JPH01132535A - アセチレンガス濃縮方法 - Google Patents
アセチレンガス濃縮方法Info
- Publication number
- JPH01132535A JPH01132535A JP29070387A JP29070387A JPH01132535A JP H01132535 A JPH01132535 A JP H01132535A JP 29070387 A JP29070387 A JP 29070387A JP 29070387 A JP29070387 A JP 29070387A JP H01132535 A JPH01132535 A JP H01132535A
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- Japan
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- adsorption
- acetylene
- acetylene gas
- type zeolite
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、アセチレンガスの濃縮方法に関するものであ
り、更に詳しくは、アセチレンを主成分とした混合ガス
より、水分、イオウ化合物、及び炭素数３から６までの
炭化水素を吸着除去する方法に関するものである。
り、更に詳しくは、アセチレンを主成分とした混合ガス
より、水分、イオウ化合物、及び炭素数３から６までの
炭化水素を吸着除去する方法に関するものである。
〔従来の技術および発明が解決すべき問題点〕従来、ア
セチレンガスは、溶接、溶断用として使用され、ＪＩＳ
に１９０２に記載されている様に、アセチレンガス純度
９８．０％以上、硫化水素などのイオウ化合物は、硝酸
銀水溶液（１０重量パーセント）で着色しない程度の純
度で十分であった。しかし、近年、アセチレンガスは、
ダイヤモンド、金属皮膜、太陽電池などのカーボン源と
して注目されてきており、アセチレンガス中の不純物の
存在が問題視されてきている。現在、アセチレンガス中
の硫化水素などのイオウ化合物は、固体の清浄剤を通し
て酸化固定し処理する方法か、もしくは、液体である次
亜鉛酸塩水溶液で処理する方法（橋本幸雄、西直義、高
圧ガス、ＶＯＬ、１３ Ｎｏ、４１９７６ Ｐ２９〜Ｐ
３０ ） 、水分に関しては、無水カルシウムを用いて
吸着処理する方法が一般に用いられている。しかし、こ
の方法では、ジビニルサルファイド（（ＣＨ２＝ＣＩ−
１）ｚ Ｓ）などのイオウ化合物、炭素数３から６まで
の炭化水素、及び水分を目的とするレベルまで処理する
ことができないという問題があった。
セチレンガスは、溶接、溶断用として使用され、ＪＩＳ
に１９０２に記載されている様に、アセチレンガス純度
９８．０％以上、硫化水素などのイオウ化合物は、硝酸
銀水溶液（１０重量パーセント）で着色しない程度の純
度で十分であった。しかし、近年、アセチレンガスは、
ダイヤモンド、金属皮膜、太陽電池などのカーボン源と
して注目されてきており、アセチレンガス中の不純物の
存在が問題視されてきている。現在、アセチレンガス中
の硫化水素などのイオウ化合物は、固体の清浄剤を通し
て酸化固定し処理する方法か、もしくは、液体である次
亜鉛酸塩水溶液で処理する方法（橋本幸雄、西直義、高
圧ガス、ＶＯＬ、１３ Ｎｏ、４１９７６ Ｐ２９〜Ｐ
３０ ） 、水分に関しては、無水カルシウムを用いて
吸着処理する方法が一般に用いられている。しかし、こ
の方法では、ジビニルサルファイド（（ＣＨ２＝ＣＩ−
１）ｚ Ｓ）などのイオウ化合物、炭素数３から６まで
の炭化水素、及び水分を目的とするレベルまで処理する
ことができないという問題があった。
〔問題点を解決するための手段および作用〕本発明の目
的は、アセチレンを主成分とする混合ガスより、容易に
イオウ化合物、炭素数３から６までの炭化水素、及び水
分を所定のレベルまで低減処理することの出来る新規な
アセチレンガスの濃縮方法を提供することにある。
的は、アセチレンを主成分とする混合ガスより、容易に
イオウ化合物、炭素数３から６までの炭化水素、及び水
分を所定のレベルまで低減処理することの出来る新規な
アセチレンガスの濃縮方法を提供することにある。
本発明は、アセチレンガスを主成分とした混合ガスを濃
縮する方法に係わるものであって、第１段階でＡ型ゼオ
ライトを用い、次いで第２段階で活性炭を用いて、アセ
