JPH01128985A - 薬物動態学的に改良されたセファロスポリン誘導体、その製法、それを含む医薬組成物、及び成中間体 - Google Patents

薬物動態学的に改良されたセファロスポリン誘導体、その製法、それを含む医薬組成物、及び成中間体

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JPH01128985A
JPH01128985A JP88253650A JP25365088A JPH01128985A JP H01128985 A JPH01128985 A JP H01128985A JP 88253650 A JP88253650 A JP 88253650A JP 25365088 A JP25365088 A JP 25365088A JP H01128985 A JPH01128985 A JP H01128985A
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    • C07ORGANIC CHEMISTRY
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    • C07D501/00Heterocyclic compounds containing 5-thia-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. cephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
    • C07D501/14Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7
    • C07D501/16Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7 with a double bond between positions 2 and 3
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    • C07D501/247-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids with hydrocarbon radicals, substituted by hetero atoms or hetero rings, attached in position 3
    • C07D501/26Methylene radicals, substituted by oxygen atoms; Lactones thereof with the 2-carboxyl group
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C311/00Amides of sulfonic acids, i.e. compounds having singly-bound oxygen atoms of sulfo groups replaced by nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups
    • C07C311/30Sulfonamides, the carbon skeleton of the acid part being further substituted by singly-bound nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups
    • C07C311/31Sulfonamides, the carbon skeleton of the acid part being further substituted by singly-bound nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups having the sulfur atoms of the sulfonamide groups bound to acyclic carbon atoms
    • C07C311/32Sulfonamides, the carbon skeleton of the acid part being further substituted by singly-bound nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups having the sulfur atoms of the sulfonamide groups bound to acyclic carbon atoms of an acyclic saturated carbon skeleton

