JPH01141923A - プラズマ処理装置 - Google Patents
プラズマ処理装置Info
- Publication number
- JPH01141923A JPH01141923A JP30021687A JP30021687A JPH01141923A JP H01141923 A JPH01141923 A JP H01141923A JP 30021687 A JP30021687 A JP 30021687A JP 30021687 A JP30021687 A JP 30021687A JP H01141923 A JPH01141923 A JP H01141923A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plasma
- electrode
- plasma processing
- cylindrical electrode
- treatment
- Prior art date
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は高周波放電による低温プラズマを用いてプラズ
マ処理を行うプラズマ処理装置にかかわシ、特に、ポリ
オレフィン系樹脂成形物の表面を改質するためＫその表
面をプラズマで処理するのに好適なプラズマ処理装置に
関する。
マ処理を行うプラズマ処理装置にかかわシ、特に、ポリ
オレフィン系樹脂成形物の表面を改質するためＫその表
面をプラズマで処理するのに好適なプラズマ処理装置に
関する。
ポリオレフィン系樹脂は、周知のように、表面エネルギ
ーが小さいために接着性が悪い。この欠点を解消するた
めに、低温プラズマ処理による表面改質が有効であるこ
とが知られている・例えば、自動車のバンパには、最近
、ポリプロピレンを主成分とする材料が使用されるが、
これに塗装を施した場合、塗膜が剥離するという問題が
あった。
ーが小さいために接着性が悪い。この欠点を解消するた
めに、低温プラズマ処理による表面改質が有効であるこ
とが知られている・例えば、自動車のバンパには、最近
、ポリプロピレンを主成分とする材料が使用されるが、
これに塗装を施した場合、塗膜が剥離するという問題が
あった。
しかし、プラズマ処理によって表面を改質すると、表面
エネルギーが増大し、良好な接着性が得られることが知
られている〇 プラズマ処理には、マイクロ波プラズマ処理と高周波プ
ラズマ処理の２つの方式がある・前者は、プラズマを処
理室の外で発生させ被処理物へ導き照射する方式であ）
、この方式はプラズマを照射するシャワー管と呼ばれる
プラズマ照射口の真下における処理効果は良好であるが
、プラズマ照射口と反対側にある処理面の処理効果は極
度に悪い。
エネルギーが増大し、良好な接着性が得られることが知
られている〇 プラズマ処理には、マイクロ波プラズマ処理と高周波プ
ラズマ処理の２つの方式がある・前者は、プラズマを処
理室の外で発生させ被処理物へ導き照射する方式であ）
、この方式はプラズマを照射するシャワー管と呼ばれる
プラズマ照射口の真下における処理効果は良好であるが
、プラズマ照射口と反対側にある処理面の処理効果は極
度に悪い。
一方、後者は、反応室全体にプラズマを発生させること
が可能なため、被処理物全体を均一に処理することがで
きるものの、その処理程度は悪く、十分な接着性を与え
ることができなかっ九〇これらの問題を解決する方法と
して、特開昭５９−１９９７２６号公報に示されるよう
なマイクロ波プラズマ処理と高周波プラズマ処理とを併
用して処理する方法が提案されている。
が可能なため、被処理物全体を均一に処理することがで
きるものの、その処理程度は悪く、十分な接着性を与え
ることができなかっ九〇これらの問題を解決する方法と
して、特開昭５９−１９９７２６号公報に示されるよう
なマイクロ波プラズマ処理と高周波プラズマ処理とを併
用して処理する方法が提案されている。
上記従来技術は、高周波プラズマ処理における表面劣化
に起因する接着力低下の問題について配慮がされておら
ず、実用上十分な接着力を得ることができないという問
題があった。すなわち、プラズマ中に存在するイオンは
高エネルギー状態で被処理物に衝突し、樹脂表面は一部
分解を起こし、強度の弱い層をつくる。この層が塗膜と
の接着力を低下させる原因となりていた・ 本発明の目的は、上記した問題を解決し、高周波プラズ
マ処理によって十分な接着性を得ることのできるプラズ
マ処理装置を提供することにある。
に起因する接着力低下の問題について配慮がされておら
ず、実用上十分な接着力を得ることができないという問
題があった。すなわち、プラズマ中に存在するイオンは
高エネルギー状態で被処理物に衝突し、樹脂表面は一部
分解を起こし、強度の弱い層をつくる。この層が塗膜と
の接着力を低下させる原因となりていた・ 本発明の目的は、上記した問題を解決し、高周波プラズ
マ処理によって十分な接着性を得ることのできるプラズ
マ処理装置を提供することにある。
上記目的は、円筒状処理室とこの内部に設置された円筒
状電極との間に高周波電力を印加して両者の間で放電を
起こし、電極の内側に設置した被処理物をプラズマ処理
する装置において、該円筒状電極に多数の小穴を設ける
