JPH01129108A - 断面形状検知装置 - Google Patents
断面形状検知装置Info
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- JPH01129108A JPH01129108A JP28898287A JP28898287A JPH01129108A JP H01129108 A JPH01129108 A JP H01129108A JP 28898287 A JP28898287 A JP 28898287A JP 28898287 A JP28898287 A JP 28898287A JP H01129108 A JPH01129108 A JP H01129108A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概 要〕
プリント配線板導体パターン等における断面形状を検知
するための装置に係り、特に導体パターン上にくぼみ状
の欠陥を有する場合にこれを検知する断面形状検知装置
に関し、 光切断法と短冊型ラインセンサとを使用した断面検知装
置において、基材部分が光拡散性を有するプリント配線
板の場合でも、精度よく高速な断面形状検知を行うこと
ができるようにすることを目的とし、 線状光束を照射して対象物上に光切断線を形成しこれを
斜め方向から撮像して該光切断線像の高さから断面形状
を検知する断面形状検知装置において、前記光切断線像
における所定高さ以上の部分を検知する短冊型の第1の
ラインセンサと、前記光切断線像における基底レベル部
分を検出する第2のラインセンサと、前記第1のライン
センサの出力を第2のラインセンサの出力によってマス
クした出力を発生する信号処理回路とを具えて構成され
る。
するための装置に係り、特に導体パターン上にくぼみ状
の欠陥を有する場合にこれを検知する断面形状検知装置
に関し、 光切断法と短冊型ラインセンサとを使用した断面検知装
置において、基材部分が光拡散性を有するプリント配線
板の場合でも、精度よく高速な断面形状検知を行うこと
ができるようにすることを目的とし、 線状光束を照射して対象物上に光切断線を形成しこれを
斜め方向から撮像して該光切断線像の高さから断面形状
を検知する断面形状検知装置において、前記光切断線像
における所定高さ以上の部分を検知する短冊型の第1の
ラインセンサと、前記光切断線像における基底レベル部
分を検出する第2のラインセンサと、前記第1のライン
センサの出力を第2のラインセンサの出力によってマス
クした出力を発生する信号処理回路とを具えて構成され
る。
本発明はプリント配線板導体パターン等における断面形
状を検知するための方法に係り、特に導体パターン上に
くぼみ状の欠陥を有する場合等にこれを検知する断面形
状検知装置に関するものである。
状を検知するための方法に係り、特に導体パターン上に
くぼみ状の欠陥を有する場合等にこれを検知する断面形
状検知装置に関するものである。
プリント配線板は製作時、検査を行って基材上に作られ
た導体パターンが正しく形成されているか否かをチエツ
クされる。この場合、導体パターンに第6図に示すよう
なくぼみ状の欠陥を有する場合には、二次元パターンの
検知のみではこれを検出することができない、第6図に
おいて(a)はデイツシュダウンがある場合を示し、偽
)はネックダウンがある場合を示している。また(C)
は基材部分まで達しない中央部のくぼみを有する場合を
示したものである。
た導体パターンが正しく形成されているか否かをチエツ
クされる。この場合、導体パターンに第6図に示すよう
なくぼみ状の欠陥を有する場合には、二次元パターンの
検知のみではこれを検出することができない、第6図に
おいて(a)はデイツシュダウンがある場合を示し、偽
)はネックダウンがある場合を示している。また(C)
は基材部分まで達しない中央部のくぼみを有する場合を
示したものである。
このようなプリント配線板の検査は、通常光切断法を用
いて導体部の断面形状を検知することによって行われる
が、この際基材部からの拡散光に妨げられることなく、
導体パターンの断面形状を精度よく、かつ高速に検知で
きることが要望される。
いて導体部の断面形状を検知することによって行われる
が、この際基材部からの拡散光に妨げられることなく、
導体パターンの断面形状を精度よく、かつ高速に検知で
きることが要望される。
