れ曲がるとともに
、その先端部分は再び外方に折れ曲がり、先端に固定部
9を形成している。リード1は幅が0゜4mm、厚さが
0.16mm、パッケージ7の側面からの突出長さが0
.5mmとなっている。この固定部9は実装面と同一面
となっていて、実装時配線基板等の導体層に半田等によ
って接続される。
The ultra-small transistors 8 are one on one side of the resin (for example, epoxy resin) package 7, two on the other side,
It has a structure in which part 1 of a total of three glues protrudes. This figure shows a state in which the ultra-small transistor 8 is turned over so that its mounting surface faces upward. The package 7 has, for example, a length of 1.5 mm and a width of 2.5 mm. 8mm and height 1.1mm. Further, the lead 1 is bent toward the mounting surface near the root of the package 7, and its tip portion is bent outward again to form a fixing portion 9 at the tip. The lead 1 has a width of 0°4 mm, a thickness of 0.16 mm, and a protruding length from the side of the package 7 of 0.
.. It is 5mm. This fixing portion 9 is flush with the mounting surface, and is connected to a conductive layer of a wiring board or the like by solder or the like during mounting.

一方、前記パッケージ7内に延在するリード1の内端は
それぞれ幅広となっていて、中央のり一ドlはタブ10
を、両側のリード1はワイヤ接続部11をそれぞれ構成
している。これは、チップボンディングやワイヤボンデ
ィングのための面積を得るためであるが、段付部分はり
一ド1がパンケージ7から抜けないようにする役割も果
たす。
On the other hand, the inner ends of the leads 1 extending inside the package 7 are each wide, and the central glue lead l has a tab 10.
The leads 1 on both sides constitute wire connection parts 11, respectively. This is to obtain an area for chip bonding and wire bonding, but also serves to prevent the stepped portion beam 1 from coming off from the pan cage 7.

また、同図には示してないが、前記タブ10およびリー
ドlのワイヤ接続部11部分には、それぞれ銀層からな
るメツキ膜が設けられていて、タブ10のメツキ膜上に
は半導体素子(チップ)12が固定され、前記ワイヤ接
続部11のメツキ膜上にはワイヤ13が接続されている
。前記ワイヤ13はチップ12の図示しない電極と、前
記リード1の内端、すなわち、ワイヤ接続部11を電気
的に接続するようになっている。
Although not shown in the figure, a plating film made of a silver layer is provided on the tab 10 and the wire connection portion 11 of the lead l, respectively, and on the plating film of the tab 10, a semiconductor element ( A chip (chip) 12 is fixed, and a wire 13 is connected to the plating film of the wire connection portion 11. The wire 13 is configured to electrically connect an electrode (not shown) of the chip 12 and the inner end of the lead 1, that is, the wire connection portion 11.

また、この超小型トランジスタ8にあっては、リードl
はその製造時に発生しただれが修正された構造となって
いる。すなわち、リード1の縁のだれ部分にはコイニン
グが施されてだれが消滅し、代わりに、第1図および第
2図に示されるように、−段低い平坦面14が設けられ
ている。この−段低い平坦面14は、第8図および第9
図に示されるように、下型17と上型18とからなる一
対のプレスの押し潰しくコイニング)によって、だれ2
の部分に形成される。したがって、リード1は広い平坦
面15と、この広い平坦面15の両側に拡がる一段低い
平坦面14によって構成される。
Moreover, in this ultra-small transistor 8, the lead l
The structure has been corrected for any damage that occurred during its manufacture. That is, the sagging portion of the edge of the lead 1 is coined to eliminate the sag, and in its place is provided with a lower flat surface 14, as shown in FIGS. 1 and 2. This lower flat surface 14 is shown in FIGS.
As shown in the figure, a pair of presses consisting of a lower mold 17 and an upper mold 18 are crushed and coined, and the drop 2 is
Formed in the area. Therefore, the lead 1 is composed of a wide flat surface 15 and a lower flat surface 14 extending on both sides of the wide flat surface 15.

前記−段低い平坦面14は広い平坦面15より、たとえ
ば、0.01mm低くかつ長さは0.05mm〜0.1
mmとなっている。また、前記−段低い平坦面14の外
れは、略直角となる角部16を有する構造となっている
。また、広い平坦面15と一段低い平坦面14との間の
段差部分も直角となっている。
The lower flat surface 14 is, for example, 0.01 mm lower than the wide flat surface 15 and has a length of 0.05 mm to 0.1 mm.
mm. Furthermore, the edge of the lower flat surface 14 has a substantially right-angled corner 16. Furthermore, the stepped portion between the wide flat surface 15 and the lower flat surface 14 is also at right angles.

