JPH01138524A - レーザ光走査光学装置 - Google Patents
レーザ光走査光学装置Info
- Publication number
- JPH01138524A JPH01138524A JP62296223A JP29622387A JPH01138524A JP H01138524 A JPH01138524 A JP H01138524A JP 62296223 A JP62296223 A JP 62296223A JP 29622387 A JP29622387 A JP 29622387A JP H01138524 A JPH01138524 A JP H01138524A
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- JP
- Japan
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- optical device
- laser
- optical
- laser beam
- polygon mirror
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- Pending
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- Laser Beam Printer (AREA)
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、画素密度の異なる光書込みを行なうレーザプ
リンタ等のレーザ光走査光学装置に関するものである。
リンタ等のレーザ光走査光学装置に関するものである。
(従来の技術)
従来、レーザプリンタ等においては5画素密度の異なる
画像を得るには、光学装置全体を取換える必要があった
。
画像を得るには、光学装置全体を取換える必要があった
。
第5図は従来のレーザプリンタの光学装置の概略図を示
し、図において、1は半導体レーザ、2は点光源である
半導体レーザから出射され拡散されていくレーザ光を平
行光にするコリメートレンズ、3はレーザ光のビーム径
を決定するアパーチャを有する絞り部材、4はこの絞り
部材のアパーチャを通ったレーザ光を書込み媒体上に結
像させる第1のシリンドリカルレンズ、5はレーザ光を
反射して書込み媒体上を先主走査(矢印A)させる回転
多面鏡、6はfθレンズであり、書込み媒体上の中央部
と端部で走査速度が一定となるように補正する。7は第
2のシリンドリカルレンズで。
し、図において、1は半導体レーザ、2は点光源である
半導体レーザから出射され拡散されていくレーザ光を平
行光にするコリメートレンズ、3はレーザ光のビーム径
を決定するアパーチャを有する絞り部材、4はこの絞り
部材のアパーチャを通ったレーザ光を書込み媒体上に結
像させる第1のシリンドリカルレンズ、5はレーザ光を
反射して書込み媒体上を先主走査(矢印A)させる回転
多面鏡、6はfθレンズであり、書込み媒体上の中央部
と端部で走査速度が一定となるように補正する。7は第
2のシリンドリカルレンズで。
回転多面鏡の面を補正する。8は前述した書込み媒体と
しての感光体ドラムである。
しての感光体ドラムである。
ところで、このように構成された光学装置において、感
光体上での異なる画素密度を得ようとする場合、レーザ
ビーム径と回転多面鏡の回転数とを変える必要がある。
光体上での異なる画素密度を得ようとする場合、レーザ
ビーム径と回転多面鏡の回転数とを変える必要がある。
例えば、画素密度300dpiと240dpiのとき、
ビーム径120μmと150μllt回転数300Or
pmと240Orpmがそれぞれ対応するので変更させ
る。この場合、レンズ、アパーチャなどの光学系の変更
が必要であり、1つの光学系を共通に使用できないため
、全体を取換えていた。このため、取換えの手間と時間
を要し、簡単でなかった。
ビーム径120μmと150μllt回転数300Or
pmと240Orpmがそれぞれ対応するので変更させ
る。この場合、レンズ、アパーチャなどの光学系の変更
が必要であり、1つの光学系を共通に使用できないため
、全体を取換えていた。このため、取換えの手間と時間
を要し、簡単でなかった。
(発明の目的)
本発明は、レーザビーム径に関係するレーザ光学装置を
複数備え、その中の画素密度に対応するレーザ光学装置
を使用するようにして光学装置全体の取換えを排除する
ことを目的とするものである。
複数備え、その中の画素密度に対応するレーザ光学装置
を使用するようにして光学装置全体の取換えを排除する
ことを目的とするものである。
(構成および作用)
本発明は、上記目的を達成するため、画素密度の異なる
画像に対応した複数のレーザ光学装置を備え1選択され
た画像密度のレーザ光学装置に対応する回転多面鏡の回
転数2画素周波数によって光書込み装置を駆動すること
を特徴とするものである。
画像に対応した複数のレーザ光学装置を備え1選択され
た画像密度のレーザ光学装置に対応する回転多面鏡の回
転数2画素周波数によって光書込み装置を駆動すること
を特徴とするものである。
従って1本発明は、画素密度の異なる画像に対して光学
装置全体の取換えを必要とせず、画素密度に対応したレ
ーザビーム径を有するレーザ光学装置の1つを使用し、
その時の回転多面鏡の回転数2画素周波数を変更して光
書込みを行なうものである。
装置全体の取換えを必要とせず、画素密度に対応したレ
ーザビーム径を有するレーザ光学装置の1つを使用し、
その時の回転多面鏡の回転数2画素周波数を変更して光
書込みを行なうものである。
(実施例)
第1図は本発明の一実施例を示し、第4図と同一数字記
号は同じものである0本実施例においては、レーザビー
ム径に関係する半導体レーザ1゜コリメートレンズ2.