第7図は従来のプリント配線板を対象とした断面形状検
知方法を示したものであって、光切断法と二次元光セン
サとを用いた例を示している。同図において垂直方向か
ら照射されたレーザ光は、シリンドリカルレンズ11を
経て線状に集光されて、プリント配線板12上に照射さ
れる。これによって導体パターン13の断面形状に応じ
た光切断線14が得られるので、レーザ光の照射方向と
異なる斜め方向からレンズ15を経て結像させ、結像面
に配置されたテレビカメラ等の二次元センサ16によっ
て検出を行って断面形状を検知する。
知方法を示したものであって、光切断法と二次元光セン
サとを用いた例を示している。同図において垂直方向か
ら照射されたレーザ光は、シリンドリカルレンズ11を
経て線状に集光されて、プリント配線板12上に照射さ
れる。これによって導体パターン13の断面形状に応じ
た光切断線14が得られるので、レーザ光の照射方向と
異なる斜め方向からレンズ15を経て結像させ、結像面
に配置されたテレビカメラ等の二次元センサ16によっ
て検出を行って断面形状を検知する。
第8図は光切断法とテレビカメラとを使用した場合にお
ける光切断画像の処理過程を説明するものである。
ける光切断画像の処理過程を説明するものである。
第8図において(a)はプリント配線板12上の導体パ
ターンに基づく二次元センサ16上の原画像であって、
レーザ光の照射によって光切断線を生じることが示され
ている。原画像からの光切断線の抽出は、一般的に原画
像のy方向の輝度ピーク点を、照射されたレーザ光の中
心と仮定することによって行われる。第8図において(
b)はこのようにして抽出さ、れた光切断線の像を示し
たものである。この光切断線像に対し、基材部に対応す
る高さからある一定の高さhにスライスレベルを設定し
て2値化を行うことによって、(C)に示すような2値
化された出力信号を得る。このような操作をプリント配
線板の全面に対して行って、2値化信号に応じて画像表
示することによって(d)に示すよう断面形状検知パタ
ーンが得られる。
ターンに基づく二次元センサ16上の原画像であって、
レーザ光の照射によって光切断線を生じることが示され
ている。原画像からの光切断線の抽出は、一般的に原画
像のy方向の輝度ピーク点を、照射されたレーザ光の中
心と仮定することによって行われる。第8図において(
b)はこのようにして抽出さ、れた光切断線の像を示し
たものである。この光切断線像に対し、基材部に対応す
る高さからある一定の高さhにスライスレベルを設定し
て2値化を行うことによって、(C)に示すような2値
化された出力信号を得る。このような操作をプリント配
線板の全面に対して行って、2値化信号に応じて画像表
示することによって(d)に示すよう断面形状検知パタ
ーンが得られる。
プリント配線板の導体パターン上にデイツシュダウン等
によって、光切断線がスライスレベルhより低くなる部
分が存在すれば、第8図(d)において円で囲んで示す
ようにその部分はパターンとし検知されないので、これ
によって導体パターンにおけるくぼみ状の欠陥を検出す
ることが可能となる。
によって、光切断線がスライスレベルhより低くなる部
分が存在すれば、第8図(d)において円で囲んで示す
ようにその部分はパターンとし検知されないので、これ
によって導体パターンにおけるくぼみ状の欠陥を検出す
ることが可能となる。
第7図および第8図に示された断面形状検知方法は、断
面形状の検知精度が比較的高いという利点を有している
が、反面、テレビカメラ等の二次元センサを用いるため
、検査速度が極めて遅いという欠点がある。
面形状の検知精度が比較的高いという利点を有している
が、反面、テレビカメラ等の二次元センサを用いるため
、検査速度が極めて遅いという欠点がある。
これに対して二次元光センサに代えて、高速動作が可能
な一次元光センサ(ラインセンサ)を用いることが考え
られる。第9図は光切断法と短冊型ラインセンサとを使
用した断面形状検知方法を示したものである。同図にお
いて垂直方向から照射されたレーザ光は、シリンドリカ
ルレンズ11を経て線状に集光されて、プリン、ト配線
板12上に照射される。これによって導体パターン13
の断面形状に応じた光切断線14が得られるので、レー
ザ光の照射方向と異なる斜め方向からレンズ15を経て
結像させ、結像面17に配置された短冊型ラインセンサ
18によって検出を行って断面形状を検知する。