この結果、リード1に半田をデイツプした際、第2図に
示されるように、リード1の上面は広い平坦面15と、
この広い平坦面15よりも0.01mmとわずかに低い
一段低い平坦面14とからなっているため、広い平坦面
15と一段低い平坦面14はあたかも同一平坦面である
かのようになり、半田3は、一方の一段低い平坦面14
の角部16から広い平坦面15を通って他方の一段低い
平坦面14の角部16に亘る領域にかけて、中央が盛り
上がつた状態で付着する。
As a result, when the lead 1 is doped with solder, the upper surface of the lead 1 becomes a wide flat surface 15, as shown in FIG.
Since it consists of a lower flat surface 14 that is slightly lower than this wide flat surface 15 by 0.01 mm, the wide flat surface 15 and the lower flat surface 14 appear to be the same flat surface, and the solder 3 is one lower flat surface 14
It is attached in a raised state in the center, extending from the corner 16 of 1 through the wide flat surface 15 to the corner 16 of the other flat surface 14, which is one level lower.

これは、前述のように、リード1が断面的に見て、略矩
形の各隅部が直角あるいは鋭角的な角部となっているた
め、この角部の先端には半田の付着量が少ないかも知れ
ないが、この角部を隔てる各平坦面には半田が表面張力
作用もあって円弧状断面的に多量に付着することによる
と思慮される。
This is because, as mentioned above, when the lead 1 is viewed cross-sectionally, each corner of the approximately rectangular shape is a right-angled or acute-angled corner, so the amount of solder adhering to the tips of these corners is small. However, it is thought that this is due to the fact that a large amount of solder adheres to the flat surfaces separating the corners in an arcuate cross section due to the action of surface tension.

また、リードの縁は、このように鋭角的な角部となって
いて、従来のようなだれによる丸みや両端に鈍角部を有
するような傾斜面となっていないことから、半田の付着
の少ない領域は広い面積とならず、半田の途切れは点状
(リードlの長さ方向で言うならば線状)としかならな
い、なお、この場合、半田3はリードlの全周に亘って
付着するが、敢えて言えば、前記角部16の最先端では
、半田3の付着量が少ない場合もあるかも知れない。
In addition, the edges of the leads have sharp corners and are not rounded or sloped with obtuse corners at both ends, as in the case of conventional methods, so it is possible to create areas with less solder adhesion. does not have a large area, and the solder discontinuities are only dot-like (linear in the length direction of the lead l).In this case, the solder 3 adheres to the entire circumference of the lead l. To be honest, there may be cases where the amount of solder 3 attached is small at the leading edge of the corner 16.

しかし、この半田3の付着がない個所も、断面的に見れ
ば僅かに略矩形断面をしたリード1の四隅であり、かつ
各部分は点状でしかないことから、この実施例の超小型
トランジスタ8におけるリード1の半田デイツプ性は、
従来に比較して掻めて良好となる。
However, the parts where this solder 3 is not attached are also the four corners of the lead 1 which has a slightly rectangular cross section when viewed in cross section, and each part is only dot-shaped, so the ultra-small transistor of this embodiment The solder depth of lead 1 in 8 is:
It can be scratched better than before.

このようなことから、実施例の超小型トランジスタ8を
面実装した場合、リード1の固定部9全周には充分半田
が存在することから、この半田はリード1の下側にあら
かじめ設けられていた半田と一体となり、半田の表面張
力作用によってり一ド1の側面の半田を上面に吸い寄せ
るようになるため、第4図に示されるように、超小型ト
ランジスタ8の各リード1には半田3が盛り上がり、確
実な半田固定が行えることになる。
For this reason, when the ultra-small transistor 8 of the embodiment is surface-mounted, there is sufficient solder around the entire circumference of the fixed part 9 of the lead 1. As shown in FIG. 3 will rise and secure solder fixation will be possible.

つぎに、このような超小型トランジスタの製造およびそ
の製造に用いられるリードフレームについて説明する。
Next, the manufacture of such a microtransistor and the lead frame used in its manufacture will be explained.

