JPH01137201A - カラー固体撮像素子の製造方法 - Google Patents
カラー固体撮像素子の製造方法Info
- Publication number
- JPH01137201A JPH01137201A JP62296789A JP29678987A JPH01137201A JP H01137201 A JPH01137201 A JP H01137201A JP 62296789 A JP62296789 A JP 62296789A JP 29678987 A JP29678987 A JP 29678987A JP H01137201 A JPH01137201 A JP H01137201A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- color solid
- patterns
- pattern
- dye layers
- imaging device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
- G03F7/70605—Workpiece metrology
- G03F7/70616—Monitoring the printed patterns
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
- Color Television Image Signal Generators (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明はカラー固体撮像用素子表面にカラーフィルター
の各色素層を順次、フォトリソグラフィ法により形成し
、所定のカラーフィルターを上記カラー固体撮像用素子
表面に直接形成するカラー固体撮像素子の製造方法に係
わり、特にカラーフィルターの各色素層のパターン精度
を容易に確認し得るようにした製造方法に関する。
の各色素層を順次、フォトリソグラフィ法により形成し
、所定のカラーフィルターを上記カラー固体撮像用素子
表面に直接形成するカラー固体撮像素子の製造方法に係
わり、特にカラーフィルターの各色素層のパターン精度
を容易に確認し得るようにした製造方法に関する。
（従来の技術）
ガラス等の透明基板上にカラーフィルターを形成し、こ
れを固体撮像素子表面に接着層を介して接合してカラー
固体撮像素子を製造する方式の場合は、この透明基板上
の各色素層のパターンの精度の確認が容易であるが、カ
ラーフィルターをカラー固体撮像用素子表面に直接形成
してカラー固体撮像素子を製造する方法においては、色
素層が形成される受光部の材料がポリシリコン、アルミ
ニウム、シリコン単結晶等、数種の反射率の異なる材料
で複雑に構成されているため、各色素パターンの形状、
特、にエツジ部形状の確認が困難であって、フォトリソ
グラフィ工程での露光、現像、ピント合せ等の条件制御
を困難なものとしていた。
れを固体撮像素子表面に接着層を介して接合してカラー
固体撮像素子を製造する方式の場合は、この透明基板上
の各色素層のパターンの精度の確認が容易であるが、カ
ラーフィルターをカラー固体撮像用素子表面に直接形成
してカラー固体撮像素子を製造する方法においては、色
素層が形成される受光部の材料がポリシリコン、アルミ
ニウム、シリコン単結晶等、数種の反射率の異なる材料
で複雑に構成されているため、各色素パターンの形状、
特、にエツジ部形状の確認が困難であって、フォトリソ
グラフィ工程での露光、現像、ピント合せ等の条件制御
を困難なものとしていた。
（発明が解決しようとする問題点）
本発明はカラーフィルターの各色素パターンをカラー固
体撮像用素子上にフォトリソグラフィ法で形成する際に
各色素パターンの形状確認の容易化を図り、これによっ
てフォトリソグラフィ工程での露光、現像、ピント合せ
等の条件の制御を容易にし、カラーフィルターの各色素
パターン精度の向上を図らんとするものである。
体撮像用素子上にフォトリソグラフィ法で形成する際に
各色素パターンの形状確認の容易化を図り、これによっ
てフォトリソグラフィ工程での露光、現像、ピント合せ
等の条件の制御を容易にし、カラーフィルターの各色素
パターン精度の向上を図らんとするものである。
（問題を解決するための手段）
本発明はカラー固体撮像用素子上に各色素パターンをフ
ォトリソグラフィ法で形成する際の各色素パターンの形
状を容易に確認できるようにするため、各色素パターン
の形成と同時に、カラー固体撮像用素子が形成された単
位チップの受光領域周辺の余白部に、太さの異なる複数
種類の解像度チェックパターンを形成するようにした。
ォトリソグラフィ法で形成する際の各色素パターンの形
状を容易に確認できるようにするため、各色素パターン
の形成と同時に、カラー固体撮像用素子が形成された単
位チップの受光領域周辺の余白部に、太さの異なる複数
種類の解像度チェックパターンを形成するようにした。
この解像度チェックパターンが形成される上記余白部は
同一材料からなる部分が選ばれる。例えばシリコンのみ
からなる部分に、全ての色素層の全ての種類の解像度チ
ェックパターンを形成することが好ましい。なぜならば
、成る色素層において、解像度チェックパターンの一部
がシリコン上に、他の一部がアルミニウム層上に形成さ
れた場合は下からの反射がこれらシリコンおよびアルミ
ニウムで異なるため、解像度チェックパターン形状の統
一的判断が困難となるからである。同様に、成る色素層
の解１象度チェックパターンがシリコン上に、他の色素
層の解像度チェックパターンが例えばアルミニウム層上
に形成された場合も各色素層相互間の状態又は条件の比
較が困難となる。
同一材料からなる部分が選ばれる。例えばシリコンのみ
からなる部分に、全ての色素層の全ての種類の解像度チ