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、薬物動態学的に改良されたセファロスポリン
誘導体、その製造方法及びそれを含む薬学組成物に関す
る。更に1本発明は該セファロスポリン誘導体の合成用
の新規中間体に関する。
[従来の技術、・発明が解決しようとする課題]フラン
ス特許出願第8414878号[1988年03月28
日に公開番号2570702として公開]では2本出願
人はダラム陰性菌及びダラム陽性菌の両者に対して広い
活性を有する1群のセファロスポリン誘導体を説明した
これらの誘導体には、特に3−位置が次の基で置換され
た化合物が含まれる。
式中、 Alkは置換される場合もある低級アルキレン
基を示し、置換基NH−Co−Alk −NH2は3−
位置又は4−位置に存在する。
本発明によれば、驚くべきことに、3−位置の置換基の
性質を僅か変えることによって、該先行技術に示された
化合物の良好な活性を保持すると共に、さらに改良され
た薬物動態学的[pharfflacolclneti
c ]特性が極めて改良され、特に極めて長期間持続す
る極めて高いプラズマ濃度を有する化合物を得ることが
見出された。
このように薬物動態学的特性を改良することは。
同一の治療効果に必要な製品の投与量及び投与の数を減
少させる可能性を開くので重要である。
[課題を解決するための手段] 本発明の化合物は1次の一般式を有する。
式中。
R1,R2及びR3は、それぞれ水素原子を示すか、又
はR1及びR2はそれぞれ水素原子又はメチル基を示し
及びR3はカルボキシル基を示すか、又はR1及びR2
は結合する炭素原子と一緒にシクロブチル環を形成し茗
びR3はカルボキシル基を示す、及び。
−2の基Aは異なるものであり、一方は水酸基を示し他
は基−NHSO2−Alk −NH2[AIkはC2−
C4低級アルキレン基を示す]を示す。
この式にはオキシム基が存在するため、化合物(1)は
2の互変異性体:  syn及びarrttが存在する
。このsyn異性体は治療活性が高く好ましい化合物で
ある。
下記の化合物(1)は。
式(I)で示される形態又は 互変異性体(■′)の形態で存在し得ることが理解され
る。
式中、R1,R2、R3及びAは前に定義した通りであ
る。
式I (又はI−)の化合物の塩は本発明の一部である
これらは9分子のアミノ基で形成することができる薬学
的に受容性酸との塩、又はアルカリ金属塩、アルカリ土
類金属塩、又はアミノ酸又はアミン、例えばトリエチル
アミン又はエタノールアミンの塩であることができる。
これは化合物(I)の4−位置又は、存在する場合には
オキシムの置換基に存在するカルボキシル基又はこれら
のカルボキシル基と形成することができる。
これらは、また1分子の有するカルボキシル基と、一方
では置換基A、他方ではチアゾール基において分子に存
在する第一アミン基との間で形成することができる内部
塩であることができる。
同様のことは1分子に存在することがあるカルボキシル
基の一方又は他方又は両者に由来する加水分解し易い又
は代謝的易変性エステルにも適用される。
これらのエステルの内で特に次のものを指摘することか
できる。
フタリジルエステル: ■−アセトキシエチル  CH3 エステル:     −CH−0−COCH31−エト
キシカルボニルオキシエチル 及び (4−メチル−2−オキソジオキソ−ルー4−エン−5
−イル)メチル エステル: δ 本発明は、さらに次の反応式で表わされる式I(又はI
”)の化合物の製造方法にも関する。
−一一一や一+――〉 これらの式において、Trはアミン基の保護基。
好ましくはトリチル基を表わし、tBuはtert −
ブチル基を表わし、R゛3は水素又は容易に5変性Na
、bile]のエステル基、好ましくはC00tBuを
表わす。
2の基A′は異なるものであり、その一方はOH基を示
し他は基−NHSO2Alk NH2基からそのアミノ
基を5変性基で封鎖することによって誘導される基を表
わす。
また、J、R2及びAlkは前に定義した通りである。
沃素化合物lは、アミン基が予め保護された酸2 [又
はその活性誘導体]と、 tart−ブトキシカルボニ
ル又はトリクロロエトキシカルボニルのような基によっ
て既知の方法で反応する。
一般に、この反応は適当な溶媒[非プロトン性。
極性]、好ましくはジメチルフォルムアミドの溶液中で
重炭酸カリウム又はジイソプロピルエチルアミンのよう
な低求核性の第3アミンの存在下で行われる。
この反応は低温、0〜20℃で行われる。
生成保護化合物3は、既知方法により、特に。