超小型トランジスタ8は、第5図のフローチャートに示
されるように、リードフレーム形成、コイニング、メツ
キ、金箔付け、チップボンディング、ワイヤボンディン
グ、レジンモールド、半田デイツプ、切断成形の各工程
を経て製造される。
As shown in the flowchart of FIG. 5, the ultra-small transistor 8 is manufactured through the following steps: lead frame formation, coining, plating, gold foiling, chip bonding, wire bonding, resin molding, solder dipping, and cutting. .

リードフレームの形成にあっては、銅合金、鉄−ニッケ
ル系合金(4270イ)等からなり、がつ0.1mm〜
0.2mm程度の薄い金属板が用いられる。この実施例
では、精密プレスによって、第6図に示されるようなパ
ターンを有するリードフレーム20が形成される。リー
ドフレーム20は、平行に延在する2条の枠21と、こ
の一対の枠21を連結するセクションパー22と、それ
ぞれ前記枠21の内側からセクションパー22に平行に
延在する片持梁式の細いリード1とからなっている。前
記リード1は、たとえば、0.4mmの幅となっている
。また、リード1は一方の枠21からは1本、他方の枠
21からは2本突出している。前記一方の枠21の1本
のり−ド1は、他方の枠21の2本のリード1の中間に
位置して中央リードとなるとともに、その先端は一対の
枠21および隣り合う一対のセクシッンバ−22とによ
って形成される矩形の略中心位置に位置し、かつチップ
12を固定するための幅広のタブIOを形成している。
When forming the lead frame, it is made of copper alloy, iron-nickel alloy (4270I), etc., and has a thickness of 0.1 mm to
A thin metal plate of about 0.2 mm is used. In this embodiment, a precision press forms a lead frame 20 having a pattern as shown in FIG. The lead frame 20 includes two frames 21 extending in parallel, a section par 22 connecting the pair of frames 21, and a cantilever type frame extending parallel to the section par 22 from inside the frame 21. It consists of a thin lead 1. The lead 1 has a width of, for example, 0.4 mm. Further, one lead 1 protrudes from one frame 21 and two leads 1 protrude from the other frame 21. One lead 1 of the one frame 21 is located between the two leads 1 of the other frame 21 and serves as a central lead, and its tip is connected to the pair of frames 21 and the adjacent pair of sex bars. 22, and forms a wide tab IO for fixing the chip 12.

また、中央リードの先端の両側に先端を臨ませる2本の
り−ド1は、前記中央リードと同様にその先端は僅かに
幅広となり、ワイヤ13を接続するワイヤ接続部11を
構成している。
Further, the two rods 1 whose tips face on both sides of the tip of the center lead have slightly wider tips, similar to the center lead, and constitute a wire connection portion 11 to which a wire 13 is connected.

なお、前記枠21には、リードフレーム20の搬送用等
に使用されるガイド孔23や位置決め用窪み24が設け
られている。
Note that the frame 21 is provided with guide holes 23 and positioning depressions 24 used for transporting the lead frame 20 and the like.

つぎに、このようなリードフレーム20は、第7図に示
されるように、リード1の両縁部分はプレスの下型17
と、上型18とによってコイニングされる。前記下型1
7は平坦な面となっているが、上型18は中央に窪んだ
逃げ部25を有し、かつその両側に平坦面となるコイニ
ング面26を有している。このコイニング面26は、下
型17上に載るリード1のだれ2部分を押し潰す(コイ
ニング)ようになっている。すなわち、第9図に示され
るように、上型18が下型17に対して相対的に降下す
ると、リード1は下型17と上型18によってコイニン
グされるため、リード1のだれ2は、たとえば、0.0
1mm押し潰され、第2図に示されるような、−段低い
平坦面14が広い平坦面15の両側に形成される。−段
低い平坦面14はリードlの幅員方向に沿って0.05
mm〜0.1mmの長さに亘って設けられる。この上・
下型18.17のプレスによって、バリ4は消滅する。
Next, in such a lead frame 20, as shown in FIG.
and the upper die 18. Said lower mold 1
7 is a flat surface, but the upper die 18 has a recessed relief part 25 in the center and coining surfaces 26 which are flat surfaces on both sides thereof. This coining surface 26 is adapted to crush (coin) two sagging portions of the lead 1 placed on the lower die 17. That is, as shown in FIG. 9, when the upper mold 18 descends relative to the lower mold 17, the lead 1 is coined by the lower mold 17 and the upper mold 18, so that the droop 2 of the lead 1 is For example, 0.0
It is crushed by 1 mm, and as shown in FIG. 2, a lower flat surface 14 is formed on both sides of a wide flat surface 15. - The lower flat surface 14 is 0.05 mm along the width direction of the lead l.
It is provided over a length of mm to 0.1 mm. On top of this
The burrs 4 are eliminated by the pressing of the lower molds 18 and 17.

