JPH01129982A - 塩化第2鉄エッチャントの再生方法とエッチング方法 - Google Patents

塩化第2鉄エッチャントの再生方法とエッチング方法

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Publication number
JPH01129982A
JPH01129982A JP28793487A JP28793487A JPH01129982A JP H01129982 A JPH01129982 A JP H01129982A JP 28793487 A JP28793487 A JP 28793487A JP 28793487 A JP28793487 A JP 28793487A JP H01129982 A JPH01129982 A JP H01129982A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
etchant
etching
ferric chloride
chloride etchant
etching method
Prior art date
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Pending
Application number
JP28793487A
Other languages
English (en)
Inventor
Tsukasa Chiba
千葉 司
Minoru Manome
馬目 稔
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Cable Ltd
Original Assignee
Hitachi Cable Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Cable Ltd filed Critical Hitachi Cable Ltd
Priority to JP28793487A priority Critical patent/JPH01129982A/ja
Publication of JPH01129982A publication Critical patent/JPH01129982A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23FNON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
    • C23F1/00Etching metallic material by chemical means
    • C23F1/46Regeneration of etching compositions

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • ing And Chemical Polishing (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の対象] 本発明は、塩化第2鉄エッチャントの再生方法とエツチ
ング方法に関するものである。
[従来の技術] 老化した塩化第2鉄エッチャントを再生する方法として
は、過酸化水素や次亜塩素酸ナトリウム等の酸化剤を添
加する方法、又は、塩素ガスと接触させる方法、或いは
、電解による方法がある。
過酸化水素を添加する方法は、反応効率が悪く、目的と
する再生を行うためには、多量に添加しなければならな
い。従って、エッチエンドはかなり希釈されること叫な
り、エツチング性能に悪影響を及ぼすので好ましくない
。コスト的にもかなり問題の多い方法である。
次亜塩素酸ナトリウムを用いる方法は、濃厚溶液で添加
すると塩素ガスを発生させるため、危険である。従って
、希釈した状態で添加しなければならず過酸化水素の場
合と同様エッチャントを希釈するという問題がある。又
、食塩が蓄積するので繰返し再生する方法には不都合で
ある。
同様に塩素酸ソーダ等の塩素酸塩を用いる方法もアルカ
リ塩類の蓄積の点で好ましくない。
以上の通り、薬品を用いて酸化再生づる方法は、本発明
で目的とする再生装置と、エツチング装置とを接続し連
続的にエッチャントを再生して利用する方法には不向き
である。
塩素ガスを用いて再生する方法は、最も効率がよく化学
反応的には理想的な方法であるが、塩素ガスは非常に有
害であり、作業環境や公害上問題がある。
電解法は、以上説明した方法の様な問題点がなく、しか
もエツチングで溶解させた金属を析出°、分離でき再生
という点からは理想的な方法であるが、安定性に欠ける
ため保守管理に問題が生じ実用されていないのが現状で
ある。
従来の再生方法を述べてきたが、連続的にしがも安全に
エッチャントを再生してエツチング装置に供給し環境使
用には何れの方法にも問題がある。
[発明の目的] 本発明は、前記した従来方法の欠点を解消し、安価に且
つ安全にエッヂヤントを再生する方法とそれを利用した
エツチング方法を提供することにある。
[発明の要点] 本発明の要旨は、塩化第2鉄エッチャントを再生する方
法として硝酸の存在下で空気酸化を利用することにある
それによって安全上不備な問題がなく良好な性状のエッ
チャントを再生して循環使用を可能にさせたものである
硝酸の添加量は、特に規定するものではないが、微量で
あれば触媒効果が弱く、人情であればレジストによって
は損傷する可能性があり、ニッケル等の不導体を形成す
る金属を含むものは、エツチング性の影響を及ぼす。
常識的には、エッヂヤント中の鉄分1 K9に対し硝酸
根濃度として5〜500gが適当と考えられる範囲であ
る。
空気酸化は、温度が75〜80℃が効率がよく望ましい
範囲であるが、循環経路の配管域は、ポンプ等の耐熱性
が制約を受ける。−膜内には、高密度ポリエチレンの耐
