JPH01149255A - センタリング装置 - Google Patents
センタリング装置Info
- Publication number
- JPH01149255A JPH01149255A JP62305722A JP30572287A JPH01149255A JP H01149255 A JPH01149255 A JP H01149255A JP 62305722 A JP62305722 A JP 62305722A JP 30572287 A JP30572287 A JP 30572287A JP H01149255 A JPH01149255 A JP H01149255A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- disk
- pressure
- outer peripheral
- peripheral surface
- air
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Holding Or Fastening Of Disk On Rotational Shaft (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的〕
(産業上の利用分e)
本発明は1例えば光デイスク用ガラス原盤の記録装置に
係り、特に、記録円盤の重心と回転モータの回転軸中心
を一致させるためのセンタリング装置に関する。
係り、特に、記録円盤の重心と回転モータの回転軸中心
を一致させるためのセンタリング装置に関する。
(従来の技術)
光デイスク用ガラス原盤に対し、レーザー光を用いて信
号を記録又は記録するためのフォーマツティングを行な
うとき1回転モーター上に置かれたガラス原盤の重心と
回転モーターの回転軸中心とのセンタリングが不十分で
あると、ガラス原盤の重心の偏心による遠心力が作用し
記録に有害な回転軸の振れ回りや回転角速度のむらが生
じる。
号を記録又は記録するためのフォーマツティングを行な
うとき1回転モーター上に置かれたガラス原盤の重心と
回転モーターの回転軸中心とのセンタリングが不十分で
あると、ガラス原盤の重心の偏心による遠心力が作用し
記録に有害な回転軸の振れ回りや回転角速度のむらが生
じる。
従来WX7図に示すようにガラス原盤2の中心孔を回転
モータ3の回転軸4の中央のボスに挿入して1両者の機
械的なはめあいによりセンタリングを行なっていた。
モータ3の回転軸4の中央のボスに挿入して1両者の機
械的なはめあいによりセンタリングを行なっていた。
しかしながら、上記従来のセンタリング方法にありては
、ガラス原盤2の中心孔の寸法MKが悪く回転モータ3
の回転軸4との間−こ少なからぬすき間があり、高W1
度なセンタリングが望めなかった。
、ガラス原盤2の中心孔の寸法MKが悪く回転モータ3
の回転軸4との間−こ少なからぬすき間があり、高W1
度なセンタリングが望めなかった。
(発明が解決しようとする問題点)
記録円盤を回転モーターによって回転させながら信号を
記録すると′#、記録円盤の重心と回転モーターの回転
軸が一致していないことに起因する回転軸の撮れ回りや
回転角速妾のむなが生じ、原盤記録m度が悪化するとい
う問題があった0本発明は上記事情に鑑みてなされたも
ので記録円盤の振れ回りや回転むらを生じさせないため
に中心孔の寸法公差以上のg度でセンタリングを行なう
ことを目的とする。
記録すると′#、記録円盤の重心と回転モーターの回転
軸が一致していないことに起因する回転軸の撮れ回りや
回転角速妾のむなが生じ、原盤記録m度が悪化するとい
う問題があった0本発明は上記事情に鑑みてなされたも
ので記録円盤の振れ回りや回転むらを生じさせないため
に中心孔の寸法公差以上のg度でセンタリングを行なう
ことを目的とする。
(問題点を解決するための手段)
本発明のセンタリング襞瞠にあっては。
円盤と。
この円盤を移動自在に載置する載置部材と。
円盤が所定位置に配置された時に円盤の外1[に対する
圧力がほぼ等しくなるような圧力を円盤の外周面に少な
くとも異なる2方向から付与する圧力付与手段とを具備
して構成している。
圧力がほぼ等しくなるような圧力を円盤の外周面に少な
くとも異なる2方向から付与する圧力付与手段とを具備
して構成している。
(作用)
このように構成されたものであっては1円盤が所定位a
<円盤の重心位置と載置部材の回転中心位置が一致する
位1t)からずれている時には1円盤の外周面に対する
圧力に差が生じる0円盤の外周面に作用する圧力は、あ
らη)じめ円盤が所定位置に配置された状態で釣合うよ
うに設定されているため1円盤は、外局面に作用する圧
力がすべて等しくなる位置まで圧力差Iこより移動し、
圧力がすべて等しくなった位置で静止する。
<円盤の重心位置と載置部材の回転中心位置が一致する
位1t)からずれている時には1円盤の外周面に対する
圧力に差が生じる0円盤の外周面に作用する圧力は、あ
らη)じめ円盤が所定位置に配置された状態で釣合うよ
うに設定されているため1円盤は、外局面に作用する圧
