JPH01129233A - 表示装置用電極板の製造方法 - Google Patents
表示装置用電極板の製造方法Info
- Publication number
- JPH01129233A JPH01129233A JP28704887A JP28704887A JPH01129233A JP H01129233 A JPH01129233 A JP H01129233A JP 28704887 A JP28704887 A JP 28704887A JP 28704887 A JP28704887 A JP 28704887A JP H01129233 A JPH01129233 A JP H01129233A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrode plate
- display device
- color filter
- protective layer
- transparent electrode
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
く産業上の利用分野〉
本発明は、カラー液晶デイスプレィや液晶の表示入力装
置などに用いられる表示装置用電極板の製造方法に間す
る。
置などに用いられる表示装置用電極板の製造方法に間す
る。
〈従来の技術〉
液晶デイスプレィは、高密度表示のため画素や端子部の
ピッチが100IIn付近まで要求されるようになり高
精細化しつつある。同時に大画面に移行してきている。
ピッチが100IIn付近まで要求されるようになり高
精細化しつつある。同時に大画面に移行してきている。
従って、液晶駆動の観点から透明電極の低抵抗化と、薄
型化という観点から液晶駆動用ICの表面実装という2
つの要求が特に強くなってきている。これら要求を満足
させるため透明電極の一部に低抵抗化のための補助導体
として数十μm幅の金属薄膜の細線パターンを設け、あ
るいは液晶パネルの端子部に金属薄膜を形成し表面実装
用途に対応することは公知の技術である。
型化という観点から液晶駆動用ICの表面実装という2
つの要求が特に強くなってきている。これら要求を満足
させるため透明電極の一部に低抵抗化のための補助導体
として数十μm幅の金属薄膜の細線パターンを設け、あ
るいは液晶パネルの端子部に金属薄膜を形成し表面実装
用途に対応することは公知の技術である。
カラー液晶デイスプレィにおいて、カラーフィルターの
上に透明電極を形成せしめた電極板は、カラーフィルタ
ーの下に透明電極を形成したものより液晶駆動上及び表
示品位の点で格段に優れている。透明電極をエツチング
によりパタニングするためカラーフィルターと透明電極
の間に有機樹脂の保護層を設けることは一般に行なわれ
ている。
上に透明電極を形成せしめた電極板は、カラーフィルタ
ーの下に透明電極を形成したものより液晶駆動上及び表
示品位の点で格段に優れている。透明電極をエツチング
によりパタニングするためカラーフィルターと透明電極
の間に有機樹脂の保護層を設けることは一般に行なわれ
ている。
〈発明が解決しようとする問題点〉
印刷や染色により形成されたカラーフィルターの上に有
機樹脂の保護層を形成して後、さらに該保護層の上に透
明電極を形成した電極板は、後工程の熱処理でシワやフ
クレを発生する欠点があった。これは、特にアクリル系
の樹脂を保護層として用いたものに顕著である。ポリイ
ミドやシリコン系の樹脂を用いてもシワを発生しやすい
欠点があった。
機樹脂の保護層を形成して後、さらに該保護層の上に透
明電極を形成した電極板は、後工程の熱処理でシワやフ
クレを発生する欠点があった。これは、特にアクリル系
の樹脂を保護層として用いたものに顕著である。ポリイ
ミドやシリコン系の樹脂を用いてもシワを発生しやすい
欠点があった。
また、1〜2μmの膜厚の有機樹脂を保護層としてこの
上に透明電極をパタニング形成したカラーフィルター電
極板では、透明電極に傷をつけやすく単純マトリクス液
晶デイスプレィのようなファインピッチでの電極接続は
かなり困難であった。
上に透明電極をパタニング形成したカラーフィルター電
極板では、透明電極に傷をつけやすく単純マトリクス液
晶デイスプレィのようなファインピッチでの電極接続は
かなり困難であった。
ましてや接続不良の再生はほとんど不可能であった。
加えて、透明電極上に金属薄膜層を形成した電極板を用
いて液晶ドライバーなどのICを表面実装する場合は、
電極板の一部分に150’C〜250’C程度の加熱プ
ロセス(はんだ付や導電性樹脂による接合)がある。こ
の場合に保護層がアクリル系の樹脂ではフクレやハガレ
を生してしまう。特に吸湿した場合はアクリル樹脂分解
