JPH01152153A

JPH01152153A - 電線

Info

Publication number: JPH01152153A
Application number: JP62311547A
Authority: JP
Inventors: Toshio Nakane; 敏雄中根; Yukihiko Kageyama; 幸彦影山; Hiroaki Konuma; 小沼　弘明; Kenji Hijikata; 健二土方
Original assignee: Polyplastics Co Ltd
Current assignee: Polyplastics Co Ltd
Priority date: 1987-12-09
Filing date: 1987-12-09
Publication date: 1989-06-14
Anticipated expiration: 2012-06-25
Also published as: JP2624974B2; EP0320159A1; US4954541A; KR890010103A; KR920001567B1; KR890010098A

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は簡便な方法で難燃性を付与して改質した樹脂に
関し、更に詳しくは熱安定性と柔軟性を付与し、その柔
軟性が熱履歴によって消失せず、尚かつ樹脂からの浸み
出しのない表面外観を与えることが可能な樹脂組成物、
及びこれを用いて被覆した電線に関する。

〔従来の技術とその問題点〕

従来より電線被覆材としてゴム、ポリ塩化ビニル、ポリ
エチレン、ポリプロピレン、ナイロン等が使用され、特
に難燃性や機械的強度の点からポリ塩化ビニルが重用さ
れている。近年、これらの被覆材の使用環境が厳しくな
るにつれて、耐熱性、電気特性に優れ、しかも難燃性で
省スペースを実現する為の薄肉加工性が良好なこと等の
被覆材に要求される特性も高度化してきている。

フッ素樹脂や架橋ポリエチレン等はこれらの要求に応え
るものであるが、何れも薄肉加工性に劣り、また、フッ
素樹脂は高価格である等の理由により満足すべきものと
は言えない。

薄肉加工性が良好で、尚且つ機械的強度（柔軟性、耐摩
耗性等）、耐熱性、電気特性に優れている点でポリエチ
レンテレフタレートやポリブチレンテレフタレートが関
心を集めているが、難燃性が充分とは言えない。

これらの樹脂に難燃性を付与する方法は種々知られてお
り、大別して添加型と反応型に分けられる。前者は水酸
化アンチモン、三酸化アンチモン、硼素化合物、臭素化
合物、リン系化合物等があげられ、簡便な方法で難燃化
が図られる反面、長期暴露や加熱雰囲気で樹脂表面から
浸み出し表面外観を損なったり、ポリマーの柔軟性を阻
害する等の欠点を有する。後者は臭素化合物、リン化合
物等のモノマー、オリゴマー及びポリマーに反応性基と
してエポキシ基、ビニル基、エステル形成性官能基等を
付与したもので、分子骨格中にこれらの難燃性基を組み
込んだり、ポリマー同士の反応により、ポリマー分子中
に組み込んだりするものである。反応型のものはそれ自
体浸み出しがなく柔軟性も付与出来る為、前者の欠点を
改良した有効な方法であるが、難燃性モノマーをポリマ
ー骨格に組み込む為には通常の方法では重合度が上がら
ず複雑な操作を要する。又、反応性の難燃性オリゴマー
、ポリマーの添加はかかる難点を改良した簡便性を有す
るが混線中にベースポリマーと相互作用を生じ分子量の
低下や機械的物性の低下を起こす欠点を有し、特にポリ
エステル系、ポリアミド系ではその傾向が大である。

更に、これらのポリアルキレンテレフタレートは結晶性
の樹脂である為に被覆後の加熱処理や使用時の加熱状態
等の熱履歴により柔軟性が極端に低下し、耐衝撃性等の
機械的強度が低下する。その為に、熱源廻りや蓄熱の恐
れのある環境での使用は避けなくてはならず、少なから
ず利用に制限を受けている。

かかる欠点を克服する目的で結晶性を少しでも低下させ
る為にエラストマーの添加や非晶性のポリマーの添加の
試みが、また、機械的強度の安定性を保持する為に一部
架橋する試み等がなされている。

前者の例は若干の改善効果が認められるものの、結晶性
樹脂のマ）　＋Ｊフックスそのまま存在している為に長
期の熱履歴には耐えられず、また、結晶性樹脂の占める
割合の低下が摩擦摩耗等の機械的特定を低下させる欠点
を有する。