チレンガス中の水分、イオウ化合物、炭素数３から６ま
での炭化水素を吸着除去することを特徴とするアセチレ
ンガス濃縮方法に関するものである。
縮する方法に係わるものであって、第１段階でＡ型ゼオ
ライトを用い、次いで第２段階で活性炭を用いて、アセ
チレンガス中の水分、イオウ化合物、炭素数３から６ま
での炭化水素を吸着除去することを特徴とするアセチレ
ンガス濃縮方法に関するものである。
以下、本発明の内容につい詳細な説明を行なう。本発明
で使用されるＡ型ゼオライトは、市販の３Ａ型、４Ａ型
、５Ａ型のいずれを使用してもよいが、吸着力の点から
、５Ａ型が好ましい。Ａ型ゼオライトは、その使用に当
たって賦活処理を施すことが望ましく、真空中、若しく
は、Ｎ２．Ｈｅなどの不活性ガス雰囲気下で、２５０〜
４００℃、好ましくは、３００〜３５０℃にて加熱処理
を施すのがよい。加熱処理温度が上記温度より低い場合
は、十分な吸着力を得ることができず、又、上記温度よ
り高い場合は吸着剤の劣化が起き、十分な吸着力を得る
ことができない。
で使用されるＡ型ゼオライトは、市販の３Ａ型、４Ａ型
、５Ａ型のいずれを使用してもよいが、吸着力の点から
、５Ａ型が好ましい。Ａ型ゼオライトは、その使用に当
たって賦活処理を施すことが望ましく、真空中、若しく
は、Ｎ２．Ｈｅなどの不活性ガス雰囲気下で、２５０〜
４００℃、好ましくは、３００〜３５０℃にて加熱処理
を施すのがよい。加熱処理温度が上記温度より低い場合
は、十分な吸着力を得ることができず、又、上記温度よ
り高い場合は吸着剤の劣化が起き、十分な吸着力を得る
ことができない。
本発明で使用する活性炭は、粒状活性炭が圧力損失など
操作上の理由で好ましく、又、その使用に当たっては賦
活処理を施すことが望ましい。その場合の加熱温度は前
述と同じ理由により２００〜４００”Ｃ１好ましくは２
５０〜３００℃がよい。
操作上の理由で好ましく、又、その使用に当たっては賦
活処理を施すことが望ましい。その場合の加熱温度は前
述と同じ理由により２００〜４００”Ｃ１好ましくは２
５０〜３００℃がよい。
アセチレンを主成分とする混合ガスは第１段階としてま
ず賦活処理を施されたゼオライト充填吸着管に導入され
、ここで主に水分が吸着除去され、次いで賦活処理を施
された活性炭充填吸着管さ導入され、前記のゼオライト
充填吸着管にて吸着除去されなかったイオウ化合物、炭
素数３から６までの炭化水素が吸着除去される。
ず賦活処理を施されたゼオライト充填吸着管に導入され
、ここで主に水分が吸着除去され、次いで賦活処理を施
された活性炭充填吸着管さ導入され、前記のゼオライト
充填吸着管にて吸着除去されなかったイオウ化合物、炭
素数３から６までの炭化水素が吸着除去される。
上記の吸着除去の工程における吸着処理温度は低い程吸
着除去能力は向上するが、吸着処理温度が低すぎるとア
セチレンの液化が起こり操作上及び安全上好ましくない
。また、その温度が高すぎると、水分、イオウ化合物、
炭素数３から６までの炭化水素に対する吸着除去能力が
低下し好ましくなく、従って上記の吸着処理温度は一１
５〜４５℃、好ましくは一１０〜４０℃で操作するのが
よい。又、上記の吸着除去工程における吸着処理圧力は
高い程よいが、アセチレンの分解爆発の危険回避のため
、絶対圧１〜２６＜Ｋ’ｊ／ｃｒＡ）で吸着処理するの
がよい。
着除去能力は向上するが、吸着処理温度が低すぎるとア
セチレンの液化が起こり操作上及び安全上好ましくない
。また、その温度が高すぎると、水分、イオウ化合物、
炭素数３から６までの炭化水素に対する吸着除去能力が
低下し好ましくなく、従って上記の吸着処理温度は一１
５〜４５℃、好ましくは一１０〜４０℃で操作するのが
よい。又、上記の吸着除去工程における吸着処理圧力は
高い程よいが、アセチレンの分解爆発の危険回避のため
、絶対圧１〜２６＜Ｋ’ｊ／ｃｒＡ）で吸着処理するの
がよい。
実施例−１
５Ａ型ゼオライト１２０９を直径１インチ、長さ３０ｃ
ｍの吸着管に封入し、Ｎガスを毎分０．５Ｎ１で流しな
がら３５０℃で６時間賦活処理した。
ｍの吸着管に封入し、Ｎガスを毎分０．５Ｎ１で流しな
がら３５０℃で６時間賦活処理した。
同様に、粒状活性炭８０９を直径１インチ、長さ３０α
の吸着管に封入し、Ｎガスを毎分０．５ＮＪ！で流しな
がら３００℃で６時間賦活処理した。これらの賦活され
た吸着剤を夫々充填した吸着管２本を直列に配置し、表
−１の組成のアセチレンガスを、毎分２Ｎ１、絶対圧力