アパーチャを有する絞り部材3.第1のシリンドリカル
レンズ4を1つの光学ハウジング9に収容したレーザ光
学装置9A。
号は同じものである0本実施例においては、レーザビー
ム径に関係する半導体レーザ1゜コリメートレンズ2.
アパーチャを有する絞り部材3.第1のシリンドリカル
レンズ4を1つの光学ハウジング9に収容したレーザ光
学装置9A。
9Bを備え、ビームスプリッタ10を介して回転多面@
5.fθレンズ6、第2のシリンドリカルレンズ7で感
光体ドラム8への光書込み光軸を形成する。なお、11
は遮光板である。
5.fθレンズ6、第2のシリンドリカルレンズ7で感
光体ドラム8への光書込み光軸を形成する。なお、11
は遮光板である。
このように構成されているので、使用者は画素密度の異
なる画像に対応してレーザ光学袋[9Aまたは9Bを選
択し、それに応じて回転多面鏡5の回転数を図示せざる
制御回路によって変更し、光学系以外の変更箇所である
画素周波数なども合わせて選択することによって書込む
ことができる。
なる画像に対応してレーザ光学袋[9Aまたは9Bを選
択し、それに応じて回転多面鏡5の回転数を図示せざる
制御回路によって変更し、光学系以外の変更箇所である
画素周波数なども合わせて選択することによって書込む
ことができる。
第2図は本発明の別の実施例を示し、光学ハウジング本
体12に、レーザ光学装置9Aまたは9Bを装着または
脱着しうるセット機構12Aを備える。
体12に、レーザ光学装置9Aまたは9Bを装着または
脱着しうるセット機構12Aを備える。
このセット機構には、例えばマイクロスイッチによるス
イッチ12aを備え、レーザ光学装置[9Aまたは9B
が装着または脱着されるとき、その係合部9aまたは9
bによってスイッチ12aがON。
イッチ12aを備え、レーザ光学装置[9Aまたは9B
が装着または脱着されるとき、その係合部9aまたは9
bによってスイッチ12aがON。
OFFされる。このスイッチは、係合部によってレーザ
光学装置9Aまたは9Bのセット、リセット状況を判断
し、画素密度の変更を図示せざる制御回路に送る。これ
によって、制御回路は回転多面鏡5の回転数2画素周波
数などの必要とする変更を行ない、書込みを行なうもの
である。
光学装置9Aまたは9Bのセット、リセット状況を判断
し、画素密度の変更を図示せざる制御回路に送る。これ
によって、制御回路は回転多面鏡5の回転数2画素周波
数などの必要とする変更を行ない、書込みを行なうもの
である。
次に、上述したように1画素密度の異なる、例えば30
0dpiと240dpiの2種類の光走査装置を実現さ
せるのに光書込みとして必要なのは。
0dpiと240dpiの2種類の光走査装置を実現さ
せるのに光書込みとして必要なのは。
(ア) 感光体上のレーザビーム径を所望の大きさにす
ること、およびビームウェスト位置を概ね同等にするこ
と、 (イ)回転多面鏡の回転数を所望の値にする、ことであ
る。この場合、画素密度を300dpiから240dp
iとしたとき、光学的には副走査方向のビーム径は大き
くしなければならない、このとき、単純にアパーチャ3
の径を大きくしてビーム径を所望の値としても、ウェス
ト位置がずれてしまうことになる。これは、ウェスト位
置がアパーチャ3の径、シリンドリカルレンズ4の設定
位置および焦点距離の3つの要因に左右されるためであ
る。
ること、およびビームウェスト位置を概ね同等にするこ
と、 (イ)回転多面鏡の回転数を所望の値にする、ことであ
る。この場合、画素密度を300dpiから240dp
iとしたとき、光学的には副走査方向のビーム径は大き
くしなければならない、このとき、単純にアパーチャ3
の径を大きくしてビーム径を所望の値としても、ウェス
ト位置がずれてしまうことになる。これは、ウェスト位
置がアパーチャ3の径、シリンドリカルレンズ4の設定
位置および焦点距離の3つの要因に左右されるためであ
る。
このようなことから、各部品の位置を決め(固定)てお