また、後者の例は架橋による機械的特性の安定性の改質
効果は若干認められるが、柔軟性を犠牲にし、更には架
橋反応を伴う為に制御が複雑であり、加工性が極端に低
下する欠点がある。

〔問題点を解決する為の手段〕

以上の問題点に鑑み、本発明者等はポリマーに難燃性を
付与し乍ら、機械的物性の低下を起こさずに熱安定性、
柔軟性その他の物性及び優れた外観形状を付与出来る簡
便な方法を見い出すべく鋭意研究した結果、特定の化合
物に優れた効果を認め本発明を完成させるに到ったもの
である。

即ち本発明は、（ａ）主として芳香族ジカルボン酸又はそのエステル形
成性誘導体と、（ｂ）主として脂肪族グリコール又はそ
のエステル形成性誘導体を重縮合させることによって得
られる芳香族ポリエステル重合体（Ａ）　に、下記一般式（１）又は（２）で示される化合物（Ｂ）と下記一般式（３）で示される化合物（Ｃ）　とを組成物
全量に対してそれぞれ０．１〜３０重量％配合したこと
を特徴とする難燃性樹脂組成物、及びこれによって被覆
された電線に関するものである。

〔式中、Ｘはハロゲンを示す。Ｙｌｌ　Ｙ２は水酸基、
カルボン酸基、グリシジルエステル基、グリシジルエー
テル基のうちから選ばれる基を示す。

Ｚは２価の有機基を示し・、ｎは１以上の整数を示す。

〕し、−Ｍ−Ｌ２　　　　　　　　　　　　（３）〔式中
、Ｌ、及びＬ２は下記一般式（４）〜（７）で表される
官能基より選°ばれる３乃至８員環の環状反応性基であ
り、し、とＬ２は各々同一でも相異なっていてもよい。

ＯＲ１−Ｒ３は２価の有機基を示し、環に直接結合してい
る水素はアルキル及び／又はアリルで置換されていても
よい。Ｍは２価の有機基を示す。〕本発明に用いられる
ポリエステル重合体組成物について以下具体的に記述す
る。

まず本発明の組成物又は被覆材料の基体となる芳香族ポ
リエステル重合体（Ａ）を構成するモノマー成分につい
て説明すると、（ａ）成分としては主として芳香族ジカ
ルボン酸又はそのエステル形成性誘導体より成る。その
代表的物質としてはテレフタル酸又はその誘導体であり
、この他、場合によっては補助的にイソフタル酸、ナフ
タレンカルボン酸、２ナフタレンジカルボン酸の如きジ
カルボン酸又はその誘導体、アジピン酸、セバシン酸、
゛トリメリット酸、コハク酸等の脂肪酸又はそのエステ
ル形成性誘導体、ヒドロキシ安息香酸、ヒドロキシナフ
トエ酸等の芳香族ヒドロキシカルボン酸又はそのエステ
ル形成性誘導体が使用される。

次に本発明の芳香族ポリエステル重合体（Ａ）を構成す
るための（ｂ）成分としては、主として脂肪族ジオール
又はそのエステル形成性誘導体からなる。その代表的物
質としては０２〜Ｃ８の低分子量脂肪族グリコールであ
り、例えばエチレングリコール、１．４−’チレンクリ
コール、１゜３−プロパンジオール、１．４−ブテンジ
オーノぺ１．６−ヘキサンジオール、１．８−オクタン
ジオール等のジオール等が挙げられる。また、これらの
低分子量グリコールの他にポリアルキレンオキシドグリ
コールの如き高分子量グリコーノぺ例えばポリエチレン
オキシドグリコール、ポリブチレンオキシドグリコール
等を併用することができる。かかる高分子量グリコール
の併用は本発明の電線被覆材たる芳香族ポリエステルの
伸度を向上させ、耐屈曲性を付与するのに極ぬで有効で
ある。また（ｂ）成分としては、更に補助的にビスフェ
ノールＡ、４．４°−ジヒドロキシビフェニノ＾芳香族
ジオール基を有するホスフィン酸等の芳香族アルコール
、ビスフェノールＡのエチレンオキサイド２モル付加体
、ビスフェノールＡのプロピレンオキサイド２モル付加
体等のアルキレンオキサイド付加体アルコーノペグリセ
リン、ペンタエリスリトール等のポリヒドロキシ化合物
又はそのエステル形成性誘導体等を使用することもでき
る。