トリフルオロ酢酸又は、塩酸又はメタンスルフォン酸の
ような強酸と義酸との混合物を用いる酸媒体中での加水
分解により、アミン又はエステルの保持する保護基の除
去による化合物(I)の製造に用いられる。
これらの条件下で、化合物(I)は脱保護に用いた強酸
とアミノ基の塩の形態で、即ちトリフルオロアセテート
、塩酸塩、メタンスルフォネート等の形態で直接単離さ
れる。
所望の場合、これらの塩は弱酸の塩[例えば義酸塩又は
酢酸塩]め形態の塩基性イオン交換樹脂上にこの塩の溶
液を通すことによって他の強酸の塩に変えることができ
る。
塩を得ようとする強酸は生成溶液に加え、得られる塩を
例えば凍結乾燥によって単離する。
内部塩は、無水媒体中での塩基との反応又はイオン交換
樹脂カラムの通過による。脱保護で得られた強酸の塩の
脱塩化[desa11nif’1catlon]によっ
て製造される。
出発原料として用いられる沃素誘導体1は、既知である
か、又は既知の方法特に西独特許出願第3311300
号に示されたような方法で製造することができる。
保護アミノ酸2は1次の式によって対応ヒドロキシアミ
ノ酸から製造される。
丘         :Ll 式中、基Bは異なるものであり、一方はOHを表わし他
方はNH2を表わし、基へ−は異なるもので′あり、一
方はOHを表わし他方はR4NH−Alk−8O2NH
−[R4はアミン基の保護基を表わし、 Alkは前に
定義した通りである]を表わす、この反応は溶液中1例
えば塩化メチレン中で。
酸受容体及びアミン基を活性化すると同時にカルボン酸
基を保護する試薬の存在下で行なう、これは好ましくは
トリメチルクロロシランを用いて行われる。
R4が所定の保護基である化合物2は、酸加水分解によ
ってR4が水素である生成物2に変換することができ2
次いでアミン基が当初の保護基とは異なる保護基で保護
された化合物2を既知の方法で得ることができる。
次の式の化合物は新規であり、その点で本発明の詳細な
説明 式中、2の基B′は、その一方はOH基を表わし他方は
R4NH−Alk−3o2NH−[Xは水素又はアミン
基の保護基を表わし、 Alkは前に定義した通りであ
る]を表わす。
本発明の化合物(I)のカルボン酸エステル及び塩は、
それ自体既知の反応によって化合物(I)から得られる
即ち、無機塩は化合物(1)を無機塩基1例えば水酸化
ナトリウム、水酸化カリウム又は重炭酸ナトリウムとを
等分子量反応させることによって得られる。塩化反応は
水又はエタノールのような溶媒中で行われ溶液の蒸発に
よって得られる塩を単離する。
有機塩基の塩は酸■の溶液と等分子量の有機塩基とを溶
媒又は適当な溶媒混合物中で反応させることによって得
られる。塩はエーテルで沈澱することによって単離する
8エステルは既知のエステル化方法で得られる・0例え
ばナトリウム塩のような酸の塩とハロゲン誘導体との反
応が有利に用いられる1反応は好ましくは出発酸誘導体
を溶解することかできる溶媒2例えばジメチルフォルム
アミド中で行われる。
syn及びant 1異性体形は試薬を適当に選択する
ことによって得られる。
[実施例] 次の例は本発明の範囲の理解を明白にするためのもので
あるが、限定のためのものではない。
この群の化合物に通常のように1本発明の生成物は明確
な融点を有せず1分解点のみを有するが。
特徴付けることはできない。
従って、生成物は核磁気共鳴スペクトルで特徴付けられ
る6特に断わらない限りスペクトルは内部標準としてヘ
キサメチルジシロキサンで250MHzにおいて行なっ
た。
スペクトルはジューチリウム化[dcutorated
lジメチルスルフオキシド中で行なった。  1. 5
TLI!中1On。
化学シフトは±0.01ppa+まで測定し、カップリ
ング定数は±0.5Hzまで測定した。
次の略称を用いる。
Sニー重項 D;二重項 DofD:二重項の二重項 s、b、  三鷹がった一重項 M:多重項 Q:四重項 T:三重項 AB : ABシステム J:カップリング定数 元素ミクロ分析も、それぞれの場合に行なったか、指摘
した式に一致した。
例1 7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−
メトキシイミノアセトアミド]  −3−[[4−(2
−アミノエチルスルフォンアミド)−3−ヒドロキシベ
ンゾイル]−オキシメチル]−3−セフェム−4−カル
ボン酸 ピストルフルオロアセテート、 syn異性体
(S R44337) (1) R1=R2−R3−H; A−OH(3)  
;A■−NHSO2CH2CH2NH2 A)  3−ヒドロキシ−4−[(2−1grt−ブト
キシカルボニルアミノエチル)スルフォンアミド]安息
香酸 1−3−ヒドロキシ−4−[(2−ベンジロキシカルボ