な一次元光センサ(ラインセンサ)を用いることが考え
られる。第9図は光切断法と短冊型ラインセンサとを使
用した断面形状検知方法を示したものである。同図にお
いて垂直方向から照射されたレーザ光は、シリンドリカ
ルレンズ11を経て線状に集光されて、プリン、ト配線
板12上に照射される。これによって導体パターン13
の断面形状に応じた光切断線14が得られるので、レー
ザ光の照射方向と異なる斜め方向からレンズ15を経て
結像させ、結像面17に配置された短冊型ラインセンサ
18によって検出を行って断面形状を検知する。
第9図の場合ラインセンサ18は、光切断線が基材部か
らある一定の高さh以上に存在する場合のみこれを検知
するように構成されている。
らある一定の高さh以上に存在する場合のみこれを検知
するように構成されている。
第10図は第9図の構成における、光切断線像と短冊型
ラインセンサとの位置関係を説明するものであって、幅
P、高さW(P<W)からなる短冊型の画素を多数配列
してなる短冊型ラインセンサ18に対し、光切断線の像
19が基材部における位置とラインセンサ18の下端と
の高さがhになるように配置することが示されている。
ラインセンサとの位置関係を説明するものであって、幅
P、高さW(P<W)からなる短冊型の画素を多数配列
してなる短冊型ラインセンサ18に対し、光切断線の像
19が基材部における位置とラインセンサ18の下端と
の高さがhになるように配置することが示されている。
これによって導体部20に対応する光切断線像が短冊型
ラインセンサ18上に生じ、その出力によって検知され
る。
ラインセンサ18上に生じ、その出力によって検知され
る。
この場合、短冊型ラインセンサ18の位置は、基材部の
像に対する高さhが常に一定になるように保たれる必要
があるが、これはプリント配線板12の基材の高さを基
材レベル検知用近接センサ18A等の他の手段によって
求め、これをラインセンサ18の位置を調節する図示さ
れないラインセンサ移動機構にフィードバラ、りして制
御することによって、常に所定の位置関係が保たれるよ
うに構成されている。
像に対する高さhが常に一定になるように保たれる必要
があるが、これはプリント配線板12の基材の高さを基
材レベル検知用近接センサ18A等の他の手段によって
求め、これをラインセンサ18の位置を調節する図示さ
れないラインセンサ移動機構にフィードバラ、りして制
御することによって、常に所定の位置関係が保たれるよ
うに構成されている。
第11図は光切断法と短冊型ラインセンサとを使用した
場合における、光切断画像の処理過程を説明したもので
ある。
場合における、光切断画像の処理過程を説明したもので
ある。
第11図において(a)はレーザ光の照射によって生じ
た、プリント配線板12上の導体パターンに基づく、結
像面17上の原画像を示したものである。短冊型ライン
センサ18は、前述のように基材部からの高さh以上に
対応する光切断線像によって偽)に示す出力信号を発生
する。この出力信号に対し、さらに基材部に対応する出
力レベルに対しであるスライスレベルthを設けて2値
化を行うことによって、(C)に示す2値化信号を得る
。このような操作をプリント配線板の全面に対して行っ
て2値化信号に応じて画像表示することによって、(d
lに示すよう断面形状検知パターンが得られる。プリン
ト配線板の導体パターン上にデイツシュダウン等によっ
て、光切断線がスライスレベルhより低くなる部分が存
在すれば、第11図(d)において円で囲んで示すよう
にその部分はパターンとし検知されないので、これによ
って導体パターンにおけるくぼみ状の欠陥を検出するこ
とが可能となる。
た、プリント配線板12上の導体パターンに基づく、結
像面17上の原画像を示したものである。短冊型ライン
センサ18は、前述のように基材部からの高さh以上に
対応する光切断線像によって偽)に示す出力信号を発生
する。この出力信号に対し、さらに基材部に対応する出
力レベルに対しであるスライスレベルthを設けて2値
化を行うことによって、(C)に示す2値化信号を得る
。このような操作をプリント配線板の全面に対して行っ
て2値化信号に応じて画像表示することによって、(d
lに示すよう断面形状検知パターンが得られる。プリン
ト配線板の導体パターン上にデイツシュダウン等によっ
て、光切断線がスライスレベルhより低くなる部分が存
在すれば、第11図(d)において円で囲んで示すよう