熱性の50〜70℃に限定されるが、場合によっては、
チタン等の高耐腐食性材料或いは、テフ1」ン等の高熱
高耐薬品性の有機物を循環経路に使用する配管等の内面
にライニングしたものを用い、空気酸化温度を高くする
ことも可能である。
[実 施 例] 第1図は、本発明のエツチング方法を示す系統図であり
、1は空気酸化装置本体、1aはミスト除去装置、1b
はスプレー、1Cは充填物、1dは送風機、1eは送風
管、1fは保温材、2は薬品添加槽本体、2eは撹拌機
、2bは酸化還元電位計、2Cは比重測定センサー、2
dは酸濃度測定電位計、2eは薬品供給管、3はエツチ
ング装置、4はポンプ、5は輸送管である。
第1図において、空気酸化装置本体1は、スプレー1b
、及び、充填物1Cから成り、それに、送風機1d、送
風管1e、ミスト除去装置1a、及び、ポンプ4から構
成される。ポンプ4は、10Kyf/aAの圧力で50
1!/win(7)輸送能力を持ち、エッチャントをス
プレー1bから賞状にエッヂヤントを噴震する。
エッチャントの温度は60℃である。送[41111d
が1 m3/1linの割合で空気を送り込みエッチャ
ントを酸化させる。酸化したエッチャントは薬品添加槽
2に移され酸化還元電位計2b、比重測定センサー2c
、酸濃度測定電位計2dで測定された値を基に薬品供給
管2eから自動的に適切な塩酸、水が加えられる。
硝酸は、化、学分析によりエッチャントの鉄分1Kgに
対し30〜50gになるように制約され薬品添加槽2内
は撹拌機2aで掻き混ぜられている。
薬品添加されたエッチャントは輸送管5を通ってエツチ
ング装置3に流入し、ポンプ4によって再び、空気酸化
装置1のスプレー1bへと循環する。
以上説明した条件で、エッチャントへの溶解債が200
0/hou rの速度で鉄58%、ニッケル42%の合
金製リードフレームを連続してエツチングした時、エッ
チャントの老化度(エッチャント中の全鉄で2価の鉄を
除いた数)が0.12〜0.13の範囲に保つことがで
き、十分な実用性が認められた。硝酸を加えない場合は
老化度が上昇し、前記の老化度に保つことが出来ない。
本実施例において、薬品添加槽2をエツチング装置3の
前に配置したがエツチング装置3の後でも差支えない。
[発明の効果] 本発明により、アルカリ金属のようなエツチングを妨害
する物質を存在させることなく、塩化第2鉄の濃度を一
定に保つ条件でエツチングすることが可能なしかも安全
なエツチング方法が確立される。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明のエツチング方法の系統図である。 1:空気酸化装置本体、 1a:ミスト除去装置、 1bニスプレー、 1C;充填物、 d:送風機、 1e:送風管、 1f:保温材、 2:薬品添加槽本体、 2a:撹拌機、 2b:酸化還元電位計、 2C:比重測定センサー、 2d:酸濃度測定電位計、 2e:薬品供給管、 3:エッチ、ヤング装置、 4:ポンプ、 5:輸送管。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)塩化第2鉄エッチャントに硝酸根が存在する状態
    で、空気酸化により再生することを特徴とする塩化第2
    鉄エッチャントの再生方法。
  2. (2)前記方法による再正装置とエッチング装置とを組
    み合わせてエッチャントの老化度が一定の範囲に保持で
    きる装置を使用することを特徴とするエッチング方法。
JP28793487A 1987-11-13 1987-11-13 塩化第2鉄エッチャントの再生方法とエッチング方法 Pending JPH01129982A (ja)

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JP28793487A JPH01129982A (ja) 1987-11-13 1987-11-13 塩化第2鉄エッチャントの再生方法とエッチング方法

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JP28793487A JPH01129982A (ja) 1987-11-13 1987-11-13 塩化第2鉄エッチャントの再生方法とエッチング方法

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JPH01129982A true JPH01129982A (ja) 1989-05-23

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JP28793487A Pending JPH01129982A (ja) 1987-11-13 1987-11-13 塩化第2鉄エッチャントの再生方法とエッチング方法

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6210650B1 (en) * 1993-07-21 2001-04-03 Andritz-Patentverwaltungs-Gesellschaft M.B.H Process for regenerating hydrochloric acid from pickling plants

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6210650B1 (en) * 1993-07-21 2001-04-03 Andritz-Patentverwaltungs-Gesellschaft M.B.H Process for regenerating hydrochloric acid from pickling plants

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