２．８（Ｋｇ／Ｃｌ７ｔ）、各吸着処理温度を２０℃に
して、第１段階として５Ａ型ゼオライト充填吸着管に、
次いで、第２段階として粒状活性炭充填吸着管にて処理
した。５００ＯＮ Ｊｌ処理後の５Ａ型ゼオライト充填
吸着管出口の各成分濃度を表−２に、粒状活性炭充填吸
着管出口での各成分濃度を表−３に示した。なお、イオ
ウ成分は、ガスクロマトグラフ検出器ＦＰＤ、炭化水素
成分はガスクロマトグラフ検出器ＦＩＤで検出し、表−
１中水分は検知管で、表−２，３中の水分は静電容量式
露点計で測定した。
の吸着管に封入し、Ｎガスを毎分０．５ＮＪ！で流しな
がら３００℃で６時間賦活処理した。これらの賦活され
た吸着剤を夫々充填した吸着管２本を直列に配置し、表
−１の組成のアセチレンガスを、毎分２Ｎ１、絶対圧力
２．８（Ｋｇ／Ｃｌ７ｔ）、各吸着処理温度を２０℃に
して、第１段階として５Ａ型ゼオライト充填吸着管に、
次いで、第２段階として粒状活性炭充填吸着管にて処理
した。５００ＯＮ Ｊｌ処理後の５Ａ型ゼオライト充填
吸着管出口の各成分濃度を表−２に、粒状活性炭充填吸
着管出口での各成分濃度を表−３に示した。なお、イオ
ウ成分は、ガスクロマトグラフ検出器ＦＰＤ、炭化水素
成分はガスクロマトグラフ検出器ＦＩＤで検出し、表−
１中水分は検知管で、表−２，３中の水分は静電容量式
露点計で測定した。
実施例−２
絶対圧１．９ ＜Ｋ’ｊ／ｃｔｊ＞流量５Ｎｉ、各吸
着処理温度２５℃とし、これ以外は実施例−１と同じ条
件下で表−１の組成のアセチレンガスを処理した。５０
０ＯＮ ！処理後の５Ａ型ゼオライト充填吸着管出口で
の各成分濃度を表−４に、粒状活性炭充填吸着管出口で
の各成分濃度を表−５に示した。
着処理温度２５℃とし、これ以外は実施例−１と同じ条
件下で表−１の組成のアセチレンガスを処理した。５０
０ＯＮ ！処理後の５Ａ型ゼオライト充填吸着管出口で
の各成分濃度を表−４に、粒状活性炭充填吸着管出口で
の各成分濃度を表−５に示した。
比較例−１
絶対圧力２．０ （Ｎｇ／ｃｍ） 、流量５Ｎｉ、各
吸着処理温度６０℃とし、これ以外は実施例−１と同じ
条件で表−１の組成のアセチレンガスを処理した。５０
０ＯＮ １処理後の５Ａ型ゼオライト充填吸着管出口で
の各成分濃度を表−６に、粒状活性炭充填吸着管出口で
の各成分濃度を表−７に示した。
吸着処理温度６０℃とし、これ以外は実施例−１と同じ
条件で表−１の組成のアセチレンガスを処理した。５０
０ＯＮ １処理後の５Ａ型ゼオライト充填吸着管出口で
の各成分濃度を表−６に、粒状活性炭充填吸着管出口で
の各成分濃度を表−７に示した。
以上述ぺた様に、本発明によれば第１段階でＡ型ゼオラ
イト、第２段階で活性炭を用いてアセチレンガスを処理
することにより、アセチレンガス中の水分、イオウ化合
物、炭素数３から６までの炭化水素が極微量まで容易に
吸着除去することが出来、工業的に有用な発明である。
イト、第２段階で活性炭を用いてアセチレンガスを処理
することにより、アセチレンガス中の水分、イオウ化合
物、炭素数３から６までの炭化水素が極微量まで容易に
吸着除去することが出来、工業的に有用な発明である。
Claims (1)
- アセチレンを主成分とした混合ガスより、第１段階で
Ａ型ゼオライトを用い、次に第２段階で活性炭を用いて
、水分、イオウ化合物及び炭素数３から６までの炭化水
素を吸着除去することを特徴とするアセチレンガス濃縮
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29070387A JPH01132535A (ja) | 1987-11-19 | 1987-11-19 | アセチレンガス濃縮方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29070387A JPH01132535A (ja) | 1987-11-19 | 1987-11-19 | アセチレンガス濃縮方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01132535A true JPH01132535A (ja) | 1989-05-25 |
Family
ID=17759419