にその部分はパターンとし検知されないので、これによ
って導体パターンにおけるくぼみ状の欠陥を検出するこ
とが可能となる。
第9図ないし第11図に示された断面形状検知方法では
、断面形状の高速検知が可能になるという利点を有して
いるが、反面、基材部の光拡散によって導体パターンの
検出が困難になるという問題がある。
、断面形状の高速検知が可能になるという利点を有して
いるが、反面、基材部の光拡散によって導体パターンの
検出が困難になるという問題がある。
第12図は、光切断線が基材部にかかった場合の結像光
の拡散を説明したものである。同図において、導体部2
0に対応する光切断線@!19Aは拡散を生じないこと
が示されている。一方、基材は樹脂板等からなり通常半
透明であって、光拡散性を有している。そのため基材部
に対応する光切断線像19Bは広い範囲に拡散され、そ
の一部はラインセンサ18によって検出されて雑音出力
を生じる。このためプリント配線板12上における導体
パターンの検知が困難になる。
の拡散を説明したものである。同図において、導体部2
0に対応する光切断線@!19Aは拡散を生じないこと
が示されている。一方、基材は樹脂板等からなり通常半
透明であって、光拡散性を有している。そのため基材部
に対応する光切断線像19Bは広い範囲に拡散され、そ
の一部はラインセンサ18によって検出されて雑音出力
を生じる。このためプリント配線板12上における導体
パターンの検知が困難になる。
本発明はこのような従来技術の問題点を解決しようとす
るものであって、光切断法と短冊型ラインセンサとを使
用した断面検知装置において、基材部分が光拡散性を有
するプリント配線板等の場合でも、精度よく高速な断面
形状検知を行うことができるようにすることを目的とし
ている。
るものであって、光切断法と短冊型ラインセンサとを使
用した断面検知装置において、基材部分が光拡散性を有
するプリント配線板等の場合でも、精度よく高速な断面
形状検知を行うことができるようにすることを目的とし
ている。
第1図は本発明の原理的構成を示すものであって、線状
光束を照射して対象物上に光切断線を形成しこれを斜め
方向から撮像して該光切断線像の高さから断面形状を検
知する断面形状検知装置において、第1および第2のラ
インセンサ(1,2)と、信号処理回路(3)とを設け
たものである。
光束を照射して対象物上に光切断線を形成しこれを斜め
方向から撮像して該光切断線像の高さから断面形状を検
知する断面形状検知装置において、第1および第2のラ
インセンサ(1,2)と、信号処理回路(3)とを設け
たものである。
第1のラインセンサ1は、は短冊状をなし、光切断線像
における所定高さ以上の部分を検知するものである。
における所定高さ以上の部分を検知するものである。
第2のラインセンサ2は、光切断線像における基底レベ
ル部分を検出するものである。
ル部分を検出するものである。
信号処理回路3は、第1のラインセンサの出力を第2の
ラインセンサの出力によってマスクした出力を発生する
ものである。
ラインセンサの出力によってマスクした出力を発生する
ものである。
第2図は本発明の詳細な説明する図である。レーザ光の
照射によって生じた、プリント配線板12からの反射光
に基づく、結像面17上の二次元パターンのうち、導体
部20に対応して生じた拡散しない光切断線像19Aに
対しては、前述のように基材部に対応する高さからhの
位置に短冊型ラインセンサ18を設けてこれを検出する
。一方、基材部に対応して拡散した光切断線像19Bを
生じるが、これに対して別のラインセンサ21を短冊型
ラインセンサ18の下部における基材部に相当する位置
に設けて、これを検出する。すなわちラインセンサ21
は、結像面17上の二次元パターンのうちの基材部の光
拡散による光出力のみを奢検出し、導体部20に対応す
る拡散しない光出力を検出しない。
照射によって生じた、プリント配線板12からの反射光
に基づく、結像面17上の二次元パターンのうち、導体
部20に対応して生じた拡散しない光切断線像19Aに
対しては、前述のように基材部に対応する高さからhの
位置に短冊型ラインセンサ18を設けてこれを検出する
。一方、基材部に対応して拡散した光切断線像19Bを
生じるが、これに対して別のラインセンサ21を短冊型
ラインセンサ18の下部における基材部に相当する位置
に設けて、これを検出する。すなわちラインセンサ21