とともに、該円筒状電極の内側でかつ被処理物の設置位
置の外側に、多数の小穴を有する導電性の円筒を設ける
ことにより、達成される。
状電極との間に高周波電力を印加して両者の間で放電を
起こし、電極の内側に設置した被処理物をプラズマ処理
する装置において、該円筒状電極に多数の小穴を設ける
とともに、該円筒状電極の内側でかつ被処理物の設置位
置の外側に、多数の小穴を有する導電性の円筒を設ける
ことにより、達成される。
本発明に用いる円筒は金属など導電性の材料のものであ
ればよく、通常は電気的に浮かせて使用する０また、円
筒状電極および円筒にそれぞれ設ける小穴はガスを通過
させるための開口部であるため、穴と穴との間隔は小さ
いほどよい０〔作用〕 上記構成によシ、円筒状処理室の壁と円筒状電極との間
で発生したプラズマが処理室全体に広がるとき、高エネ
ルギーを持ったイオンは円筒状電極の内側に設けられた
導電性の円筒に衝突して多くのエネルギーを失う・この
ため、高エネルギーイオンのダメージによる被処理表面
の劣化層は生成せず、従って、高周波プラズマ処理にお
ける処理効果の低下すなわち接着力の低下を−ぐことが
できる。
ればよく、通常は電気的に浮かせて使用する０また、円
筒状電極および円筒にそれぞれ設ける小穴はガスを通過
させるための開口部であるため、穴と穴との間隔は小さ
いほどよい０〔作用〕 上記構成によシ、円筒状処理室の壁と円筒状電極との間
で発生したプラズマが処理室全体に広がるとき、高エネ
ルギーを持ったイオンは円筒状電極の内側に設けられた
導電性の円筒に衝突して多くのエネルギーを失う・この
ため、高エネルギーイオンのダメージによる被処理表面
の劣化層は生成せず、従って、高周波プラズマ処理にお
ける処理効果の低下すなわち接着力の低下を−ぐことが
できる。
以下、本発明の一実施例を第１図、第２図および第３図
によ）説明する。
によ）説明する。
第１図は該実施例のプラズマ処理装置の概略構成図、第
２図はその断面図である。図において、処理室１は直径
が２ｍ、長さが２．５ｍの円筒状の密閉容器であシ、ガ
ス導入口２と排気口３を備えている・ガス導入口２には
図示しない０２ガスボンベが、また排気口５には図示し
ない油回転ポンプが、それぞれ接続されている。処理室
１の内部には、円筒状の電極４と、さらに電極４の内側
に金属製円筒５が、同心的に設けられている◇処理室１
の内壁と電極４との距離は５０ｍｍ、電極４と金属製円
筒５との距離は７０ｍｍである。電極４および金属製円
筒５には、第３図に示すように、複数のガス通過用の小
穴６が設けられている。電極４はマツチング回路（図示
せず）を含む高周波電源７（周波数： １１５６ ＭＨ
ｚ−）に接続されている。処理室１はアース電位にして
あ）、金属製円筒５は電気的に浮かせである。放電は電
極４と処理室１−の内壁との間で起とシ、プラズマ化さ
れたガスは電極４と金属製円筒５それぞれの小穴６を通
過して、金属製円筒５の内部に設置された被処理獣図示
せず）に到達し、プラズマ処理が行われる。
２図はその断面図である。図において、処理室１は直径
が２ｍ、長さが２．５ｍの円筒状の密閉容器であシ、ガ
ス導入口２と排気口３を備えている・ガス導入口２には
図示しない０２ガスボンベが、また排気口５には図示し
ない油回転ポンプが、それぞれ接続されている。処理室
１の内部には、円筒状の電極４と、さらに電極４の内側
に金属製円筒５が、同心的に設けられている◇処理室１
の内壁と電極４との距離は５０ｍｍ、電極４と金属製円
筒５との距離は７０ｍｍである。電極４および金属製円
筒５には、第３図に示すように、複数のガス通過用の小
穴６が設けられている。電極４はマツチング回路（図示
せず）を含む高周波電源７（周波数： １１５６ ＭＨ
ｚ−）に接続されている。処理室１はアース電位にして
あ）、金属製円筒５は電気的に浮かせである。放電は電
極４と処理室１−の内壁との間で起とシ、プラズマ化さ
れたガスは電極４と金属製円筒５それぞれの小穴６を通
過して、金属製円筒５の内部に設置された被処理獣図示
せず）に到達し、プラズマ処理が行われる。
上記の装置を用い、下記の条件でプラズマ処理を行った
Ｏ 被処理物：ポリプロピレン製パンパ（三井石油化学製Ｍ
９５９６ Ｂ、寸法： １．７ｍＸα４ｍＸｃＬ９ｍ
、肉厚：３ｍｍ） 処理型カニ５ｋＷ 処理ガス：０２ ガス圧カニ１５ Ｔｏｒｒ ガス流量： ２ ｌ！／ｍｉｎ 処理時間＝１０日ｅａ 処理効果の評価は、粘着テープによる基盤目引き剥し試
験によシ行った。すなわち、被処理物の処理面をポリウ
レタン系塗料で塗装後、塗膜にカッターナイフで縦横そ
れぞれ２ｍｍ幅の切れ目を入れ（全面積４００ｍｍす、
この部分の粘着テープによる引き刺しを行ない、剥離し
た基盤目の数によって接着性を調べた。
Ｏ 被処理物：ポリプロピレン製パンパ（三井石油化学製Ｍ
９５９６ Ｂ、寸法： １．７ｍＸα４ｍＸｃＬ９ｍ
、肉厚：３ｍｍ） 処理型カニ５ｋＷ 処理ガス：０２ ガス圧カニ１５ Ｔｏｒｒ ガス流量： ２ ｌ！／ｍｉｎ 処理時間＝１０日ｅａ 処理効果の評価は、粘着テープによる基盤目引き剥し試
験によシ行った。すなわち、被処理物の処理面をポリウ
レタン系塗料で塗装後、塗膜にカッターナイフで縦横そ
れぞれ２ｍｍ幅の切れ目を入れ（全面積４００ｍｍす、