き、アパーチャ径とシリンドリカルレンズの焦点距離を
適宜に組み合わせて、所望のビーム径とウェスト位置を
得ることができ、アパーチャとシリンドルカルレンズの
2つの部品を交換することで、画素密度の異なる光書込
みを行なうことができる。
き、アパーチャ径とシリンドリカルレンズの焦点距離を
適宜に組み合わせて、所望のビーム径とウェスト位置を
得ることができ、アパーチャとシリンドルカルレンズの
2つの部品を交換することで、画素密度の異なる光書込
みを行なうことができる。
第3図は、上述した点を考慮に入れた本発明のレーザ光
学装置の実施例を示す、半導体レーザ1をベース13に
押え板14で固定し、ネジ15で螺着する。ベース13
とコリメートレンズ2を保持したレンズホルダ16を、
フランジ17にネジ18でベース13ともども螺着する
。このレンズホルダ16は、ネジ16aが刻まれていて
、光軸方向に移動調整可能となっており、ネジ16aと
螺合するフランジ17と一体のベース13も光軸に垂直
な面内で移動可能となっている。また、カバー19はア
パーチャ3とシリンドリカルレンズ4を保持する構造に
なっていて、ネジ20によって前記カバー19とフラン
ジ17とは螺着されている。
学装置の実施例を示す、半導体レーザ1をベース13に
押え板14で固定し、ネジ15で螺着する。ベース13
とコリメートレンズ2を保持したレンズホルダ16を、
フランジ17にネジ18でベース13ともども螺着する
。このレンズホルダ16は、ネジ16aが刻まれていて
、光軸方向に移動調整可能となっており、ネジ16aと
螺合するフランジ17と一体のベース13も光軸に垂直
な面内で移動可能となっている。また、カバー19はア
パーチャ3とシリンドリカルレンズ4を保持する構造に
なっていて、ネジ20によって前記カバー19とフラン
ジ17とは螺着されている。
これは、第1図で述べた光学的に異なる部分を一体化し
たレーザ光学装置9Aまたは9Bを実現する。この実施
例によれば、レンズホルダ16のネジ16aの調節によ
り、シリンドリカルレンズ4の焦点距離を調整でき、シ
リンドリカルレンズ4とアパーチャ3の2つの部品交換
により、所望のビーム径と適宜なビームウェスト位置を
保つことができる。また、レーザ光学装置の種類を外観
上から判別できるよう、例えばレンズホルダに切欠き。
たレーザ光学装置9Aまたは9Bを実現する。この実施
例によれば、レンズホルダ16のネジ16aの調節によ
り、シリンドリカルレンズ4の焦点距離を調整でき、シ
リンドリカルレンズ4とアパーチャ3の2つの部品交換
により、所望のビーム径と適宜なビームウェスト位置を
保つことができる。また、レーザ光学装置の種類を外観
上から判別できるよう、例えばレンズホルダに切欠き。
着色等を行なうと便利である。
第4図は、第3図のレーザ光学装置(第1図の9Aまた
は9B)を光学ハウジング本体12(第2図)に取付け
る際の位置決め手段の一例を示す、カバー19と光学ハ
ウジング本体12とは、その光軸整合をとるための嵌込
凹部19A、凸部12Bを備え、窓12Cにカバー19
に取付けられたシリンドリカルレンズ4が回転多面鏡に
対向するように嵌込まれる。
は9B)を光学ハウジング本体12(第2図)に取付け
る際の位置決め手段の一例を示す、カバー19と光学ハ
ウジング本体12とは、その光軸整合をとるための嵌込
凹部19A、凸部12Bを備え、窓12Cにカバー19
に取付けられたシリンドリカルレンズ4が回転多面鏡に
対向するように嵌込まれる。
ネジ21は、光学ハウジング本体12へのレーザ光学装
置の取付用である。
置の取付用である。
(発明の効果)
以上述べたように1本発明は、第1図実施例のように1
画素密度の異なる画像の書込みに対し、複数(実施例で
は2種類であるが、これに限定されない)備えているの
で、光学系全体を取換えることなく簡単に対応できる。
画素密度の異なる画像の書込みに対し、複数(実施例で
は2種類であるが、これに限定されない)備えているの
で、光学系全体を取換えることなく簡単に対応できる。