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29070387A Pending JPH01132535A (ja) | 1987-11-19 | 1987-11-19 | アセチレンガス濃縮方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01132535A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5417947A (en) * | 1992-08-05 | 1995-05-23 | Corning Incorporated | System and method for removing hydrocarbons from gaseous mixtures |
| EP2272815A1 (en) * | 2009-06-23 | 2011-01-12 | Praxair Technology, Inc. | Processes for purification of acetylene |
| JP2011201809A (ja) * | 2010-03-25 | 2011-10-13 | Taiyo Nippon Sanso Corp | アセチレンの製造装置及び製造方法 |
| WO2014031316A3 (en) * | 2012-08-21 | 2014-04-17 | Uop Llc | Heavy hydrocarbon removal and methane conversion process using a supersonic flow reactor |
| US9707530B2 (en) | 2012-08-21 | 2017-07-18 | Uop Llc | Methane conversion apparatus and process using a supersonic flow reactor |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6245543A (ja) * | 1985-08-22 | 1987-02-27 | Toyo Soda Mfg Co Ltd | 高純度アセチレンガスの製造法 |
-
1987
- 1987-11-19 JP JP29070387A patent/JPH01132535A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6245543A (ja) * | 1985-08-22 | 1987-02-27 | Toyo Soda Mfg Co Ltd | 高純度アセチレンガスの製造法 |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5417947A (en) * | 1992-08-05 | 1995-05-23 | Corning Incorporated | System and method for removing hydrocarbons from gaseous mixtures |
| EP2272815A1 (en) * | 2009-06-23 | 2011-01-12 | Praxair Technology, Inc. | Processes for purification of acetylene |
| US8398747B2 (en) | 2009-06-23 | 2013-03-19 | Praxair Technology, Inc. | Processes for purification of acetylene |
| JP2011201809A (ja) * | 2010-03-25 | 2011-10-13 | Taiyo Nippon Sanso Corp | アセチレンの製造装置及び製造方法 |
| WO2014031316A3 (en) * | 2012-08-21 | 2014-04-17 | Uop Llc | Heavy hydrocarbon removal and methane conversion process using a supersonic flow reactor |
| US9707530B2 (en) | 2012-08-21 | 2017-07-18 | Uop Llc | Methane conversion apparatus and process using a supersonic flow reactor |
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