ニルアミノエチル)スルフォンアミド]安息香酸 84gの4−アミノ−3−ヒドロキシ安息香酸を1.8
ノの塩化メチレンに懸濁し1次いで228.5111!
’のトリエチルアミンを窒素雰囲気下で加え、混合物を
10℃に冷却する。
228.59のトリメチルクロロシランを1時間撹拌し
ながら加える。
温度を20℃に戻らせ、混合物をこの温度で2時間30
分撹拌する。
次いで168gの2−ベンゾイロキシカルボニルアミノ
エタン スルフオクロライドを光から保護して加え1反
応混合物を室温で6時間撹拌する。
これをpH2の硫酸塩緩衝液21!及び酢酸エチル21
!に注ぐ、有機相を分離し、水で洗浄し、硫酸マグネシ
ウム上で乾燥する。溶媒を蒸発乾燥し。
残留物を5001111’のエーテルにとる。固体を漏
別し、イソプロピル エーテルで濯いだ後乾燥する。
重量64.5g。
同一生成物の第2の部分[54gコを母液の濃縮によっ
て乾燥し、少量のエーテルを加えたイソプロピルエーテ
ルで残留物を処理して単離する。
2つの部分を一緒にし470ばのエタノールに溶解する
。1.5)の水を徐々に加え、溶液を室温で30分間撹
拌した後氷で冷却する。
生成物を漏別し、水で濯ぎ、5酸化燐上で真空乾燥する
9重量:102.2g、融点=194℃。
2−3−ヒドロキシ−4−(2−アミノエチルスルフォ
ンアミド)安息香酸トリフルオロメチルスルフォネート 102gのA)で得られた生成物を1ノのトリフルオロ
酢酸、110m1!のトリフルオロメタンスルフォン酸
及び150m+7のチオアニソールの10℃に冷却した
混合物に撹拌しながら加える。
温度は20℃に上昇し、混合物はこの温度で1時間撹拌
する。
生成物は結晶し、混合物は4.I7の塩化メチレンで希
釈する。撹拌を15分間継続した後、固体を漏別し、塩
化メチレンで濯いだ後、真空乾燥する。
重ffi:103.8g、融点:240℃[分解1゜3
−3−ヒドロキシ−4−[(2−tert−ブトキシカ
ルボニルアミノエチル)スルフォンアミド]安息香酸 100gの上で得られたトリフルオロメタンスルフォネ
ートを1ノの水に溶解し、  pHを水酸化ナトリウム
濃溶液の添加で7,5に調節し。
50ONのジオキサンを次いで加える。
300I111のジオキサン中659のジtertブチ
ルジカーボネートの溶液を15分間で添加し、  pH
を水酸化ナトリウムの添加によって7.5に維持する。
30分後pHは安定にとどまる1反応混合物を2.5ノ
のエーテルで洗浄した後、水′他相をpH2の硫酸塩緩
衝液2.5ノに注ぐ。
重炭酸カリウム溶液の添加によってpHを2に調整した
後、抽出を2ノの酢酸エチルで行なう。
第2の抽出を1ノの酢酸エチルで行ない、有機抽出物を
一緒にする。−緒にした抽出物を1ノの塩化ナトリウム
飽和溶液で洗浄し、有機溶液を硫酸マグネシウム上で乾
燥する。蒸発乾燥し、固体残留物を1ノのアセトニトリ
ルにとる。溶液を15時間室温で撹拌した後、氷で冷却
し、固体を漏別し、イソプロピルエーテルで洗浄し乾燥
する1重量ニア8g、融点=228〜230℃[分解コ
ロB)  tert−ブチル 7− [2−(2−)リ
アミノチアゾール−4−イル)−2−メトキシイミノア
セタミド]3− [[4−(2−tart−ブトキシカ
ルボニルアミノエチルスルフォンアミド)−3−ヒドロ
キシベンゾイル]オキシメチル]−3−セフェムカルボ
キシレート、syn異性体 37.59のA)で製造した保護酸及び15.miのイ
ソプロピルエチルアミンを200111j7のジメチル
フォルムアミドに溶解する。混合物を0及び+5℃の間
の温度に冷却し、60gのtgrt−ブチル7−[2−
(2−トリチルアミノチア・ゾール−4−イル)−2−
メトキシイミノアセタミド]−3−イオドメチル−3−
セフェム−4−カルボキシレート、 syn異性体を加
える。
反応混合物を0〜5℃で5時間撹拌した後2ノの氷水に
注ぐ、沈澱を漏別し水で濯ぐ、固体を塩化メチレンに溶
解し、溶液を硫酸マグネシウム上で乾燥し溶媒を蒸発乾
燥する。残留物をシリカH(IKg)のカラムでクロマ
トグラフする。不純物を塩化メチレンとメタノールの9
9.110.9容量/容量混合物で溶出し9次いで所望
の生成物を98/2容量/容量の同一溶媒混合物で得る
30.7gが溶媒の蒸発及びイソプロピルエーテルで洗
浄後に得られる6 C)  SR4437 35gの上記B)で製造した保護生成物を、水浴で冷却
した330m1のトリフルオロ酢酸と33gのアニソー
ルとの混合物に撹拌しながら添加する。
温度を上昇させて20℃とし混合物をこの温度で1時間
撹拌する。
これを1. 5.fl’の0℃に冷却したイソプロピル
エーテルに注ぐ。
沈澱を層別し、エーテルで洗浄した後5酸化燐上で真空
乾燥する。
26.8gの所望の生成物が得られる。
これを100I111のメタノールに溶解し溶液を1.