を起こしてしまう欠陥がある。アミック酸を出発材料と
する通常のポリイミドによる保護層でも、同様にフクレ
を生じやすい、これは、有機のカラーフィルターの耐熱
温度が染色の場合で180°C前後、印刷の場合でも2
20°C前後と低いため、ポリイミドの架橋が十分に行
なえる300〜400°Cといった高温までカラーフィ
ルター電極板を昇温できず、未反応のアミック酸が残っ
てしまうためである。未反応のアミック酸は再加熱によ
り脱水してポリイミド化する。このポリイミド膜の上に
透明電極や金属薄膜が形成されているとアミック酸の脱
水により生じた水分がガスとなって、フクレやハガレを
生じることになる。
いて液晶ドライバーなどのICを表面実装する場合は、
電極板の一部分に150’C〜250’C程度の加熱プ
ロセス(はんだ付や導電性樹脂による接合)がある。こ
の場合に保護層がアクリル系の樹脂ではフクレやハガレ
を生してしまう。特に吸湿した場合はアクリル樹脂分解
を起こしてしまう欠陥がある。アミック酸を出発材料と
する通常のポリイミドによる保護層でも、同様にフクレ
を生じやすい、これは、有機のカラーフィルターの耐熱
温度が染色の場合で180°C前後、印刷の場合でも2
20°C前後と低いため、ポリイミドの架橋が十分に行
なえる300〜400°Cといった高温までカラーフィ
ルター電極板を昇温できず、未反応のアミック酸が残っ
てしまうためである。未反応のアミック酸は再加熱によ
り脱水してポリイミド化する。このポリイミド膜の上に
透明電極や金属薄膜が形成されているとアミック酸の脱
水により生じた水分がガスとなって、フクレやハガレを
生じることになる。
〈問題点を解決するための手段〉
本発明は、透明な基板にカラーフィルターと、保護層と
、透明電極と、金属薄膜層をこの順で積層する表示装置
用電極板の製造方法において、保護層を有機溶剤に溶解
せしめた、アミック酸を含まないイミド化合物の溶液を
用い、乾燥後の膜厚にて100人〜5000人の範囲に
形成することを特徴とする表示装置用電極板の製造方法
である。該有機溶剤は、N−メチルピロリドン、r−ブ
チロラクトン、アセトフェノン、ジエチレングリコール
モノメチルエーテル等の200°C以上の高沸点溶剤を
用いても良いが、耐熱性の低い有機カラーフィルター上
にポリイミド膜を形成するためには、200°C以下の
低沸点溶剤の方が好しい。これら低沸点の溶剤には、シ
ウロヘキサノン、ジオキサン、テトラヒドラフラン、ク
ロロホルム、テトラクロルエタンなどがある。ただしこ
れらに限定するものでない。
、透明電極と、金属薄膜層をこの順で積層する表示装置
用電極板の製造方法において、保護層を有機溶剤に溶解
せしめた、アミック酸を含まないイミド化合物の溶液を
用い、乾燥後の膜厚にて100人〜5000人の範囲に
形成することを特徴とする表示装置用電極板の製造方法
である。該有機溶剤は、N−メチルピロリドン、r−ブ
チロラクトン、アセトフェノン、ジエチレングリコール
モノメチルエーテル等の200°C以上の高沸点溶剤を
用いても良いが、耐熱性の低い有機カラーフィルター上
にポリイミド膜を形成するためには、200°C以下の
低沸点溶剤の方が好しい。これら低沸点の溶剤には、シ
ウロヘキサノン、ジオキサン、テトラヒドラフラン、ク
ロロホルム、テトラクロルエタンなどがある。ただしこ
れらに限定するものでない。
カラーフィルターの平滑化の目的にはゼラチン、グリユ
ー、カゼインなどのペプチド樹脂が、上に形成する透明
電極のシワ発生もなく好しい、ただし、耐熱性があり、
かつ熱膨張率の小さい千オ料であればペプチド樹脂以外
の材料であっても良い。
ー、カゼインなどのペプチド樹脂が、上に形成する透明
電極のシワ発生もなく好しい、ただし、耐熱性があり、
かつ熱膨張率の小さい千オ料であればペプチド樹脂以外
の材料であっても良い。
本発明を実施例に基付き詳細に説明する。
〈実施例〉
第1図は、本発明による液晶表示装置用電極板の模式断
面図である。
面図である。
厚さ1m+eのフロートガラス(青板)である透明な基
板(1)に、公知の技術であるレリーフ染色法によって
緑(G)、赤(R)、青(B)と順次3色のカラーフィ
ルター(6)を形成した。厚みは約1.8μmである。
板(1)に、公知の技術であるレリーフ染色法によって
緑(G)、赤(R)、青(B)と順次3色のカラーフィ
ルター(6)を形成した。厚みは約1.8μmである。
該カラーフィルター(6)上に、ジアミノフェニルイン
ダンをペースにしたイミド化合物の溶液(チバガイギー
製、商品名XU21B)をシキロヘキサノンを?容剤と
して固形比1.7%ン容ン&として、コーティングし、
乾燥させ約900人厚みに保護層(2)を形成した。乾
燥は100°(:X30m1n 170″CX2h