力がすべて等しくなる位置まで圧力差Iこより移動し、
圧力がすべて等しくなった位置で静止する。
この静止した位置が所定位置、すなわち円盤の重心位置
と載置部材の回転中心位置が一致した位置であるゆ (実施例) 以下図面を参照して本発明の実施例について説明する。
と載置部材の回転中心位置が一致した位置であるゆ (実施例) 以下図面を参照して本発明の実施例について説明する。
第1図は1本発明の第1の実施列を示すものであり1回
転モータ3に回転自在に支持されたターンテーブル7の
上にガラス原盤2が載置されている。このガラス原盤2
の表面には、レーザ元を用いて信号が記録又は記録する
ためのフォーマリティングが行なわれる。
転モータ3に回転自在に支持されたターンテーブル7の
上にガラス原盤2が載置されている。このガラス原盤2
の表面には、レーザ元を用いて信号が記録又は記録する
ためのフォーマリティングが行なわれる。
このガラス原盤2の周囲には、ガラス原a2の周囲に圧
力を付与するためのエアー吹き出しノズルlが3個等間
隔に配置されている。エアー吹き出しノズル1は120
°等配であると同時に回転そ一タ3の回転軸4(回転中
心)から等距離に初期調整をした後に固定しである。
力を付与するためのエアー吹き出しノズルlが3個等間
隔に配置されている。エアー吹き出しノズル1は120
°等配であると同時に回転そ一タ3の回転軸4(回転中
心)から等距離に初期調整をした後に固定しである。
ノズル1にはそれぞれ二了−供給管5から同じ元圧力の
エアーが供給され、ガラス原盤2の外周面6に対してエ
アーを吹゛き付ける1回転軸4とガラス原盤2の重心位
置がずれている時には、各々のノズル1とガラス原盤2
の外周面6tでのギャップが異なりエアーの圧力も異な
る。したがってガラス原盤2は各々のノズル1からのエ
アーの圧力が等しくなる所定位置(回転軸4とガラスW
、盤2の重心が一致した位置)までエアーの圧力により
ターンテーブル上を微小距離移動する。
エアーが供給され、ガラス原盤2の外周面6に対してエ
アーを吹゛き付ける1回転軸4とガラス原盤2の重心位
置がずれている時には、各々のノズル1とガラス原盤2
の外周面6tでのギャップが異なりエアーの圧力も異な
る。したがってガラス原盤2は各々のノズル1からのエ
アーの圧力が等しくなる所定位置(回転軸4とガラスW
、盤2の重心が一致した位置)までエアーの圧力により
ターンテーブル上を微小距離移動する。
このようにしてセンタリングが終了した後にターンテー
ブル7に設けられた真空チャック用m部8を真空排気し
ガラス原第12′Iji−ターンテーブル7に固定する
。
ブル7に設けられた真空チャック用m部8を真空排気し
ガラス原第12′Iji−ターンテーブル7に固定する
。
第2図は1本発明の@lの実施列の変形列を示すもので
ある。第1図にンいては、圧力付与手段の一列としての
エアー供給のためのノズル1をガラス原盤2の周囲に1
20”等配として配置したが。
ある。第1図にンいては、圧力付与手段の一列としての
エアー供給のためのノズル1をガラス原盤2の周囲に1
20”等配として配置したが。
第2図(a)はノズル10幅を広(L/、180°方向
の異なる2方向からエアーを噴出するように構成してい
る。
の異なる2方向からエアーを噴出するように構成してい
る。
エアーは、ガラス原盤2の外周に対して摩擦力を有して
いないため、エアーの圧力によって外周面に生じる力の
作用方向は常に円周面の法線方向であり、ガラス原盤2
の重心を通る方向である。
いないため、エアーの圧力によって外周面に生じる力の
作用方向は常に円周面の法線方向であり、ガラス原盤2
の重心を通る方向である。
第2図(b)は、ノズル1でガラス原盤2の周囲を覆う
ような構成として、ガラス原盤2の外周面6の全周に亙
うてエアーを噴出している。
ような構成として、ガラス原盤2の外周面6の全周に亙
うてエアーを噴出している。
このように気体の圧力を付与するためのノズル1の形状
個数等には同等限定されない。
個数等には同等限定されない。
第3図は1本発明の第2の実施例を示すものである。こ
の実施列が先の実施列と異なる箇所は圧力を付与する圧
力付与手段として磁気力を用いたことにある。
の実施列が先の実施列と異なる箇所は圧力を付与する圧
力付与手段として磁気力を用いたことにある。
ガラス原盤2の外周面には磁石10がはりつけてあり、
この磁石10に反発力を及ぼすような磁石11が支持部
材12に支持されて例えば、ガラス原盤2の周囲に12
00等配で配置されている。
この磁石10に反発力を及ぼすような磁石11が支持部
材12に支持されて例えば、ガラス原盤2の周囲に12
00等配で配置されている。
この磁石11は、第1の実施列のノズル1に相当するも
のであり、同様に形状1個数等は変形して用いることが
できるものである。さらに、@石11の代わりに電磁石
を用いて制御を行なってもよl/)。
のであり、同様に形状1個数等は変形して用いることが
できるものである。さらに、@石11の代わりに電磁石
を用いて制御を行なってもよl/)。