また、コイニングの縁は、第1図および第9図に示され
るように、側方にわずかに張り出すが支障はない。なお
、第10図において、傾斜を施したリード縁がコイニン
グが施されたリードである。
Furthermore, the edge of the coining slightly overhangs to the side, as shown in FIGS. 1 and 9, but this is not a problem. In FIG. 10, the sloped lead edge is a coined lead.

つぎに、リードフレーム20はメツキ処理されて、第1
0図の点々で示されるように、タブ10とワイヤ接続部
11には、厚さ3μm程度の銀からなるメツキ膜27.
28が形成される。このメツキは、たとえば、シリコン
ゴムでメツキを施さないリードフレーム領域を被った後
、電解メツキ等によって行われる。この結果、メツキ膜
27゜28を有するリードフレーム20が製造されるこ
とになる。
Next, the lead frame 20 is plated and the first
As shown by the dots in FIG. 0, the tab 10 and the wire connection part 11 are covered with a plating film 27 made of silver with a thickness of about 3 μm.
28 is formed. This plating is performed, for example, by electrolytic plating or the like after covering the lead frame area that is not to be plated with silicone rubber. As a result, a lead frame 20 having a plating film of 27°28 is manufactured.

つぎに、第10図の二点鎖線で示すように、前記タブ1
0の表面、すなわち、第11図に示されるように、バリ
4が存在する面には10I!m程度の厚さの金箔29が
固定される。
Next, as shown by the two-dot chain line in FIG.
0, that is, the surface where the burr 4 exists, as shown in FIG. 11, is 10I! A gold leaf 29 having a thickness of about m is fixed.

つぎに、このようなリードフレーム20は、第11図で
示されるように、タブ10上にチップ12がボンディン
グされる。チップ12は、コレット30と呼称される真
空吸着工具によって、真空吸着保持されて運ばれ、前記
金箔29上に位置決めi!ilFされる。チップ12は
Au−5tの共晶合金層31を介して固定される。
Next, the chip 12 is bonded onto the tab 10 of the lead frame 20, as shown in FIG. The chip 12 is carried while being held by vacuum suction by a vacuum suction tool called a collet 30, and is positioned on the gold foil 29 (i!). IIF will be done. The chip 12 is fixed via a eutectic alloy layer 31 of Au-5t.

つぎに、第12図に示されるように、ワイヤ13を保持
したキャピラリ32によって、前記タブ10上に固定さ
れたチップ12の図示しない電極と、これに対応するリ
ード1の先端のワイヤ接続部11とが、ワイヤ13を介
して電気的に接続される、ワイヤ13がワイヤ接続部1
1に固定されると、ワイヤ13は図示しないクランパに
よって保持されて引っ張られる。この結果、ワイヤ13
はワイヤ接続部11に固定された付は根部分で破断し、
−張りのワイヤボンディングが終了する。
Next, as shown in FIG. 12, the capillary 32 holding the wire 13 connects the unillustrated electrode of the chip 12 fixed on the tab 10 to the corresponding wire connection portion 11 at the tip of the lead 1. are electrically connected via the wire 13, and the wire 13 is connected to the wire connection portion 1.
1, the wire 13 is held and pulled by a clamper (not shown). As a result, wire 13
The wire fixed to the wire connection part 11 is broken at the root part,
- Tight wire bonding is completed.

この実施例では、第13図に示されるように、二張りの
ワイヤボンディングが行われる。
In this embodiment, as shown in FIG. 13, two-way wire bonding is performed.

つぎに、チップボンディング、ワイヤボンディングが終
了したリードフレーム20は、第13図に示されるよう
に、トランスファモールドプレスのモールド型33に型
締めされる。モールド型33は、下型34と上型35と
からなり、型締めによって、レジン36が流れるランナ
ー37.ゲート38.キャビティ39等をそれぞれ形成
するようになっている。そこで、前記ランナー37を通
してキャビティ39内にレジン36を圧入させ、かつレ
ジンのキュアによってレジン36を硬化させて、第14
図等で示されるパッケージ7を形成する。
Next, the lead frame 20 that has undergone chip bonding and wire bonding is clamped into a mold die 33 of a transfer mold press, as shown in FIG. The mold 33 consists of a lower mold 34 and an upper mold 35, and a runner 37 through which resin 36 flows when the mold is clamped. Gate 38. Cavities 39 and the like are formed respectively. Therefore, the resin 36 is press-fitted into the cavity 39 through the runner 37, and the resin 36 is hardened by curing the resin.
A package 7 shown in the figures and the like is formed.