ェックパターンを形成することが好ましい。なぜならば
、成る色素層において、解像度チェックパターンの一部
がシリコン上に、他の一部がアルミニウム層上に形成さ
れた場合は下からの反射がこれらシリコンおよびアルミ
ニウムで異なるため、解像度チェックパターン形状の統
一的判断が困難となるからである。同様に、成る色素層
の解１象度チェックパターンがシリコン上に、他の色素
層の解像度チェックパターンが例えばアルミニウム層上
に形成された場合も各色素層相互間の状態又は条件の比
較が困難となる。
なお、形成される解像度チェックパターンの複数種のう
ちの１ｇ類はカラーフィルターの色素層のパターンの主
たる部分と同一又は近似の太さとすることが好ましい。
ちの１ｇ類はカラーフィルターの色素層のパターンの主
たる部分と同一又は近似の太さとすることが好ましい。
解像度チェックパターンの形状について特に制限はない
が、複数方向においてパターンの膨らみ、細りが確認し
得る形状のものが好ましい。
が、複数方向においてパターンの膨らみ、細りが確認し
得る形状のものが好ましい。
（作用）
単位チップの受光領域周辺の余白部で同一材料から構成
される部分に形成された複数群の色素パターンは基板が
同一材料であるため、下からの反射条件が同一であり、
したがって色素パターンの形状の確認が容品であり、そ
のため、受光領域に形成されたカラーフィルター用色素
パターンの形成状態、形成条件を確認するための指針と
して極めて有用なものとなる。
される部分に形成された複数群の色素パターンは基板が
同一材料であるため、下からの反射条件が同一であり、
したがって色素パターンの形状の確認が容品であり、そ
のため、受光領域に形成されたカラーフィルター用色素
パターンの形成状態、形成条件を確認するための指針と
して極めて有用なものとなる。
（実施例）
第１図は半導体ウェーハ表面に、受光領域、駆動領域等
を単位チップ毎に形成させたものの一部を拡大して示す
平面図であって、各単位チップはスクライブライン１に
よって囲まれ、中央部が受光領域２となっている。本発
明に係わる解像度チェックパターンは例えば受光領域２
周辺の余白部、例えばポンディングパッド３間の適当な
余白で、全域に亘って同一材料から構成され大部分（例
えば、破線で示した例えばＳｔのみからなる区域４）に
形成される。解像度チェックパターンはパターンの太さ
を種々変えた複数種類のものを各色素毎に、受光領域へ
のカラーフィルターのフォトリソグラフィ法による形成
と同時に形成される。第２図は成る一つの色素（例えば
、レッド、グリーン、ブルーのうちのいずれか）につい
ての解像度チェックパターンの一例を示している。即ち
図（Ａ）の如く４本の巾“ａ”の棒状パターンを類１ｍ
状に間隔“ａ”を以って横方向および縦方向に並列させ
た組、図（Ｂ）の如く図（Ａ）より若干狭い１１Ｊ“ｂ
″および間隔“ｂ”で棒状パターンを同様に並列させた
組、図（Ｃ）の如く図（Ｂ）より若干狭い巾“Ｃｏおよ
び間隔“Ｃ”で棒状パターンを同様に並列させた組、図
（Ｄ）の如く図（Ｃ）より若干狭い巾“Ｄ”および間隔
“ｄ”で棒状パターンを同様に並列させた組から構成さ
れている。
を単位チップ毎に形成させたものの一部を拡大して示す
平面図であって、各単位チップはスクライブライン１に
よって囲まれ、中央部が受光領域２となっている。本発
明に係わる解像度チェックパターンは例えば受光領域２
周辺の余白部、例えばポンディングパッド３間の適当な
余白で、全域に亘って同一材料から構成され大部分（例
えば、破線で示した例えばＳｔのみからなる区域４）に
形成される。解像度チェックパターンはパターンの太さ
を種々変えた複数種類のものを各色素毎に、受光領域へ
のカラーフィルターのフォトリソグラフィ法による形成
と同時に形成される。第２図は成る一つの色素（例えば
、レッド、グリーン、ブルーのうちのいずれか）につい
ての解像度チェックパターンの一例を示している。即ち
図（Ａ）の如く４本の巾“ａ”の棒状パターンを類１ｍ
状に間隔“ａ”を以って横方向および縦方向に並列させ
た組、図（Ｂ）の如く図（Ａ）より若干狭い１１Ｊ“ｂ
″および間隔“ｂ”で棒状パターンを同様に並列させた
組、図（Ｃ）の如く図（Ｂ）より若干狭い巾“Ｃｏおよ
び間隔“Ｃ”で棒状パターンを同様に並列させた組、図
（Ｄ）の如く図（Ｃ）より若干狭い巾“Ｄ”および間隔
“ｄ”で棒状パターンを同様に並列させた組から構成さ
れている。
これら（Ａ）ないしくＤ）のうちの一つの組（例えば図
（Ｃ）の組）はカラーフィルターの色素層の主たるパタ
ーン寸法と同一又は近似の寸法にすることが実物的に判
断する手掛りとなることから好ましい。上記パターンの
中および間隔“ａ“、“ｂ”、“Ｃｏおよび“ｄ“の寸
法の具体例としてはそれぞれ２０μｍ１１０μｍ ｓ
５ 、 ０μｍおよび３．０μｍである。これら解像度
チェックパターンは各色素層毎に、かつ、全て同一材料
上に形成される。例えば、区域４に形成しきれない場合
は同一材料からなる他の区域４′に形成する。
（Ｃ）の組）はカラーフィルターの色素層の主たるパタ
ーン寸法と同一又は近似の寸法にすることが実物的に判
断する手掛りとなることから好ましい。上記パターンの
中および間隔“ａ“、“ｂ”、“Ｃｏおよび“ｄ“の寸
法の具体例としてはそれぞれ２０μｍ１１０μｍ ｓ
５ 、 ０μｍおよび３．０μｍである。これら解像度
チェックパターンは各色素層毎に、かつ、全て同一材料
上に形成される。例えば、区域４に形成しきれない場合
は同一材料からなる他の区域４′に形成する。
以上詳述したように、本発明はカラー固体撮像用素子表
面にカラーフィルターの各色素層を順次、写真蝕刻法に
より形成し、所定のカラーフィルターを上記カラー固体
撮像用素子表面に直接形成するカラー固体撮像素子の製
造方法において、上記各色素層の形成と同時に、上記カ
ラーの固体撮像用素子が形成された単位チップの受光領