第1.第2の実施例共にガラス原盤2に非接触で圧力を
付与できる実施例である。
付与できる実施例である。
第4図は1本発明の第3の実施列を示すものである。こ
の実施例が先の実施列と異なる箇所は。
の実施例が先の実施列と異なる箇所は。
ガラス原盤2に直接接触して圧力を付与するものである
。
。
ガラス原盤2の周囲には、120°等已に所定ギャップ
を隔て弾性部材15が配置さn、この弾性部材15には
例えば、送りねじ16が改付けられて等しい圧力を付与
すべく1回転中心位置から等距fa、かつ等速でガラス
原盤2の周囲に弾性部材15を押しつける。
を隔て弾性部材15が配置さn、この弾性部材15には
例えば、送りねじ16が改付けられて等しい圧力を付与
すべく1回転中心位置から等距fa、かつ等速でガラス
原盤2の周囲に弾性部材15を押しつける。
弾性部材15は1例えばフッ素樹脂、つVタン。
硬質ゴムのよりなもので機械的な送り誤差等による圧力
誤差を吸収し、ガラス原盤2の破損@を防止するための
ものであり無くてもよい。
誤差を吸収し、ガラス原盤2の破損@を防止するための
ものであり無くてもよい。
このように送りねじ16に限らず機械的にガラス原盤2
の周囲に圧力を付与することによってセンタリングを行
なりてもよい。
の周囲に圧力を付与することによってセンタリングを行
なりてもよい。
第5図は1本発明の第4の実施例を示すものであり、先
の第3の実施例と異なる箇所は、送りねじ16の代わり
に圧電素子(電気−機械変換素子)18を設けたことに
ある。圧電素子18に電圧を印加することによって伸張
させ弾性部材15を介してガラス原112の外周を押圧
する工うに構成している。
の第3の実施例と異なる箇所は、送りねじ16の代わり
に圧電素子(電気−機械変換素子)18を設けたことに
ある。圧電素子18に電圧を印加することによって伸張
させ弾性部材15を介してガラス原112の外周を押圧
する工うに構成している。
以上のごとくガラス円盤2の外周面に圧力を付与する手
段は種々有るが、その中でも第1の実施列で説明した気
体の圧力によるセンタリングが最も笑用的である。
段は種々有るが、その中でも第1の実施列で説明した気
体の圧力によるセンタリングが最も笑用的である。
気体の圧力によるものにあっては、非接触でガラス原盤
2を移動させることができるために、接触による塵埃の
箔生が一切生じない。ガラス原盤の記録等にあっては、
小さな塵埃でも記録に悪影響を及ぼすため、常にクリー
ンな雰囲気下で行なわなければならない。そのためには
、非接触であることが望ましい。
2を移動させることができるために、接触による塵埃の
箔生が一切生じない。ガラス原盤の記録等にあっては、
小さな塵埃でも記録に悪影響を及ぼすため、常にクリー
ンな雰囲気下で行なわなければならない。そのためには
、非接触であることが望ましい。
さらには、センタリングのための動作時間は非常に短時
間ですむ。
間ですむ。
また、磁気力によるものと比較するとガラス原盤2に同
等付加することなしに行なえるため効率が良い。
等付加することなしに行なえるため効率が良い。
次に第6図は、#I、1乃至第4の実施例に共通の変形
例である。
例である。
第6図にあっては、ターンテーブル7上の■空チャック
用溝部8に低い圧力のエアーを供給し。
用溝部8に低い圧力のエアーを供給し。
ガラス原盤2をターンテーブル7から(半)浮上させ、
ガラス原盤2とターンテーブル7との間の摩擦力を小さ
くシ、ガラス原盤2の外周面に付与する圧力を低く押さ
えると共に滑らかなセンタリング動作が得られ位置決め
時間を短縮するものである。
ガラス原盤2とターンテーブル7との間の摩擦力を小さ
くシ、ガラス原盤2の外周面に付与する圧力を低く押さ
えると共に滑らかなセンタリング動作が得られ位置決め
時間を短縮するものである。
なp、第6図の変形列は第1の実施列と組合せればエア
ーの供給源が共通になるため効率が良い。
ーの供給源が共通になるため効率が良い。
なお1本発明は上記実施例に限定されるものではない。
圧力付与手段は、ガラス原盤2の重心位直から野距離に
配置される必要はなく、距離が異なってもガラス原盤2
が所定位置に配置された時に外周面に作用する圧力が等
しくなるように圧力Q大きさを適宜変えればよい。
配置される必要はなく、距離が異なってもガラス原盤2
が所定位置に配置された時に外周面に作用する圧力が等
しくなるように圧力Q大きさを適宜変えればよい。
また、ガラス原盤2のセンタリングにのみ限定されるも
のではなく種々の情報記録円盤に適用できる。
のではなく種々の情報記録円盤に適用できる。
また1円盤の載fili材であるターンテーブル7は1
回転山“能であっても回転しなくてもセンタリングは行
なうことができ、ターンテーブル7を回転させながらセ
ンタリングを行なうこともcv能である。
回転山“能であっても回転しなくてもセンタリングは行
なうことができ、ターンテーブル7を回転させながらセ
ンタリングを行なうこともcv能である。
このようをこ本光明はその要旨を逸脱しない範囲に2い
て種々変形して用いることができるものである。
て種々変形して用いることができるものである。