次に一般式（１）及び（２）で示されるハロゲン含有化
合物（Ｂ）　としては、以下の一般式（８）〜（１５）
で示されるものが例示される。また、ハロゲン（Ｘ）　
　としては臭素が特に好ましい。

ＣＨ，ＸＨＯＣＨ２ＣＣＬ　　ＯＨ（１５）Ｈ２ＸここでＣＨ５より選ばれた２価の基Ｒ，、Ｒ７；−Ｃ２Ｈ４−、−Ｃ３Ｈ６−、−（Ｃ２Ｈ
４０）イー。

−（Ｃ３ＬＯ）ｈ−より選ばれた２価の基Ｘ；ハロゲン１１　、ｍ　；　ｌ乃至４ｎｏ；１以上の整数を表す。

ハロゲンとして臭素を用いる場合、一般式（８）の例と
しては、テトラブロモビスフェノールＡ１テトラブロモ
ビスフエノールスルホン、（９）　の例としてはテトラ
ブロモビスフェノールＦ、　（１０）の例としてはテト
ラブロモビスフェノールＡのエチレンオキサイド２モル
付加体、テトラブロモビスフェノールＡのプロピレンオ
キサイド２モル付加体、テトラブロモビスフェノールス
ルホンのエチレンオキサイド２モル付加体、テトラブロ
モビスフェノールスルホンのプロピレンオキサイド２モ
ル付加体、（１１）の例としてテトラブロモハイドロキ
ノン、（１２）の例としてテトラブロモハイドロキノン
のエチレンオキサイド２モル付加体、（１３）の例とし
てテトラブロモテレフタル酸、（１４）の例としてテト
ラブロモビスフェノールへのポリカーボネートが挙げら
れる。

前記一般式（３）で表される窒素含有３乃至８員環化合
物（Ｃ）として種々のものが挙げられる。

即ち式（４）で表わされる基としては、Ｒ＋がエチレン
基であるオキサゾリンが好ましく、オキサゾリンはカル
ボン酸にエタノールアミンを反応させる等の手段により
生成させ、（３）の化合物を調製できる。特にビスオキ
サゾリン化合物を用いるのが好ましい。オキサゾリンを
反応させる場合には所望により３級アミンホスフィン類
等の触媒を使用出来る。

式（４）の基を導入するためのビスオキサゾリン化合物
の具体例としては、２，２゛−メチレンビス（２−オキ
サゾリン）、２，２”−エチレンビス（２−オキサゾリ
ン）、２．２°−エチレンビス（４−メチル−２−オキ
サゾリン）、２．２’−プロピレンビス（２−オキサゾ
リン）、２．２’−テトラメチレンビス（２−オキサゾ
リン）、２．２’−へキサメチレンビス（２−オキサシ
リン）、２．２°−オクタメチレンビス（２−オキサゾ
リン）、２．２”−ｐ−フェニレンビス（２−オキサ７
’　ＩＪン）、２．２°−ｐ−７二二レンビス（４−メ
チル−２−オキサゾリン）、２．２°−ｐ−フェニレン
ビス（４゜−ジメチルー２−オキサゾリン）、２．２′
−ｐ−フェニレンビス（４−フェニル−２−オキサゾリ
ン）、２，２°−ｍ−フェニレンビス（２−オキサゾリ
ン）、２．２”−ｍ−フェニレンビス（４−メチル−２
−オキサゾリン）、２．２°−ｍ−フェニレンビス（４
，４−ジメチル−２−オキサゾリン）、２．２’−ｍ−
フェニレンビス（４−フェニル−２−オキサゾリン）、
２，２°−Ｏ−フェニレンビス（２−オキサゾリン）、
２．２”−フェニルビス（４−メチル−２−オキサゾリ
ン）、２．２’−ビス（２−オキサゾリン）、２．２’
−ビス（４−メチル−２−オキサゾリン）、２，２°−
ビス（４−エチル−２−オキサゾリン）、２．２°−ビ
ス（４−フェニル−２−オキサゾリン）等を挙げること
ができる。二のようなビスオキサゾリン化合物は、単独
で使用しても、２種以上併用してもよい。