また、第2図実施例のように、複数用意されたものを光
学ハウジング本体へ簡単に取換えセットすることも可能
であり、あるいは第3図実施例のように、一体化された
光学系のアパーチャの取換えおよびシリンドリカルレン
ズの焦点距離の調整機能によって、適正なビーム径とビ
ームウェストを保持しうる。そして、上記レーザ光学装
置の取換えにより、自動的に回転多面鏡の回転数2画素
周波数の変更ができるようになっているので5画素密度
の異なる画像の書込みに供して極めて便利である。
学ハウジング本体へ簡単に取換えセットすることも可能
であり、あるいは第3図実施例のように、一体化された
光学系のアパーチャの取換えおよびシリンドリカルレン
ズの焦点距離の調整機能によって、適正なビーム径とビ
ームウェストを保持しうる。そして、上記レーザ光学装
置の取換えにより、自動的に回転多面鏡の回転数2画素
周波数の変更ができるようになっているので5画素密度
の異なる画像の書込みに供して極めて便利である。
第1図ないし第4図は本発明の各実施例を示し、第1図
は光学装置に2種のレーザ光学装置を備えた一例、第2
図は光学ハウジング本体とレーザ光学装置とのセット機
構例、第3図はレーザ光学装置の組立構成例、第4図は
光学ハウジング本体とレーザ光学装置との位置決め構成
例、第5図はレーザ光走査装置の概略図である。 1・・・半導体レーザ、 2・・・コリメートレンズ
、 3・・・アパーチャ(絞り部材)、 4・・・第
1のシリンドリカルレンズ、 5・・・回転多面鏡、
6・・・fθレンズ、 7・・・第2のシリンドリカル
レンズ、 8・・・感光体ドラム、 9・・・光学ハ
ウジング、 9A、9B・・・レーザ光学装置、 9a
、 9b・・・係合部、10・・・ビームスプリッタ、
11・・・遮光板。 12・・・光学ハウジング本体、 12A・・・セット
機構、 12B・・・凸部、 12a・・・スイッチ、
13・・・ベース、 14・・・押え板、 15.16
a 。 18、20.21・・・ネジ、16・・・レンズホルダ
、17・・・フランジ、19・・・カバー、 19A・
・・凹部。 特許出願人 株式会社 リ コ − 第1図 1−1+4休t−r 2 vリメートbpX31
0.アパーチ!(較9部4才)4.−第111)ソノン
ドリηルし°ノズ5−1ロ転’91J鎚6− fe L
−z、に7−第2の71J)ドリカルレン人’ 8
3几体ドアL901.九字ハウブー、グ 9A、9B
−L−γL字艮110、、−ご−ム人アリ・7タ
11−7纏を板第2図 A 5、−口転枚面鏡 6.、−fe1.ン入゛7−幕2
9シソンドリηル[′、/久 8−2轡尤イ本ドラム
9A=L−ザを主尺J 9a−5孤合邪 12−先
学ハフジー7ケ本体+2A−t−,ドオM、h 1
2a−人イ、、千。 第3図 1−±4体し一ザ 2−コリメートしン入゛ 3−
7バー+メ(絞り都〕才)4−第1のレリンドり乃ルし
′/X: D−’N−人 14−オ!先級15j
6a、+8.20−ネ−; +6−レ′/λ庄\ル
ダ 17.−フランジ19、、.77バー 第4図
は光学装置に2種のレーザ光学装置を備えた一例、第2
図は光学ハウジング本体とレーザ光学装置とのセット機
構例、第3図はレーザ光学装置の組立構成例、第4図は
光学ハウジング本体とレーザ光学装置との位置決め構成
例、第5図はレーザ光走査装置の概略図である。 1・・・半導体レーザ、 2・・・コリメートレンズ
、 3・・・アパーチャ(絞り部材)、 4・・・第
1のシリンドリカルレンズ、 5・・・回転多面鏡、
6・・・fθレンズ、 7・・・第2のシリンドリカル
レンズ、 8・・・感光体ドラム、 9・・・光学ハ
ウジング、 9A、9B・・・レーザ光学装置、 9a
、 9b・・・係合部、10・・・ビームスプリッタ、
11・・・遮光板。 12・・・光学ハウジング本体、 12A・・・セット
機構、 12B・・・凸部、 12a・・・スイッチ、
13・・・ベース、 14・・・押え板、 15.16