つぎに、モールドが終了したリードフレーム20は、半
田デイツプ処理され、パッケージ7から突出したり−ド
lの表面には、第2図に示されるように、半田3が付着
する。この際、半田3はリード1の上面縁にだれのよう
な丸みがなく、鋭角的な角部16が存在するため、この
先端には半田3が付着しなくとも、一方の一段低い平坦
面14の端の角部16の先端から広い平坦面15を通っ
て他の一段低い平坦面14の端の角部16に亘って、円
弧状に半田3が付着する。したがって、リードフレーム
の状態であるいはリードフレームから切り離されて単体
となった状態で、パッケージ7の表面にマーキングが施
されかつマークの乾燥が行われても、この熱でリード表
面が酸化したり半田が劣化するようなことは殆どない、
すなわち、この実施例の場合は、リード表面に広い面積
に亘って半田が薄く付くことはないため、熱によって半
田が劣化するようなこともない。また、角部16の最先
端にもわずかではあるが半田が付着しているので、仮り
にこの最先端部分の半田が劣化してもリード表面の酸化
は起きない。また、この点状(線状)の半田劣化程度で
は半田実装に殆ど影響を与えない。
Next, the molded lead frame 20 is subjected to a solder dip treatment, and solder 3 is attached to the surface of the lead frame 1 protruding from the package 7, as shown in FIG. At this time, since the solder 3 does not have a rounded edge on the upper surface of the lead 1 and has an acute corner 16, even if the solder 3 does not adhere to the tip of the lead 1, it will stick to the lower flat surface 14 of the lead 1. The solder 3 is attached in an arc shape from the tip of the corner 16 at the end, through the wide flat surface 15, to the corner 16 at the end of the other flat surface 14, which is one step lower. Therefore, even if markings are applied to the surface of the package 7 in the lead frame state or in a state separated from the lead frame to form a single unit and the marks are dried, the lead surface may oxidize or the solder may oxidize due to this heat. There is almost no deterioration of
That is, in the case of this embodiment, since the solder is not thinly applied over a wide area on the lead surface, the solder is not deteriorated by heat. Furthermore, since a small amount of solder is attached to the leading edge of the corner 16, even if the solder at the leading edge deteriorates, oxidation of the lead surface will not occur. Furthermore, this point-like (linear) solder deterioration has almost no effect on solder mounting.

つぎに、モールドが施されたリードフレーム20は、前
記モールド型33から取り出され、切断成形機によって
不要なリードフレーム部分が除去され、かつ成形される
ことによって、第2図に示されるような超小型トランジ
スタ8が製造される。
Next, the molded lead frame 20 is taken out from the mold 33, unnecessary lead frame portions are removed by a cutting machine, and the molded lead frame 20 is molded into a superstructure as shown in FIG. A small transistor 8 is manufactured.

なお、第14図におけるリードlを横切る二点鎖線は、
リード1の切断個所を示すものである。
In addition, the two-dot chain line that crosses the lead l in FIG.
It shows the cut point of the lead 1.

このような超小型トランジスタ8を実装する際は、超小
型トランジスタ8は、第15図に示されるように、セラ
ミック等からなる配線基板5の所定部分に載置される。
When mounting such a microtransistor 8, the microtransistor 8 is placed on a predetermined portion of the wiring board 5 made of ceramic or the like, as shown in FIG.

前記配線基板5の主面には、配線層6が設けられている
。また、この配線層6上には、図示しない半田ペースト
層(半田クリーム)が印刷されている。そこで、この半
田ペースト層上に、超小型トランジスタ8のリード1の
固定部9を載せ、リフローによって、前記半田ペースト
層を溶かし、かつ硬化させる。この結果、リード1の固
定部9は、半田3によって配線N6に固定される結果、
超小型トランジスタ8は、配線基板5に面実装されるこ
とになる。
A wiring layer 6 is provided on the main surface of the wiring board 5. Further, on this wiring layer 6, a solder paste layer (solder cream) (not shown) is printed. Therefore, the fixing portion 9 of the lead 1 of the microtransistor 8 is placed on this solder paste layer, and the solder paste layer is melted and hardened by reflow. As a result, the fixing portion 9 of the lead 1 is fixed to the wiring N6 by the solder 3.
The ultra-small transistor 8 will be surface-mounted on the wiring board 5.