域周辺の余白部で同一材料からなる部分に太さの異なる
複数種類のパターンを各色素層毎に形成し、これらパタ
ーンに基づいてフォトリソグラフィ工程の諸条件および
各色素層の精度を確認するようにしたから、各色素層の
形成における適正条件の選択がより容品となる。
面にカラーフィルターの各色素層を順次、写真蝕刻法に
より形成し、所定のカラーフィルターを上記カラー固体
撮像用素子表面に直接形成するカラー固体撮像素子の製
造方法において、上記各色素層の形成と同時に、上記カ
ラーの固体撮像用素子が形成された単位チップの受光領
域周辺の余白部で同一材料からなる部分に太さの異なる
複数種類のパターンを各色素層毎に形成し、これらパタ
ーンに基づいてフォトリソグラフィ工程の諸条件および
各色素層の精度を確認するようにしたから、各色素層の
形成における適正条件の選択がより容品となる。
第１図はカラー固体撮像用素子を形成した受光領域、そ
の他部動領域等を有する半導体ウェーハの一部を拡大し
て示す平面図、第２図は解像度チェックパターンの一例
を示す平面図である。 １・・・スクライブライン、２・・・受光領域、３・・
・ポンディングパッド、４．４’ ・・・解像度チェッ
クパターン形成区域。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 −つ
の他部動領域等を有する半導体ウェーハの一部を拡大し
て示す平面図、第２図は解像度チェックパターンの一例
を示す平面図である。 １・・・スクライブライン、２・・・受光領域、３・・
・ポンディングパッド、４．４’ ・・・解像度チェッ
クパターン形成区域。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 −つ
Claims (3)
- （１）カラー固体撮像用素子の上にカラーフィルターの
各色素層を順次、フォトリソグラフィ法により形成し、
所定のカラーフィルターを上記カラー固体撮像用素子表
面に直接形成するカラー固体撮像素子の製造方法におい
て、上記フォトリソグラフィ法の諸条件下での各色素層
のパターンの精度を確認するため、上記各色素層の形成
と同時に、上記カラー固体撮像用素子が形成された単位
チップの受光領域周辺の余白部であって、同一材料から
なる部分の上に、太さの異なる複数種類の解像度チェッ
クパターンを各色素層毎に形成することを特徴とするカ
ラー固体撮像素子の製造方法。 - （２）複数種類の解像度チェックパターンが各色素層の
パターンの主たる部分の太さと同一又は近似する太さの
ものを１種類含むものからなる特許請求の範囲第１項記
載の製造方法。 - （３）解像度チェックパターンが一方向に並列した短冊
状の組と、これに直交する方向に並列した短冊状の組と
からなる特許請求の範囲第１項記載の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29678987A JPH0638122B2 (ja) | 1987-11-25 | 1987-11-25 | カラー固体撮像素子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29678987A JPH0638122B2 (ja) | 1987-11-25 | 1987-11-25 | カラー固体撮像素子の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01137201A true JPH01137201A (ja) | 1989-05-30 |
| JPH0638122B2 JPH0638122B2 (ja) | 1994-05-18 |
Family
ID=17838150
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29678987A Expired - Lifetime JPH0638122B2 (ja) | 1987-11-25 | 1987-11-25 | カラー固体撮像素子の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0638122B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1231647A1 (en) * | 2001-02-08 | 2002-08-14 | STMicroelectronics Limited | Reference data coding in solid state image sensors |
-
1987
- 1987-11-25 JP JP29678987A patent/JPH0638122B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1231647A1 (en) * | 2001-02-08 | 2002-08-14 | STMicroelectronics Limited | Reference data coding in solid state image sensors |
| US6812058B2 (en) | 2001-02-08 | 2004-11-02 | Stmicroelectronics Ltd. | Reference data coding in solid state image sensors |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0638122B2 (ja) | 1994-05-18 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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