25.ffのエーテルに注ぐ、沈澱を層別し、エーテル
で濯ぎ、真空乾燥し、最終的に22gに表記の生成物を
得る。
NMRスペクトル IH10,7pprn  (S、  b、、N旦−5O
2)−IH9,6ppm  (D、  J−8Hz、 
 N旦−Co−)−1H9,5ppm  (S、b、、
0H)−9H7及び8.2ppmの間(M、3H芳香族
及び2NH3)−1H6,7ppm  (S、旦 チア
ゾール) −1H5,75ppm  (D of’ D
Jz−8Hz、Jz−4Hz、H7)、  IH5、1
’sppm  (D、J−4Hz、H6)−2H4,9
及び5− 2ppIIl (AB、JA a =14H
z。
C旦2 0CO)−3H3,8ppm  (S。
NOC旦3)  6H3,1及び3.75ppmの間(
M、C旦2NH2,C旦2 S o21CH2S)。
例2 7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−
メトキシイミノアセタミド] −3−[[4−(2−ア
ミノエチルスルフォンアミド)−3−ヒドロキシベンゾ
イル]オキシメチル]−3−セフェム−4−カルボン酸
ビスハイドロクロライド、 syn異性体10.53g
の例IBで得た保護生成物を6ONの98%義酸に溶解
し、溶液を2時間20℃で撹拌する。501nI!のI
ON塩酸水溶液を加え混合物をさらに2時間20℃で撹
拌する。
反応混合物を500gのエチル エーテルに注ぐ、ビス
−ハイドロクロライドを層別しエーテルで洗浄し真空乾
燥する。
7gの所望の生成物が得られる。融点=145℃[分解
]。
NMRスペクトル IH9,8pptn  (D、J=8Hz、NHCO)
−6H8,2ppa+  (M、”2N旦3+)−3H
7,2及び7.6ppmの間(M、H芳香族)−IH6
,9ppm  (S、Hチアゾール)−IH5,8pp
m  (D  or D、  Jt  −8Hz。
Jz  −4Hz、  H7)     IH5,2p
pm(D、J=4Hz、H6)   2H4,9及び5
.2ppmの間(AB、JA a =14Hz。
CH20CO)  −3H3,9ppII (S、  
−N−oc旦3 ) −2H3,7ppm  (M、 
C旦2−5)−4H3,2及び3.5ppmの間(M。
−CH2CH2NH2)。
例3 7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−
メトキシイミノアセタミド] −3−[[4−(2−ア
ミノエチルスルフォンアミド)−3−ヒドロキシベンゾ
イル]オキシメチル]−3−セフェム−4−カルボン酸
の内部塩、 syn異性体 1gの例ICで得たとスートリフルオロアセテートを1
0ばあ無水ジメチルフォルムアミドに溶解し、溶液を5
℃に冷却し1次いで2Iliメタノール中0.249の
ジェタノールアミンの溶液を加える。この混合物を15
分間5℃で撹拌した後。
5℃に冷却した100IIII!のエーテルに注ぐ、固
体を層別し5酸化燐の存在下で真空乾燥する。
0.8009の内部塩が得られる。
NMRスペクトル LH9,5ppm  (D、  J−8Hz、  NH
CO)−1H7,5及び11ppIIIの間(S、b、
0H)−3H7及び7.5ppmの間(M、 H芳香族
)−1H6,7ppm  (S、Hチアゾール) −1
H5,6ppm  (D of’ D、  Jt −8
Hz、Jz =4Hz、H7)    IH5,O5p
pm  (D、  J=4Hz、  H6)−’  2
H4,85及び5.15ppa+の間(AB、JAS−
14Hz、  C旦20CO)−3H3,80ppm 
 (S、NOC旦3)−2H3,6ppm(M、  C
旦2 S)−2H3,12ppm  (M。
−C旦2SO3NH)−2H2,95ppm(M、CH
2NH2)。
例4 7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−
(2−カルボキシプロピ−2−イルオキシイミノ)アセ
タミド] −3−[[4−(2−アミノエチルスルフォ