この面実装の際、前記リード1の固定部9は、第2図に
示されるように、だれ部分はコイニングされて修正され
半田デイツプが良好になされているため、リード1に最
初に付着していた半田と、配線層6上の半田クリームと
は、熱によって溶けた際、リード1の上縁で半田が途切
れることもなく、相互に第4図および第16図に示され
るように、リード1は充分な半田3に被われ、確実な半
田付けが行えるようになる。
During this surface mounting, as shown in FIG. 2, the fixing part 9 of the lead 1 is corrected by coining and the solder depth is well formed, so that the fixing part 9 of the lead 1 is not attached to the lead 1 first. When the solder and the solder cream on the wiring layer 6 are melted by heat, the solder does not break off at the upper edge of the lead 1, and as shown in FIG. 4 and FIG. is covered with sufficient solder 3, allowing reliable soldering.

このような実施例によれば、つぎのような効果が得られ
る。
According to such an embodiment, the following effects can be obtained.

(1)本発明の超小型トランジスタにあっては、パッケ
ージから突出しかつ階段状に延在するり−ドは、プレス
によるリードのだれ部分がコイニングによって修正され
ていることから、半田が全周に亘ってデイツプされると
いう効果が得られる。
(1) In the ultra-small transistor of the present invention, the leads that protrude from the package and extend in a step-like manner are corrected by coining, so that the solder is applied to the entire circumference. The effect of being deepened over the area can be obtained.

(2)上記(1)により、本発明の超小型トランジスタ
は、あらかじめリードの全周に半田が付着しかつ半田が
劣化したりしていないことから、面実装時、半田がリー
ドの上に良く吸い上げられるため、リードは充分な半田
量で全周を被われ確実な半田付けが行われるという効果
が得られる。
(2) According to (1) above, the ultra-small transistor of the present invention has solder already attached to the entire circumference of the leads and the solder has not deteriorated, so that the solder does not easily cover the leads during surface mounting. Since the lead is sucked up, the entire circumference of the lead is covered with a sufficient amount of solder, resulting in reliable soldering.

(3)上記(2)により、本発明の超小型トランジスタ
は、確実な半田付けが行えることから実装の信頼度も高
くなるという効果が得られる。
(3) Due to the above (2), the ultra-small transistor of the present invention can be soldered reliably, so that the reliability of mounting can be increased.

(4)本発明のリードフレームは、プレスによって生じ
ただれ部分は、コイニングによって一段低い平坦面に形
成されるため、リードの上面両縁に鋭角的な角部を存す
る構造となり、半田デイツプ時、リードの上面にも全域
に亘って半田が付着するようになり、リードはその全周
を半田で被われるという効果が得られる。
(4) In the lead frame of the present invention, the sagging portion caused by pressing is formed into a lower flat surface by coining, so that the lead frame has a structure with sharp corners on both edges of the upper surface of the lead. Solder also adheres to the entire upper surface of the lead, producing the effect that the entire circumference of the lead is covered with solder.

(5)上記(4)により、本発明による半田デイツプ性
の良好なリードフレームを用いた半導体デバイスは、実
装性能が高いという効果が得られる。
(5) According to the above (4), the semiconductor device using the lead frame with good solder dip property according to the present invention has an effect of high mounting performance.

(6)上記(1)〜(5)により、本発明によれば、半
田による面実装が再現性良く行えるため、半導体デバイ
スの実装歩留りの向上が達成できるとともに、半導体デ
バイスを組み込んだ電子機器の信転性が高くなるという
相乗効果が得られる。
(6) According to the above (1) to (5), according to the present invention, surface mounting by soldering can be performed with good reproducibility, so it is possible to improve the mounting yield of semiconductor devices, and to improve the mounting yield of electronic devices incorporating semiconductor devices. A synergistic effect of increasing credibility can be obtained.