は、結像面17上の二次元パターンのうちの基材部の光
拡散による光出力のみを奢検出し、導体部20に対応す
る拡散しない光出力を検出しない。
従ってラインセンサ21の出力を利用して、短冊型ライ
ンセンサ18の出力のうち導体パターン領域に相当する
部分のみを有効にすることによって、基材部の光拡散に
基づく雑音に妨げられることなく、導体パターンの検出
を行うことができる。
ンセンサ18の出力のうち導体パターン領域に相当する
部分のみを有効にすることによって、基材部の光拡散に
基づく雑音に妨げられることなく、導体パターンの検出
を行うことができる。
第3図は本発明の一実施例の構成を示したものである。
同図において30はヘリウムネオン(He−Ne)L/
−ザであって、波長632.8nmのレーザビームを発
生する。レーザ30の発生光はミラー31で反射し、ビ
ームエクスパンダ32を経て拡大された平行ビームを生
じる。このビームはシリンドリカルレンズ33を経て線
状に゛集光されて、透明な載置台34上に置かれたプリ
ント配線板35上に照射され、これによって導体パター
ンの断面形状に応じた光切断線が形成される。光切断線
からの反射光はフィルタ36を透過し、レンズ37によ
って結像される。この際フィルタ36は、レーザ波長の
光のみを通過させる。レンズ37からの光はビームスプ
リンタ38を経て分割され、一方は結像面に配置された
短冊型ラインセンサ39に入射される。短冊型ラインセ
ン゛す39は、第2図において説明したラインセンサ1
8に対応し、基材部に対応する像から高さhの位置にあ
って、導体パターンからの拡散しない光切断線像を検出
し、その信号を処理回路41に入力する。
−ザであって、波長632.8nmのレーザビームを発
生する。レーザ30の発生光はミラー31で反射し、ビ
ームエクスパンダ32を経て拡大された平行ビームを生
じる。このビームはシリンドリカルレンズ33を経て線
状に゛集光されて、透明な載置台34上に置かれたプリ
ント配線板35上に照射され、これによって導体パター
ンの断面形状に応じた光切断線が形成される。光切断線
からの反射光はフィルタ36を透過し、レンズ37によ
って結像される。この際フィルタ36は、レーザ波長の
光のみを通過させる。レンズ37からの光はビームスプ
リンタ38を経て分割され、一方は結像面に配置された
短冊型ラインセンサ39に入射される。短冊型ラインセ
ン゛す39は、第2図において説明したラインセンサ1
8に対応し、基材部に対応する像から高さhの位置にあ
って、導体パターンからの拡散しない光切断線像を検出
し、その信号を処理回路41に入力する。
ビームスプリンタ38を経て分割された他方の光は、テ
レビカメラ42に導かれる。テレビカメラ42は二次元
光センサを形成し、光切断線像の全体を検知する。テレ
ビカメラ42の信号はマイクロプロセッサ43に入力さ
れ、マイクロプロセッサ43はこれから基材部の高さを
算出する。算出された基材部の高さの情報は、モータド
ライバ44にフィードバックされる。モータドライバ4
4は移動機構40を駆動し、これによって移動機構40
はその上に搭載された短冊型ラインセンサ39の位置を
変化させ、従って短冊型ラインセンサ39が常に基材部
に対応する像から一定の高さhに保たれるように制御が
行われる。
レビカメラ42に導かれる。テレビカメラ42は二次元
光センサを形成し、光切断線像の全体を検知する。テレ
ビカメラ42の信号はマイクロプロセッサ43に入力さ
れ、マイクロプロセッサ43はこれから基材部の高さを
算出する。算出された基材部の高さの情報は、モータド
ライバ44にフィードバックされる。モータドライバ4
4は移動機構40を駆動し、これによって移動機構40
はその上に搭載された短冊型ラインセンサ39の位置を
変化させ、従って短冊型ラインセンサ39が常に基材部
に対応する像から一定の高さhに保たれるように制御が
行われる。
一方、白色光源6の白色光はフィルタ6を経てレーザ波
長の光をカットされ、光ファイバからなるライトガイド
47を経て載置台34の裏面に照射されて、プリント配
線板部を裏面から照明する。これによって生じた光切断
線位置の導体パターンの像は、フィルタ48を経てレン
ズ49によって結像される。この際フィルタ4Bはレー
ザ波長の光をカントする。ラインセンサ50はレンズ4
9の結像面に配置されていて、基材部の像を検出する。
長の光をカットされ、光ファイバからなるライトガイド
