JPH01150143A - フォトレジスト塗布装置 - Google Patents
フォトレジスト塗布装置Info
- Publication number
- JPH01150143A JPH01150143A JP62310236A JP31023687A JPH01150143A JP H01150143 A JPH01150143 A JP H01150143A JP 62310236 A JP62310236 A JP 62310236A JP 31023687 A JP31023687 A JP 31023687A JP H01150143 A JPH01150143 A JP H01150143A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- humidity
- substrate
- motor
- photoresist
- rotating speed
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Coating Apparatus (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本°発明は、フォトレジスト塗布装置、特に、高〔従来
の技術〕 従来の技術としては、例えば薄膜ハンドブック（日本学
術振興会薄膜第１３１委員会編）に示されているように
スピンコード法がある。
の技術〕 従来の技術としては、例えば薄膜ハンドブック（日本学
術振興会薄膜第１３１委員会編）に示されているように
スピンコード法がある。
従来のフォトレジスト塗布装置は、基板を固着したター
ンテーブルを回転するモータと、モータの回転数を制御
するモータ回転制御部とを含んで構成されている。
ンテーブルを回転するモータと、モータの回転数を制御
するモータ回転制御部とを含んで構成されている。
次に、従来例について図面を参照して詳細に説明する。
第３図は、従来の一例を示す模式図である。
第３図に示すフォトレジスト塗布装置は、ターンテーブ
ル１に固着された基板２ヘフオトレジスト供給ノズル３
よりフォトレジスト４を滴下し、モータ６により基板２
を回転させ基板２の全面に均一な厚さのフォトレジスト
膜５を生成する。
ル１に固着された基板２ヘフオトレジスト供給ノズル３
よりフォトレジスト４を滴下し、モータ６により基板２
を回転させ基板２の全面に均一な厚さのフォトレジスト
膜５を生成する。
モータ６の回転数が常に一定となるようモータ回転制御
部７によりモータの回転数を制御する。
部７によりモータの回転数を制御する。
フォトレジスト膜凶、の膜厚はモータ回転数により決め
られる。 − 〔発明が解決しようとする問題点〕 しかしながら、このような上述した従来のフォトレジス
ト塗布装置は、モータ回転数により膜厚を決定する構成
になっているが、基板周辺の湿度が常に一定でないとフ
ォトレジスト溶媒の蒸発に差異が生じ、生成されるフォ
トレジスト膜の膜厚が変動し膜厚再現性の良いフォトレ
ジスト塗布ができないという欠点があった。
られる。 − 〔発明が解決しようとする問題点〕 しかしながら、このような上述した従来のフォトレジス
ト塗布装置は、モータ回転数により膜厚を決定する構成
になっているが、基板周辺の湿度が常に一定でないとフ
ォトレジスト溶媒の蒸発に差異が生じ、生成されるフォ
トレジスト膜の膜厚が変動し膜厚再現性の良いフォトレ
ジスト塗布ができないという欠点があった。
本発明のフォトレジスト塗布装置は、基板周辺の湿度を
検出し湿度信号を出力する湿度検出部と、基板を固着し
たターンテーブルを回転するモータと、前記湿度信号に
基づいて前記モータの回転数を算出するデータ演算部と
、前記回転数にモータの回転数を制御するモータ回転制
御部とを含んで構成される。
検出し湿度信号を出力する湿度検出部と、基板を固着し
たターンテーブルを回転するモータと、前記湿度信号に
基づいて前記モータの回転数を算出するデータ演算部と
、前記回転数にモータの回転数を制御するモータ回転制
御部とを含んで構成される。
〔実施例〕〕
次に、本発明の実施例について、図面を参照して詳細に
説明する。
説明する。
第１図に示すフォトレジスト塗布装置は、ターンテーブ
ル１に固着された基板２へ、フォトレジスト供給ノズル
３からフォトレジスト４を滴下し、モータ６により基板
２を回転させ基板２の全面に均一な厚さのフォトレジス
ト膜５を生成する。
ル１に固着された基板２へ、フォトレジスト供給ノズル
３からフォトレジスト４を滴下し、モータ６により基板
２を回転させ基板２の全面に均一な厚さのフォトレジス
ト膜５を生成する。
フォトレジスト４を滴下する直前に湿度検出部８により
基板２の周辺の湿度を検出し、湿度信号ａを出力する。
基板２の周辺の湿度を検出し、湿度信号ａを出力する。
データ演算部９では、入力された基板２０周辺に湿度に
おいて、あらかじめ設定された膜厚を実現するためのモ
ータ回転数を算出し、回転数信号すを出力する。モータ
回転制御部ｔは入力された回転数にモータ回転数が常に
維持されるように制御する。
おいて、あらかじめ設定された膜厚を実現するためのモ
ータ回転数を算出し、回転数信号すを出力する。モータ
回転制御部ｔは入力された回転数にモータ回転数が常に
維持されるように制御する。
第１図に示す実施例では湿度検出のためにセラミック湿
度センサを用いた。このセラミック湿度センサは測定範
囲が広く、また、応答性が速いという特徴がある。
度センサを用いた。このセラミック湿度センサは測定範
囲が広く、また、応答性が速いという特徴がある。
基板周辺の湿度はクリーンルーム内の湿度として制御さ
れているが、クリーンルームの湿度管理は±５％程度と
管理下であっても変動が大きい。
れているが、クリーンルームの湿度管理は±５％程度と
管理下であっても変動が大きい。