rの2段階で行った。
ダンをペースにしたイミド化合物の溶液(チバガイギー
製、商品名XU21B)をシキロヘキサノンを?容剤と
して固形比1.7%ン容ン&として、コーティングし、
乾燥させ約900人厚みに保護層(2)を形成した。乾
燥は100°(:X30m1n 170″CX2h
rの2段階で行った。
次にスパフタリングにて1200人の厚みで二酸化珪素
膜(3)を、400人厚みでITOとよばれる透明電極
(4)を、さらに蒸着によりクロムを1000人、ニッ
ケルを3000人として金属薄膜(5)を積層した。公
知の湿式のエツチングにより、ニッケルークロム→IT
Oと順次パタニングを行い、カラー液晶用の表示装置用
電極板とした。
膜(3)を、400人厚みでITOとよばれる透明電極
(4)を、さらに蒸着によりクロムを1000人、ニッ
ケルを3000人として金属薄膜(5)を積層した。公
知の湿式のエツチングにより、ニッケルークロム→IT
Oと順次パタニングを行い、カラー液晶用の表示装置用
電極板とした。
以上の実施例に於て保護層の膜厚を900人としたが、
100〜5000人の範囲内であれば良い。膜厚が50
00人を超えると透明電極にシワを発生し易くなり、ま
た100Å以下になれば保護層として十分な役目を果さ
なくなる。100Å以下の場合、透明電極や金属薄膜の
エツチングのときにカラーフィルターに損傷を与えやす
くなる。
100〜5000人の範囲内であれば良い。膜厚が50
00人を超えると透明電極にシワを発生し易くなり、ま
た100Å以下になれば保護層として十分な役目を果さ
なくなる。100Å以下の場合、透明電極や金属薄膜の
エツチングのときにカラーフィルターに損傷を与えやす
くなる。
実施例に於いて、イミド化合物の溶液をジアミノフェル
インダンをベースにした溶液にて示したが、イミド基を
ホエーチルアミドに組込んだイミド化合物の溶剤も使用
可能である。
インダンをベースにした溶液にて示したが、イミド基を
ホエーチルアミドに組込んだイミド化合物の溶剤も使用
可能である。
〈発明の効果〉
本発明はポリイミドを保護層として100人〜5000
人の範囲にすることによりシワ発生のないカラーフィル
ターを、上に透明電極と金属薄膜を形成した表示装置用
電極板として供給できた。また、架橋を必要とするアミ
ック酸を含む通常のポリイミド樹脂化合物を使用する場
合と異なり、アミック酸を含まないイミド化合物の溶液
を用いて保護層を形成するため、高温架橋未反応による
フクレやハガレが発生せず、金属薄膜層を形成してから
の再加熱時に水発生によるフクレの発生や接着強度の低
下を生じない。また、ポリイミド溶液中の有機溶剤を2
00°C以下の低沸点の溶剤とすることによりカラーフ
ィルターが変色や退色しない低い温度で乾燥、及びポリ
イミドの硬膜ができる利点がある。低沸点の溶剤を用い
ることにより、スピンコードでほぼ表面の乾燥したポリ
イミド膜となるのでハンドリングなどの作業性向上の効
果もある。 加えて、保護層を100人〜5000人と
したことにより、カラーフィルターの保護効果が得られ
、また、薄くしたことにより、透明電極にシワの発生や
傷がつきにくい、また、未発明における保護層上に形成
する透明電極上には、金属薄膜層を形成しているため金
属のプロパーなどを用いた検査も傷をつけずに十分行え
る。なお、透明電極上に細いストライブ形状に金属薄膜
層を形成することにより、電極の抵抗を大幅に下げえる
副次効果がある。透明電極の薄膜は金属薄膜層によるブ
ラックマトリクス効果を得るためには、200人〜10
00人と薄い方が良いが、1000Å以上厚くても良い
。
人の範囲にすることによりシワ発生のないカラーフィル
ターを、上に透明電極と金属薄膜を形成した表示装置用
電極板として供給できた。また、架橋を必要とするアミ
ック酸を含む通常のポリイミド樹脂化合物を使用する場
合と異なり、アミック酸を含まないイミド化合物の溶液
を用いて保護層を形成するため、高温架橋未反応による
フクレやハガレが発生せず、金属薄膜層を形成してから
の再加熱時に水発生によるフクレの発生や接着強度の低
下を生じない。また、ポリイミド溶液中の有機溶剤を2
00°C以下の低沸点の溶剤とすることによりカラーフ
ィルターが変色や退色しない低い温度で乾燥、及びポリ
イミドの硬膜ができる利点がある。低沸点の溶剤を用い
ることにより、スピンコードでほぼ表面の乾燥したポリ
イミド膜となるのでハンドリングなどの作業性向上の効
果もある。 加えて、保護層を100人〜5000人と
したことにより、カラーフィルターの保護効果が得られ
、また、薄くしたことにより、透明電極にシワの発生や
傷がつきにくい、また、未発明における保護層上に形成
する透明電極上には、金属薄膜層を形成しているため金