以上詳述したように本発明によれば1円盤の中心孔の寸
法公差には無関係に高精度なセンタリングが行なえるも
のである。
法公差には無関係に高精度なセンタリングが行なえるも
のである。
第1図は1本発明のセンタリング装置の第1の実施例を
示す概略斜視図、I@2図は、第1の実施例における変
形例を示すための平面図、@3図乃至第5図は1本発明
の第2/ケ至第4の実施列を示す概略斜視図、第6図は
1本発明の変形例を示す断面図、第7図は、従来のセン
タリング装置を示、すための概略斜視図である。 1・・・ノズル(圧力付与手段)、2・・・ガラス原盤
(円盤)、4・・・回転軸、5・・・エアー供給管、7
・・・ターンテーブル(載置部材)、10・・・磁石、
11・・・磁石(圧力付与手段)、15・・・弾性部材
、16・・・送りねじ(圧力付与手段)、18・・・圧
電素子(圧力付与手段)。 代理人 弁理士 則 近 憲 右 同 松 山 光 2第1図 第5図 第6図
示す概略斜視図、I@2図は、第1の実施例における変
形例を示すための平面図、@3図乃至第5図は1本発明
の第2/ケ至第4の実施列を示す概略斜視図、第6図は
1本発明の変形例を示す断面図、第7図は、従来のセン
タリング装置を示、すための概略斜視図である。 1・・・ノズル(圧力付与手段)、2・・・ガラス原盤
(円盤)、4・・・回転軸、5・・・エアー供給管、7
・・・ターンテーブル(載置部材)、10・・・磁石、
11・・・磁石(圧力付与手段)、15・・・弾性部材
、16・・・送りねじ(圧力付与手段)、18・・・圧
電素子(圧力付与手段)。 代理人 弁理士 則 近 憲 右 同 松 山 光 2第1図 第5図 第6図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)円盤と、この円盤を移動自在に載置する載置部材
と、前記円盤が所定位置に配置された時に前記円盤の外
周面に対する圧力がほぼ等しくなるような圧力を前記円
盤の外周面に少なくとも異なる2方向から付与する圧力
付与手段とを具備することを特徴とするセンタリング装
置。(2)前記圧力付与手段は、前記円盤の外周面に非
接触で圧力を付与することを特徴とする特許請求の範囲
第1項記載のセンタリング装置。 (3)前記圧力付与手段は、前記円盤の周囲に配置され
気体を噴出するノズルであることを特徴とする特許請求
の範囲第2項記載のセンタリング装置。 (4)前記ノズルは、前記円盤の回転中心から等距離に
且つ前記円盤の周囲に等間隔に配置されていることを特
徴とする特許請求の範囲第3項記載のセンタリング装置
。 (5)前記圧力付与手段は、前記円盤の周囲に配置され
る磁石であり、この磁石により前記円盤の外周面を押圧
することを特徴とする特許請求の範囲第2項記載のセン
タリング装置。 (6)前記圧力付与手段は、前記円盤の外周面を弾性体
を介して接触押圧することを特徴とする特許請求の範囲
第1項記載のセンタリング装置。 (7)前記載置部材は回転可能であることを特徴とする
特許請求の範囲第1項記載のセンタリング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62305722A JPH01149255A (ja) | 1987-12-04 | 1987-12-04 | センタリング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62305722A JPH01149255A (ja) | 1987-12-04 | 1987-12-04 | センタリング装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01149255A true JPH01149255A (ja) | 1989-06-12 |
Family
ID=17948561
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62305722A Pending JPH01149255A (ja) | 1987-12-04 | 1987-12-04 | センタリング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01149255A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5777979A (en) * | 1995-11-28 | 1998-07-07 | Balzers Und Leybold Deutschland Holding Ag | Apparatus for laser exposure of a substrate disk and a method for the centered mounting of a substrate disk |
| US6600628B2 (en) * | 2001-04-10 | 2003-07-29 | Kla-Tencor Corporation | Air centering disk chuck |