47を経て載置台34の裏面に照射されて、プリント配
線板部を裏面から照明する。これによって生じた光切断
線位置の導体パターンの像は、フィルタ48を経てレン
ズ49によって結像される。この際フィルタ4Bはレー
ザ波長の光をカントする。ラインセンサ50はレンズ4
9の結像面に配置されていて、基材部の像を検出する。
信号処理回路41は短冊型ラインセンサ39からの信号
とラインセンサ50からの信号とによって、導体パター
ン領域に相当する部分の光切断線像の信号を分離・抽出
する。なお基材部の像を検出するための光源として、レ
ーザ30の発生光を用いてもよいことは言うまでもない
。
とラインセンサ50からの信号とによって、導体パター
ン領域に相当する部分の光切断線像の信号を分離・抽出
する。なお基材部の像を検出するための光源として、レ
ーザ30の発生光を用いてもよいことは言うまでもない
。
第3A図は第3図に示された実施例における各フィルタ
の特性例を示したものであって、(alはフィルタ48
の特性を示し、He−Neレーザ波長632.8 nm
を中心とする狭帯域の光を遮断するバンドカットフィル
タの特性を有することが示されている。また伽)はフィ
ルタ36の特性を示し、He−Neレーザ波長632.
8 nmを中心とする狭帯域の光を通過させるバンドパ
スフィルタの特性を有することが示されている。
の特性例を示したものであって、(alはフィルタ48
の特性を示し、He−Neレーザ波長632.8 nm
を中心とする狭帯域の光を遮断するバンドカットフィル
タの特性を有することが示されている。また伽)はフィ
ルタ36の特性を示し、He−Neレーザ波長632.
8 nmを中心とする狭帯域の光を通過させるバンドパ
スフィルタの特性を有することが示されている。
第4図は信号処理回路における、光信号の分離・抽出の
処理を説明するものである。同図において51は2値化
回路であって、ラインセンサ50からの信号を2値化す
る。52はアナログ・スイッチ等からなるゲートであっ
て、2値化回路51からの信号に基づいて短冊型ライン
センサ39からの信号をオン・オフして出力する。詔は
2値化回路であって、ゲート52の出力を2値化して出
力信号を発生する。
処理を説明するものである。同図において51は2値化
回路であって、ラインセンサ50からの信号を2値化す
る。52はアナログ・スイッチ等からなるゲートであっ
て、2値化回路51からの信号に基づいて短冊型ライン
センサ39からの信号をオン・オフして出力する。詔は
2値化回路であって、ゲート52の出力を2値化して出
力信号を発生する。
2値化回路51はラインセンサ50から出力が発生した
とき、ゲート52をオフにして短冊型ラインセンサ39
からの信号を遮断し、ラインセンサ5oから出力が発生
しないときのみゲート52をオンにして短冊型ラインセ
ンサおからの信号を通過させる。
とき、ゲート52をオフにして短冊型ラインセンサ39
からの信号を遮断し、ラインセンサ5oから出力が発生
しないときのみゲート52をオンにして短冊型ラインセ
ンサおからの信号を通過させる。
2値化回路53はこの出力信号を2値化して出力を発生
するので、第2図について説明したように導体パターン
からの拡散しない光切断線像のみを、基材部からの拡散
光に基づく雑音に妨げられることなく検出することがで
きる。
するので、第2図について説明したように導体パターン
からの拡散しない光切断線像のみを、基材部からの拡散
光に基づく雑音に妨げられることなく検出することがで
きる。
第5図は第3図に示された実施例における、光切断画像
の処理過程を説明するものである。
の処理過程を説明するものである。
第5図において(alはレーザ光の照射によって生じた
、プリント配線板35上の導体パターンに基づく、結像
面上の原画像を示したものであって、導体部を斜線を施
して示している。(b)はラインセンサ50によって検
出された、基材部における拡散した光切断線像に基づく
出力信号を示し、導体部においては出力レベルが低下す
る。(C)はラインセンサ父の出力信号を2値化回路5
1において、一定のレベルによってスライスして2値化
した出力信号を示している。(dlは短冊型ラインセン
サ39がらの出力信号を示し、導体部からの拡散しない
光切断線に基づく出力信号以外に、基材部からの拡散し
た光切断線像に基づく出力信号が存在することが示され
ている。(81は2値化回路51からの出力信号に応じ