a 。 18、20.21・・・ネジ、16・・・レンズホルダ
、17・・・フランジ、19・・・カバー、 19A・
・・凹部。 特許出願人 株式会社 リ コ − 第1図 1−1+4休t−r 2 vリメートbpX31
0.アパーチ!(較9部4才)4.−第111)ソノン
ドリηルし°ノズ5−1ロ転’91J鎚6− fe L
−z、に7−第2の71J)ドリカルレン人’ 8
3几体ドアL901.九字ハウブー、グ 9A、9B
−L−γL字艮110、、−ご−ム人アリ・7タ
11−7纏を板第2図 A 5、−口転枚面鏡 6.、−fe1.ン入゛7−幕2
9シソンドリηル[′、/久 8−2轡尤イ本ドラム
9A=L−ザを主尺J 9a−5孤合邪 12−先
学ハフジー7ケ本体+2A−t−,ドオM、h 1
2a−人イ、、千。 第3図 1−±4体し一ザ 2−コリメートしン入゛ 3−
7バー+メ(絞り都〕才)4−第1のレリンドり乃ルし
′/X: D−’N−人 14−オ!先級15j
6a、+8.20−ネ−; +6−レ′/λ庄\ル
ダ 17.−フランジ19、、.77バー 第4図
Claims (1)
- 画像密度の異なる画像に対応した複数のレーザ光学装置
を備え、選択された画像密度のレーザ光学装置に対応す
る回転多面鏡の回転数、画素周波数によって光書込み装
置を駆動することを特徴とするレーザ光走査光学装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62296223A JPH01138524A (ja) | 1987-11-26 | 1987-11-26 | レーザ光走査光学装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62296223A JPH01138524A (ja) | 1987-11-26 | 1987-11-26 | レーザ光走査光学装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01138524A true JPH01138524A (ja) | 1989-05-31 |
Family
ID=17830772
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62296223A Pending JPH01138524A (ja) | 1987-11-26 | 1987-11-26 | レーザ光走査光学装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01138524A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7180638B1 (en) | 2000-02-16 | 2007-02-20 | Ricoh Co., Ltd. | Network fax machine using a web page as a user interface |
| JP2009294238A (ja) * | 2008-06-02 | 2009-12-17 | Ricoh Co Ltd | 光走査装置および画像形成装置 |
-
1987
- 1987-11-26 JP JP62296223A patent/JPH01138524A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7180638B1 (en) | 2000-02-16 | 2007-02-20 | Ricoh Co., Ltd. | Network fax machine using a web page as a user interface |
| JP2009294238A (ja) * | 2008-06-02 | 2009-12-17 | Ricoh Co Ltd | 光走査装置および画像形成装置 |
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