湿度が低いと、溶媒の蒸発が促進されるためフォトレジ
スト膜厚は厚くなる。
スト膜厚は厚くなる。
第１図に示すフォトレジスト塗布装置は、フォトレジス
ト塗布の直前の基板周辺の湿度を塗布条件にとりこみ、
フォトレジスト膜の塗布回転数を補正することにより再
現性の良いフォトレジスト塗布を実現した。
ト塗布の直前の基板周辺の湿度を塗布条件にとりこみ、
フォトレジスト膜の塗布回転数を補正することにより再
現性の良いフォトレジスト塗布を実現した。
データ演算部９では、第２図に示すようなデータベース
に基づき、入力された基板周辺の湿度の時、所定の膜厚
を実現する回転数を算出する。たとえば、第２図のデー
タより、膜厚１２００人を得る場合、基板周辺の湿度が
５５％の時回転数１６３Ｏｒｐｍに、また、４５％の時
は回転数１６９Ｏｒｐｍに各々モータ回転数を設定する
。
に基づき、入力された基板周辺の湿度の時、所定の膜厚
を実現する回転数を算出する。たとえば、第２図のデー
タより、膜厚１２００人を得る場合、基板周辺の湿度が
５５％の時回転数１６３Ｏｒｐｍに、また、４５％の時
は回転数１６９Ｏｒｐｍに各々モータ回転数を設定する
。
従来、フォトレジスト膜厚の製造日間の再現性は約±３
０人であったが、本発明により±５％以下と膜厚の再現
性が向上した。
０人であったが、本発明により±５％以下と膜厚の再現
性が向上した。
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の湿度を検出し湿度信号を出力する湿度検出部を付加し
、基板周辺の湿度に応じたモータ回転数を設定すること
により、膜厚再現性を良好にできるという効果がある。
の湿度を検出し湿度信号を出力する湿度検出部を付加し
、基板周辺の湿度に応じたモータ回転数を設定すること
により、膜厚再現性を良好にできるという効果がある。
第１図は本発明の一実施例を示す模式図、第２との関係
を示すグラフ、第３図は従来の一例を示す模式図である
。 ｌ・・・・・・ターンテーブル、２・・・・：・ｆｉ板
、３・旧・・フォトレジスト供給ノズル、４・・団・フ
ォトレジスト、５・・・・・・フォトレジスト膜、６・
・・・・・モータ、７・・・・・・モータ回転制御部、
８・・・・・・湿度検出部、９・・・・・・データ演算
部、 ａ・・・・・・湿度信号、ｂ・・・・・・回転数信号。 代理人 弁理士 内 原 音 第１図 第２図 ｔ！；θθ ａθθρ 回転数（ｒｐ岬−
を示すグラフ、第３図は従来の一例を示す模式図である
。 ｌ・・・・・・ターンテーブル、２・・・・：・ｆｉ板
、３・旧・・フォトレジスト供給ノズル、４・・団・フ
ォトレジスト、５・・・・・・フォトレジスト膜、６・
・・・・・モータ、７・・・・・・モータ回転制御部、
８・・・・・・湿度検出部、９・・・・・・データ演算
部、 ａ・・・・・・湿度信号、ｂ・・・・・・回転数信号。 代理人 弁理士 内 原 音 第１図 第２図 ｔ！；θθ ａθθρ 回転数（ｒｐ岬−
Claims (1)
- 基板周辺の湿度を検出し湿度信号を出力するための湿
度検出部と、前記基板を固着したターンテーブルを回転
するためのモータと、前記湿度信号に基づいて前記モー
タの回転数を算出するデータ演算部と、算出された前記
回転数に前記モータの回転数を一致させるように制御す
るモータ回転制御部とを含むことを特徴とするフォトレ
ジスト塗布装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62310236A JPH01150143A (ja) | 1987-12-07 | 1987-12-07 | フォトレジスト塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62310236A JPH01150143A (ja) | 1987-12-07 | 1987-12-07 | フォトレジスト塗布装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01150143A true JPH01150143A (ja) | 1989-06-13 |
Family
ID=18002819
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62310236A Pending JPH01150143A (ja) | 1987-12-07 | 1987-12-07 | フォトレジスト塗布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01150143A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH038469A (ja) * | 1989-06-05 | 1991-01-16 | Tokyo Electron Ltd | 塗布装置 |
| CN104399641A (zh) * | 2014-10-16 | 2015-03-11 | 山东常林机械集团股份有限公司 | 一种液压缸体烧结助熔剂涂刷装置及方法 |
-
1987
- 1987-12-07 JP JP62310236A patent/JPH01150143A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH038469A (ja) * | 1989-06-05 | 1991-01-16 | Tokyo Electron Ltd | 塗布装置 |
| CN104399641A (zh) * | 2014-10-16 | 2015-03-11 | 山东常林机械集团股份有限公司 | 一种液压缸体烧结助熔剂涂刷装置及方法 |
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