| JP2006172774A (ja) * | 2004-12-14 | 2006-06-29 | Ricoh Co Ltd | 電子線描画装置 |
-
1987
- 1987-12-04 JP JP62305722A patent/JPH01149255A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5777979A (en) * | 1995-11-28 | 1998-07-07 | Balzers Und Leybold Deutschland Holding Ag | Apparatus for laser exposure of a substrate disk and a method for the centered mounting of a substrate disk |
| EP0777225A3 (de) * | 1995-11-28 | 1999-03-24 | Balzers und Leybold Deutschland Holding Aktiengesellschaft | Vorrichtung zum Laserstrahlbelichten eines kreisscheibenförmigen Substrates und Verfahren zum zentrischen Spannen eines kreisscheibenförmigen Substrates |
| US6600628B2 (en) * | 2001-04-10 | 2003-07-29 | Kla-Tencor Corporation | Air centering disk chuck |
| JP2006172774A (ja) * | 2004-12-14 | 2006-06-29 | Ricoh Co Ltd | 電子線描画装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| USRE35670E (en) | Flexible information storing disk apparatus having laminar air flow | |
| US5590004A (en) | Resilient clamp and compliant element data disk support system | |
| KR100223210B1 (ko) | 하드디스크 드라이브의 디스크 균형을 맞추기 위한 조립방법 및 장치 | |
| JPH1125455A (ja) | 磁気転写装置 | |
| EP0030754B1 (en) | Centering element and drive unit for interchangeable information discs in a system for writing or reading information | |
| US5781374A (en) | Disc centering device for a disc drive | |
| US5715114A (en) | Multi-piece hub for supporting recording disks in a hard disk drive | |
| JPH01149255A (ja) | センタリング装置 | |
| JPS6273477A (ja) | デイスクカ−トリツジ | |
| US5828518A (en) | Disc centering sleeve for a disc drive | |
| JP4117104B2 (ja) | ディスク媒体組み込み方法及び装置 | |
| JPS6213725B2 (ja) | ||
| US4967297A (en) | Magnetic disk head positioning device | |
| JP3586086B2 (ja) | ディスク駆動装置 | |
| JP2953473B2 (ja) | 磁気ディスク装置並びに該装置に用いるディスク及びその組み込み方法 | |
| JP2000285637A (ja) | 基盤クリーニング装置 | |
| JPH05298646A (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPH0644721A (ja) | 磁気ディスク装置 | |
| JPS5822317Y2 (ja) | 磁気デイスク駆動装置 | |
| JP3792945B2 (ja) | サーボデータ書き込み装置及び方法 | |
| KR810000793B1 (ko) | 기록 디스크 | |
| JP2001319385A (ja) | ディスク状情報記録媒体の製造方法及び製造装置 | |
| JPS60205856A (ja) | 回転駆動装置 | |
| JP4028267B2 (ja) | 円板密着装置 | |
| JP3587455B2 (ja) | 磁気転写用マスタ洗浄装置及び方法、又はこれらを用いた磁気記録再生装置 |