この部分の粘着テープによる引き刺しを行ない、剥離し
た基盤目の数によって接着性を調べた。
上記処理を行ったバンパをこの基盤目引き剥し試験で評
価したところ、一つの基盤目も剥れず、優れた接着性を
示した。
価したところ、一つの基盤目も剥れず、優れた接着性を
示した。
次に、第４図によシ比較例を説明する０第４図に示した
装置は、実施例で用いた第１図に示した装置と比較して
、第１図にある金属製同筒５がない点だけ異なシ、他の
構成はすべて同じである。
装置は、実施例で用いた第１図に示した装置と比較して
、第１図にある金属製同筒５がない点だけ異なシ、他の
構成はすべて同じである。
第４図に示した装置を用いて、実施例と全く同じ条件で
プラズマ処理したところ、塗膜とバンパとの接着力は満
足すべき結果を示さなかった０すなわち、粘着テープに
よる基盤目引き剥し試験において、１〜２個の基盤目が
剥離する場所があったＯ 〔発明の効果〕 以上述べたように、本発明によれば、プラスチック被処
理物のプラズマ処理を行うに際して従来問題であったプ
ラズマ中のイオンダメージによるプラスチック表面の劣
化を防ぐことができる０このため、処理電力を大きくし
て、短時間で処理することが可能となシ、生産性を向上
することができる。
プラズマ処理したところ、塗膜とバンパとの接着力は満
足すべき結果を示さなかった０すなわち、粘着テープに
よる基盤目引き剥し試験において、１〜２個の基盤目が
剥離する場所があったＯ 〔発明の効果〕 以上述べたように、本発明によれば、プラスチック被処
理物のプラズマ処理を行うに際して従来問題であったプ
ラズマ中のイオンダメージによるプラスチック表面の劣
化を防ぐことができる０このため、処理電力を大きくし
て、短時間で処理することが可能となシ、生産性を向上
することができる。
第１図は本発明の一実施例のプラズマ処理装置の概略構
成図、第２図は第１図の断面図、第５図は第１図の電極
および金属製円筒に設けるガス通過用小穴を示した部分
拡大図、第４図は比較例のプラズマ処理装置の概略構成
図である。 ４・・・電極、５・・・金属製円筒、６・・・ガス通過
用の小穴＠ 第 １ 図 第 、３ 図 ６一カ゛ス通Ａ１８のノ１＼チζ 第４０
成図、第２図は第１図の断面図、第５図は第１図の電極
および金属製円筒に設けるガス通過用小穴を示した部分
拡大図、第４図は比較例のプラズマ処理装置の概略構成
図である。 ４・・・電極、５・・・金属製円筒、６・・・ガス通過
用の小穴＠ 第 １ 図 第 、３ 図 ６一カ゛ス通Ａ１８のノ１＼チζ 第４０
Claims (1)
- １、円筒状処理室とこの内部に設置された円筒状電極と
の間に高周波電力を印加して両者の間で放電を起こし、
該円筒状電極の内側に設置した被処理物をプラズマ処理
する装置において、該円筒状電極は多数の小穴を具備す
るとともに、該円筒状電極の内側でかつ被処理物の設置
位置よりも外側に、多数の小穴を有する導電性の円筒を
設けたことを特徴とするプラズマ処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30021687A JPH01141923A (ja) | 1987-11-30 | 1987-11-30 | プラズマ処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30021687A JPH01141923A (ja) | 1987-11-30 | 1987-11-30 | プラズマ処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01141923A true JPH01141923A (ja) | 1989-06-02 |
Family
ID=17882116
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30021687A Pending JPH01141923A (ja) | 1987-11-30 | 1987-11-30 | プラズマ処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01141923A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2243148B1 (en) * | 2008-01-25 | 2016-08-03 | Novartis AG | Apparatus for the plasma treatment of contact lens molds made of glass |
-
1987
- 1987-11-30 JP JP30021687A patent/JPH01141923A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2243148B1 (en) * | 2008-01-25 | 2016-08-03 | Novartis AG | Apparatus for the plasma treatment of contact lens molds made of glass |
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