属のプロパーなどを用いた検査も傷をつけずに十分行え
る。なお、透明電極上に細いストライブ形状に金属薄膜
層を形成することにより、電極の抵抗を大幅に下げえる
副次効果がある。透明電極の薄膜は金属薄膜層によるブ
ラックマトリクス効果を得るためには、200人〜10
00人と薄い方が良いが、1000Å以上厚くても良い
。
第1図は、本発明による表示装置用電極板の模式断面図
である。 1・・・・・・透明な基板 2・・・・・・保護層 3・・・・・・二酸化珪素膜 4・・・・・・透明電極 5・・・・・・金属薄膜層 特 許 出 願 人 凸版印刷株式会社 代表者 鈴木和夫 第1図
である。 1・・・・・・透明な基板 2・・・・・・保護層 3・・・・・・二酸化珪素膜 4・・・・・・透明電極 5・・・・・・金属薄膜層 特 許 出 願 人 凸版印刷株式会社 代表者 鈴木和夫 第1図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)透明な基板にカラーフィルターと、保護層と、透明
電極と、金属薄膜層をこの順で積層する表示装置用電極
板の製造方法において、アミック酸を含まないイミド化
合物を有機溶剤に溶解せしめた溶液を塗布したことを特
徴とする表示装置用電極板の製造方法。 2)保護層が乾燥後の膜厚で100〜5000Åの範囲
内である事を特徴とする特許請求の範囲第一項記載の表
示装置用電極板の製造方法。 3)有機溶剤が沸点が200℃以下の有機溶剤であるこ
とを特徴とする前記特許請求の範囲第1項記載の表示装
置用電極板の製造方法。 4)カラーフィルターと保護層との間に、カラーフィル
ターを覆うようにペプチド樹脂層をパタニング形成する
ことを特徴とする前記特許請求の範囲第1項、第2項記
載の表示装置用電極板の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28704887A JPH01129233A (ja) | 1987-11-13 | 1987-11-13 | 表示装置用電極板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28704887A JPH01129233A (ja) | 1987-11-13 | 1987-11-13 | 表示装置用電極板の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01129233A true JPH01129233A (ja) | 1989-05-22 |
Family
ID=17712376
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28704887A Pending JPH01129233A (ja) | 1987-11-13 | 1987-11-13 | 表示装置用電極板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01129233A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10998463B2 (en) | 2016-11-15 | 2021-05-04 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | High efficiency solar cell and method for manufacturing high efficiency solar cell |
-
1987
- 1987-11-13 JP JP28704887A patent/JPH01129233A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10998463B2 (en) | 2016-11-15 | 2021-05-04 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | High efficiency solar cell and method for manufacturing high efficiency solar cell |
| US11552202B2 (en) | 2016-11-15 | 2023-01-10 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | High efficiency solar cell and method for manufacturing high efficiency solar cell |
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