以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、本発明は上記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない、たとえば、だれ部分をV
字突状を有する上型でコイニングして、第17図に示さ
れるように、7字窪み40の外側に先端が鋭角的な角部
16を設けるようにしても、リード1の半田デイツプ性
向上が達成できる。また、この構造では、前記■字窪み
40に半田が溜まるようになるため、リード1の上面へ
の半田3の付着性もさらに良好となる。
Although the invention made by the present inventor has been specifically explained above based on Examples, it goes without saying that the present invention is not limited to the above Examples and can be modified in various ways without departing from the gist thereof. For example, V
Even if coining is performed using an upper mold having a shape of a letter protrusion and a corner portion 16 with an acute tip is provided on the outside of the figure 7 depression 40 as shown in FIG. 17, the solder dip property of the lead 1 can be improved. can be achieved. Further, in this structure, since the solder accumulates in the ■-shaped recess 40, the adhesion of the solder 3 to the upper surface of the lead 1 also becomes better.

以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
をその背景となった利用分野である超小型トランジスタ
の製造技術に適用した場合について説明したが、それに
限定されるものではなく、IC等等地構造の半導体デバ
イスの製造技術にも適用できる。
In the above explanation, we have mainly explained the case where the invention made by the present inventor is applied to the manufacturing technology of ultra-small transistors, which is the field of application that formed the background of the invention, but it is not limited thereto. It can also be applied to manufacturing technology for semiconductor devices.

本発明は少なくとも半田デイツプによってリードに半田
を付着させる構造の半導体デバイスの製造技術に適用で
きる。
The present invention is applicable to at least a technology for manufacturing semiconductor devices having a structure in which solder is attached to leads by a solder dip.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本願において開示される発明のうち代表的なものによっ
て得られる効果を簡単に説明すれば、下記のとおりであ
る。
A brief explanation of the effects obtained by typical inventions disclosed in this application is as follows.

本発明の半導体デバイスにあっては、υ″−ドのだれ部
分がコイニングによって修正され、修正によって生じた
両縁の角部の間の面金域に半田が付着させられている。
In the semiconductor device of the present invention, the sagging portion of the υ''-domain is corrected by coining, and solder is adhered to the surface metal area between the corner portions of both edges caused by the correction.

このため、半田はリードの全周に亘って付着しているた
め、配線基板に半導体デバイスを実装した際、リードに
付着していた半田およびリードの下面側に設けられた半
田クリームは、熱によって溶けて一体となる。一体とな
った半田はリードフレーム表面が酸化されていないこと
からリードの上面にまで良く吸い上げられる。
For this reason, the solder adheres to the entire circumference of the leads, so when a semiconductor device is mounted on a wiring board, the solder adhered to the leads and the solder cream provided on the bottom side of the leads are damaged by heat. Melt and become one. Since the surface of the lead frame is not oxidized, the integrated solder is easily absorbed to the top surface of the leads.

この結果、リード全周は半田で被われるため、確実でか
つ高信転度の半田固定が行えることになる。
As a result, the entire circumference of the lead is covered with solder, so that solder fixation can be performed reliably and with high reliability.