ンアミド)−3−ヒドロキシベンゾイル]オキシメチル
]−3−セフェム−4−カルボン酸ビス−トリフルオロ
アセテート、 syn異性体(SR(1)  R1−R
2−CH3、R3−C0OH。
A−OH(3); A−−NH8O2CH2CH2NH2(4)この生成物
は、 tert−ブチル 7−[2−(2−トリチルア
ミノチアゾール−4−イル)−2−メトキシイミノアセ
タミドコー3−イオドメチル−3−セフェム−4−カル
ボキシレート、 syn異性体を工程Bで均等量のte
rt−ブチル 7− [2−(2−トリチルアミノチア
ゾール−4−イル) −2−(2−tert−ブトキシ
カルボニルプロピ−2−イルオキシイミノ)アセタミド
]−3−イオドメチル−3−セフェム−4−カルボキシ
レートで置換えて1例1の生成物と同様に製造する、 生成物5R44338は例ICに示されたように脱保護
して得られる。
NMRスペクトル IH9,4ppm  (D、  J−8Hz、  CO
N旦)−IIH7及び11 ppIllの間(M、3旦
芳香族、N旦SO2,0旦、2NH3)−1H6、7p
pm  (S、基チアゾール)−1H5,8ppm  
(D  of’ D、Jl−8Hz、J2−4H2,H
7)    IH5,2ppm  (D、J−4Hz、
H6)   2H4,9及び5.25pp111の間(
ABI  JA [1=14Hz。
CH20CO)−6H3,1及び3.75ppIIlの
間(M、C旦2NH2,CH25o2゜C旦2S)−6
H1,4及び1.42ppmの間(2S。
0− C−) 。
本発明の生成物の薬学的特性を検討した。
静菌作用は希釈法によってイン ビトロで測定した。こ
の検討はグラム陰性菌及びグラム陰性菌の両者について
行なった。
結果は最小抑制濃度(M I C−μg/xi!’)で
表わす。
例として5R44337[例1]で得られた結果を表1
に示す。
表  1 株                S R44337
黄色ブドウ球菌スミス       0,25[5ta
ph、 aureus Sm1th ]大腸菌    
          0.06CI/Co1 El : :Tn3 大腸菌 SQL  RL90     0.5肺炎かん
菌R304 [klobslella pneumoniao ]プ
ロテウス ブルガリス      IGN  76/C
−1 [Proteus vu1garis]プロビデンシア
115      1 [Providcnclaコ 緑1儂菌 N CT C82032 [Pseudomonas aeruglnosa]こ
れらの結果は1本発明の生成物が活性の広いスペクトル
を有し、極めて良好な固有特性を有することを示す。
さらに1本発明の生成物の薬物動態学的挙動を静脈注射
による2011G/KHの投与量の投与後にヒヒについ
て検討を行なった。
生成物のブラスマ濃度の検討は投与後の種々の時間にと
った血液試料を用いた微生物学検定によって測定した。
これは時間の関数としてプラズマ濃度を示す曲線を引き
、検討化合物の各種の薬物動態学的因子を測定すること
を可能にする。
消失半減期[t  β]は式In  2/β[β1/2 は消失スロープを表わすコによって測定する。
曲線下領域(AUC)は台形法で測定する。
さらに蛋白質結合は、一方はヒヒ プラズマ中で行われ
、他方は燐酸塩緩衝液[pH7゜0.03M]中で行わ
れる2の標準シリーズを比較して得られる。
例1の生成物で得られるプラズマ濃度は表2に示す、こ
れらはμg/m/で表わす。
比較のため、この表には次の式の類似生成物で得られた
結果も含まれている。
化合物 A 表  2 μg/1111 時  間         S R44337[時] 
     [例1]    化合物AO,08265,
5232,8 0,16250,9212,6 0,25237,5189,7 0,3B    206.1   170.40.5 
   194.3   124.20.75   19
0.0   120.71      182.5  
 119.81.5    163.8   112.