てゲート52を制御して得られた出力信号を示し、短冊
型ラインセンサ39からの出力信号における、基材部か
らの拡散した光切断線像に基づく出力信号の部分がマス
クされていることが示されている。(f)はゲート52
の出力信号を2値化した、2値化回路53の出力信号を
示し、導体部のみに対応して出力が発生することが示さ
れている。この場合、導体部におけるくぼみ等の検出は
、短冊型ラインセンサ39に対する高さhの選定を適当
に行うことによって、任意に行うことができる。
、プリント配線板35上の導体パターンに基づく、結像
面上の原画像を示したものであって、導体部を斜線を施
して示している。(b)はラインセンサ50によって検
出された、基材部における拡散した光切断線像に基づく
出力信号を示し、導体部においては出力レベルが低下す
る。(C)はラインセンサ父の出力信号を2値化回路5
1において、一定のレベルによってスライスして2値化
した出力信号を示している。(dlは短冊型ラインセン
サ39がらの出力信号を示し、導体部からの拡散しない
光切断線に基づく出力信号以外に、基材部からの拡散し
た光切断線像に基づく出力信号が存在することが示され
ている。(81は2値化回路51からの出力信号に応じ
てゲート52を制御して得られた出力信号を示し、短冊
型ラインセンサ39からの出力信号における、基材部か
らの拡散した光切断線像に基づく出力信号の部分がマス
クされていることが示されている。(f)はゲート52
の出力信号を2値化した、2値化回路53の出力信号を
示し、導体部のみに対応して出力が発生することが示さ
れている。この場合、導体部におけるくぼみ等の検出は
、短冊型ラインセンサ39に対する高さhの選定を適当
に行うことによって、任意に行うことができる。
以上説明したように本発明によれば、導体部分の光切断
線像を検出する短冊型ラインセンサの出力を、基材部に
おける光切断線像を検出する別のラインセンサ出力によ
ってマスクして所要の検知出力信号を得るようにしたの
で、基材部分が光拡散性を有するプリント配線板等の場
合でも、精度よく高速な断面形状検知を行うことができ
、さらに導体上のくぼみ状の欠陥等の検出を行うことが
できる。
線像を検出する短冊型ラインセンサの出力を、基材部に
おける光切断線像を検出する別のラインセンサ出力によ
ってマスクして所要の検知出力信号を得るようにしたの
で、基材部分が光拡散性を有するプリント配線板等の場
合でも、精度よく高速な断面形状検知を行うことができ
、さらに導体上のくぼみ状の欠陥等の検出を行うことが
できる。
第1図は本発明の原理的構成を示す図、第2図は本発明
の詳細な説明する図、 第3図は本発明の一実施例の構成を示す図、第3A図は
第3図の実施例における各フィルタの特性例を示す図、 第4図は信号処理回路における光信号の分離・抽出の処
理を説明する図、 第5図は第3図の実施例における光切断画像の処理過程
を説明する図、 第6図は導体パターンの欠陥を例示する図、第7図は従
来のプリント配線板における断面形状検知方法を示す図
、 第8図は光切断法とテレビカメラとを使用する光切断画
像の処理過程を説明する図、 第9図は光切断法と短冊型ラインセンサとを使用する断
面形状検知方法を示す図、 第10図は第9図の構成比おける光切断線像と短冊型ラ
インセンサとの位置関係を説明する図、第11図は光切
断法と短冊型ラインセンサとを使用する光切断画像の処
理過程を説明する図、第12図は光切゛断線の拡散を説
明する図である。 30・・・ヘリウムネオン(He−Ne)レーザ31・
・・ミラー n・・・ビームエクスパンダ 33・・・シリンドリカルレンズ 34・・・載置台 あ・・・プリント配線板 36、46.48−・・フィルタ 訂、49・・・レンズ 羽・・・ビームスプリンタ 39・・・短冊型ラインセンサ、 40・・・ラインセンサ移動機構 41・・・信号処理回路 42・・・テレビカメラ 招・・・マイクロプロセッサ 44・・・モータドライバ 45・・・白色光源 47・・・ライトガイド 50・・・ラインセンサ 51.53・・・2値化回路 52・・・ゲート
の詳細な説明する図、 第3図は本発明の一実施例の構成を示す図、第3A図は
第3図の実施例における各フィルタの特性例を示す図、 第4図は信号処理回路における光信号の分離・抽出の処
理を説明する図、 第5図は第3図の実施例における光切断画像の処理過程