また、本発明の半導体デバイスを組み込んだ電子機器は
その信顧度が高くなる。
Further, electronic equipment incorporating the semiconductor device of the present invention has a high reliability.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の一実施例による半導体デバイスの一部
を示す斜視図、 第2図は同じくリードの拡大断面図、 第3図は同じく反転状態の半導体デバイスの斜視図、 第4図は同じく半導体デバイスの実装状態を示す斜視図
、 第5図は同じく半導体デバイスの製造方法を示すフロー
チャート、 第6図は本発明の半導体デバイスの製造に用いられるリ
ードフレームを示す平面図、 第7回は同じくリードフレームのリード部分を示す断面
図、 第8図は同じくリードのだれにコイニング処理を施す状
態を示す拡大断面図、 第9図は同じくコイニングされたリードを示す拡大断面
図、 第10図は同じくメツキ処理されたり−ドフレ−ムを示
す平面図、 第11図は同じくチップボンディング状態を示す断面図
、 第12図は同じくワイヤボンディング状態を示す断面図
、 第13図は同じくレジンモールド状態を示す断面図、 第14図は同じくモールドされた状態のリードフレーム
を示す平面図、 第15図は同じく実装された半導体デバイスを示す断面
図、 第16図は同じく半田固定状態のリードを示す拡大断面
図、 第17図は本発明の他の実施例によるリードの拡大断面
図、 第18図は従来の半導体デバイスのりフロー実装におけ
る不良状態を示す斜視図、 第19図は同じくリフロー実装における不良状態を示す
リード断面図、 第20図は同じく半田デイツプの不良状態のリード断面
図である。 1・・・リード、2・・・だれ、3・・・半田、4・・
・パリ、5・・・配線基板、6・・・配線層、7・・・
パッケージ、8・・・超小型トランジスタ、9・・・固
定部、10・・・タブ、11・・・ワイヤ接続部、12
・・・チップ、13・・・ワイヤ、14・・・−段低い
平坦面、15・・・広い平坦面、16・・・角部、17
・・・下型、18・・・上型、20・・・リードフレー
ム、21・・・枠、22・・・セクションバー、23・
・・ガイド孔、24・・・位置決め用窪み、25・・・
逃げ部、26・・・コイニング面、27゜28・・・メ
ツキ膜、29・・・金箔、30・・・コレット、31・
・・共晶合金層、32・・・キャピラリ、33・・・モ
ールド型、34・・・下型、35・・・上型、36・・
・レジン、37・・・ランナー、38・・・ゲート、3
9・・・キャビティ、40・・・V字窪み。
FIG. 1 is a perspective view showing a part of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is an enlarged sectional view of a lead, FIG. 3 is a perspective view of the semiconductor device in an inverted state, and FIG. Similarly, a perspective view showing the mounting state of the semiconductor device, FIG. 5 is a flowchart showing the manufacturing method of the semiconductor device, and FIG. 6 is a plan view showing the lead frame used in manufacturing the semiconductor device of the present invention. Similarly, FIG. 8 is an enlarged sectional view showing the lead portion of the lead frame, FIG. 8 is an enlarged sectional view showing the coining process applied to the lead sag, FIG. 9 is an enlarged sectional view showing the coined lead, and FIG. 10 is an enlarged sectional view showing the coined lead. FIG. 11 is a sectional view showing the chip bonding state; FIG. 12 is a sectional view showing the wire bonding state; FIG. 13 is the same resin molded state. 14 is a plan view showing a lead frame in a molded state; FIG. 15 is a sectional view showing a mounted semiconductor device; FIG. 16 is an enlarged sectional view showing a lead in a soldered state. , FIG. 17 is an enlarged sectional view of a lead according to another embodiment of the present invention, FIG. 18 is a perspective view showing a defective state in conventional semiconductor device adhesive flow mounting, and FIG. 19 similarly shows a defective state in reflow mounting. 20 is a cross-sectional view of the lead with a defective solder dip. 1...Lead, 2...Who, 3...Solder, 4...
・Paris, 5... Wiring board, 6... Wiring layer, 7...
Package, 8... Ultra-small transistor, 9... Fixed part, 10... Tab, 11... Wire connection part, 12
...Chip, 13...Wire, 14...-lower flat surface, 15...Wide flat surface, 16...Corner, 17
... lower mold, 18 ... upper mold, 20 ... lead frame, 21 ... frame, 22 ... section bar, 23.
...Guide hole, 24...Positioning depression, 25...
Relief part, 26... Coining surface, 27° 28... Plating film, 29... Gold leaf, 30... Collet, 31.
... Eutectic alloy layer, 32... Capillary, 33... Mold mold, 34... Lower mold, 35... Upper mold, 36...
・Resin, 37...Runner, 38...Gate, 3
9...Cavity, 40...V-shaped recess.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、パッケージと、このパッケージの周縁から突出する
リードとからなり、かつ前記リードは金属板を打ち抜い
て形成されてなることを特徴とする面実装型の半導体デ
バイスであって、前記リードの縁の打ち抜きによるだれ
部分はコイニングによって修正されて縁に角部を有した
構造となっていることを特徴とする面実装型半導体デバ
イス。 2、半導体素子を主面に固定するタブと、このタブの周
囲に先端を臨ませるリードとを有しかつ金属板をプレス
することによって形成されたリードフレームであって、
少なくとも前記リードの緑のプレスによって生じただれ
部分はコイニングによって修正されて縁に角部を有した
構造となっていることを特徴とするリードフレーム。
[Claims] 1. A surface-mounted semiconductor device comprising a package and leads protruding from the periphery of the package, the leads being formed by punching out a metal plate. . A surface-mounted semiconductor device, characterized in that the sagging portion of the edge of the lead due to punching is corrected by coining so that the edge has a corner portion. 2. A lead frame formed by pressing a metal plate and having a tab for fixing a semiconductor element to the main surface and a lead whose tip is exposed around the tab,
A lead frame characterized in that at least the sagging portion of the lead caused by the green pressing is corrected by coining so that the lead frame has a structure having a corner portion at the edge.
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