42      152.7    98.4B   
    151.7    72.94      1
46.7    68.75      141.1 
   62.16      120.1    54
.424       B9.O7,7 4814,40,6 次の表3は例1の生成物及び比較生成物について、同様
の実験で測定した薬物動態学内子を示す。
表  3 生成物 S R44337 因 子       [例1] 化合物A最大プラズマ
濃度     2B5.5  232.8[μ g/厭
コ プラズマ濃度[μg/舷] 24時間  39.0    7.7 48時間  14.4    0.6 t1/2β[時]       13.9   6.3
AUCO−oo[μ9/mX時]  3310   1
210尿への排出[%投与量] 6時間  1418 表2及び3に示す結果は本発明の生成物のプラズマ濃度
が極めて高く長期に持続することを示している。
参照生成物Aと比較すると1例1の化合物で得られる2
4時間及び48時間のプラズマ濃度はそれぞれ5及び2
4倍高い、同様に曲線下領域に関しては増加は参照生成
物に対して2.7倍である。
従って1本発明の化合物は極めて価値ある薬物動態学内
子を有し、使用する活性成分の量及び所定の治療効果の
ために必要な毎日の投与数を減らすことが可能である。
さらに1本発明の生成物の毒性は治療に用いることを可
能にする程度に充分低い。
従って1本発明の生成物はヒトに対する抗生物質及び動
物医薬として用いることができる。これらは広いスペク
トルを有し、感受性徴韮物によって起される全ての細菌
感染に対して用いることができる。
本生成物は一般の経路[非経口、経口、直腸]で又は局
所的に投与できる。
薬学組成物は、その酸基又はアミン基の少なくとも1の
塩化によって得られる可溶形の化合物(1)から調製さ
れる。
活性成分として本発明の抗生物質を薬学的に受容性のビ
ヒクルと共に含む薬学組成物は固体又は液体であること
ができ2例えば注射調剤1錠剤。
ゼラチン カプセル、果粒、軟膏、クリーム、ゲル又は
座薬の形態をとることもできる。投与量は。
広い範囲内で特に処置する感染のタイプ及び程度及び投
与の態様によって変り得る。
成人投与量は、注射によって投与して日に0.2509
及び4gの間にあることが極めて多い。
薬学調剤の例として、各アンプルに次の成分を含む注射
溶液を調製する−ことができる。
5R4433,71g 注射調剤用水     5IILI! 炭酸ナトリウム  pH−5,3にするに必要な量 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 次の一般式を有するセファロスポリン誘導体、及び
    内部塩を含む薬学的に受容性塩、及び該誘導体の薬学的
    に受容性エステル。 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 式中、 −R_1、R_2及びR_3は、それぞれ水素原子を示
    すか、又はR_1及びR_2はそれぞれ水素原子又はメ
    チル基を示し及びR_3はカルボキシル基を示すか、又
    はR_1及びR_2は結合する炭素原子と一緒にシクロ
    ブチル環を形成し及びR_3はカルボキシル基を示す、
    及び、 −2の基Aは異なるものであり、一方は水酸基を示し他
    は基−NH−SO_2−Alk−NH_2[AlkはC
    _2−C_4低級アルキレン基を示す]を示す。 2 オキシムがsyn形である一般式( I )の請求項
    1に記載のセファロスポリン誘導体。 3 7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−
    2−メトキシイミノアセタミド]−3−[[4−(2−
    アミノエチルフルフォンアミド)−3−ヒドロキシベン
    ゾイル]オキシメチル]−3−セフェム−4−カルボン
    酸からなる請求項2に記載のセファロスポリン誘導体又
    はその薬学的に受容性塩又はエステル。 4 極性非プロトン性溶媒溶液中で、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、R_1及びR_2は請求項1で定義した通りで
    あり、R′_3は水素又は容易に易変性エステル基であ
    り、Trはアミン基の保護基を示す]で表わされる化合
    物を、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (又はその反応性誘導体の一) [式中、2の基A′は異なるものであり、一方は水酸基
    を示し他は基−NH−SO_2−Alk−NH_2[A
    lkは請求項1で定義した通りである]を示し、該アミ
    ノ基は易変性基で保護されている]で表わされる酸と反
    応させ、 強酸媒体中で加水分解によってアミン基及びカルボキシ
    ル基に存在する保護基を除去し、 生成化合物( I )を分子内に存在するアミノ基の塩の
    形で単離し、 所望により、該塩を内部塩又はアミノ基の他の塩に変換
    し、 所望により、アミン塩から対応化合物 I を塩基の形で
    単離し、及び所望により後者を既知の方法で分子内に存
    在するカルボキシル基の一方又は両者から誘導される塩
    又はエステルに変換する、請求項1に記載の誘導体の製
    造方法。 6 式( I )の化合物を合成するための中間体として
    、次の式で表わされる新規物質。 ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、2の基B′は異なるものであり、一方はOH基を
    示し他は基X−NH−Alk−SO_2−NH−[Xは
    水素又はアミン基の保護基を示し、AlkはC_2−C
    _4低級アルキレン基を示す]を示す。
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