を説明する図、 第6図は導体パターンの欠陥を例示する図、第7図は従
来のプリント配線板における断面形状検知方法を示す図
、 第8図は光切断法とテレビカメラとを使用する光切断画
像の処理過程を説明する図、 第9図は光切断法と短冊型ラインセンサとを使用する断
面形状検知方法を示す図、 第10図は第9図の構成比おける光切断線像と短冊型ラ
インセンサとの位置関係を説明する図、第11図は光切
断法と短冊型ラインセンサとを使用する光切断画像の処
理過程を説明する図、第12図は光切゛断線の拡散を説
明する図である。 30・・・ヘリウムネオン(He−Ne)レーザ31・
・・ミラー n・・・ビームエクスパンダ 33・・・シリンドリカルレンズ 34・・・載置台 あ・・・プリント配線板 36、46.48−・・フィルタ 訂、49・・・レンズ 羽・・・ビームスプリンタ 39・・・短冊型ラインセンサ、 40・・・ラインセンサ移動機構 41・・・信号処理回路 42・・・テレビカメラ 招・・・マイクロプロセッサ 44・・・モータドライバ 45・・・白色光源 47・・・ライトガイド 50・・・ラインセンサ 51.53・・・2値化回路 52・・・ゲート
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 線状光束を照射して対象物上に光切断線を形成しこれを
斜め方向から撮像して該光切断線像の高さから断面形状
を検知する断面形状検知装置において、 前記光切断線像における所定高さ以上の部分を検知する
短冊型の第1のラインセンサ(1)と、前記光切断線像
における基底レベル部分を検出する第2のラインセンサ
(2)と、 前記第1のラインセンサの出力を第2のラインセンサの
出力によってマスクした出力を発生する信号処理回路(
3)と を具えてなることを特徴とする断面形状検知装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28898287A JPH01129108A (ja) | 1987-11-16 | 1987-11-16 | 断面形状検知装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28898287A JPH01129108A (ja) | 1987-11-16 | 1987-11-16 | 断面形状検知装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01129108A true JPH01129108A (ja) | 1989-05-22 |
Family
ID=17737310
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28898287A Pending JPH01129108A (ja) | 1987-11-16 | 1987-11-16 | 断面形状検知装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01129108A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001056214A (ja) * | 1999-06-10 | 2001-02-27 | Konica Corp | 光学式表面変位検出装置、パターン認識装置及び光学式表面変位検出方法 |
| JP2002257516A (ja) * | 2001-03-02 | 2002-09-11 | Nagoya Electric Works Co Ltd | 半田高さ計測方法およびその装置 |
-
1987
- 1987-11-16 JP JP28898287A patent/JPH01129108A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001056214A (ja) * | 1999-06-10 | 2001-02-27 | Konica Corp | 光学式表面変位検出装置、パターン認識装置及び光学式表面変位検出方法 |
| JP2002257516A (ja) * | 2001-03-02 | 2002-09-11 | Nagoya Electric Works Co Ltd | 半田高さ計測方法およびその装置 |
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