これらのビスオキサゾリン化合物の内、好ましいものは
芳香環基を含むもの、更に好ましくはフェニレン基を含
むものである。特に好ましくハ２．２”−ｍ−フェニレ
ンビス（２−オキサゾリン）及ヒ２．２”−ｐ−フェニ
レンビス（２−オキサゾリン）である。

式（５）で表わされる基どしては、Ｒ２がメチレンであ
るオキサシロン、Ｒ２がエチレンであるオキサジノンが
好ましい。これらの基はＮ−アシル−α又はβ−アミノ
カルボン酸を、例えば無水酢酸等で脱水することにより
容易に調製出来る。

ビスオキサシロン化合物は以下の例が挙げられる。

２．２°−ビス（５（４Ｈ）−オキサシロン）、２．２
°−メチレンビス（５（４Ｈ）−オキサシロン）、２．
２”−エチレンビス（５（４）１）−オキサシロン）、
２．２°−テトラメチレンビス（５（４Ｎ）−オキサシ
ロン）、２．２”−へキサメチレンビス（５（４Ｈ）−
オキサゾロン）、２．２’−デカメチレンビス（５（４
Ｈ）−オキサシロン）、２．２’−ｐ−フェニレンビス
（５（４Ｈ）−オキサシロン）、２．２”−ｍ−フェニ
レンビス（５（４Ｈ）−オキサシロン）　、２．２’−
ナフタレンビス（５（４Ｈ）−オキサシロン）、２．２
°−ジフェニレンビス（５（４日）−オキサシロン）　
、２．２’−（１，４−シクロヘキシレン）−ビス（５
（４Ｈ）−オキサシロン）、２．２′−ビス（４−メチ
ル−５（４Ｈ）−オキサシロン）、２．２°−メチレン
ビス（４−メチル−５（４Ｈ）−オキサシロン）、２．
２’−エチレンビス（４−メチル−５（４Ｈ）−オキサ
シロン）、２．２”−テトラメチレンビス（４−メチル
−５（４Ｈ）−オキサシロン）　、２．２’−へキサメ
チレンビス（４−メチル−５（４Ｈ）−オキサシロン）
、２．２”−デカメチレンビス（４−メチル−５（４Ｈ
）−オキサシロン）、２．２”−ｐ−フェニレンビス（
４−メチル−５（４Ｈ）−オキサゾ０ン）、２．２°　
ｍ７ｚニレンビス（４−メチル−５（４Ｈ）−オキサシ
ロン）、２．２°−ナフタレンビス（４−メチル−５（
４Ｈ）−オキサシロン）、２．２°−ジフェニレンビス
（４−メギルー５　（４Ｈ）−オキサシロン）、２゜２
”−（１，４−シクロヘキシレン）−ビス（４−メチル
−５（４Ｈ）−オキサシロン）、２．２’−ビス（４゜
４−ジメチル−５（４Ｈ）−オキサシロン）、２．２゜
−メチレンビス（４，４−ジメチル−５（４１１）−オ
キサシロン）、２．２’−エチレンビス（４，４−ジメ
チル−５（４Ｈ）−オキサシロン）　、２．２’−テト
ラメチレンビス（４，４−ジメチル−５（４Ｈ）−オキ
サシロン）、２．２°−へキサメチレンビス（４，４−
ジメチル−５（４Ｈ）−オキサシロン）、２．２°−オ
クタメチレンビス（４，４−ジメチル−５（４８）−オ
キサシロン）、２．２°−デカメチレンビス（４，４−
ジメチル−５（４Ｈ）−オキサシロン）、２．２°−ｐ
−フェニレンビス（４，４−ジメチル−５（４Ｈ）−オ
キサシロン）、２．２”−ｍ−フェニレンビス（４，４
−ジメチル−５（４Ｈ）−オキサシロン）、２．２’−
ナフタレンビス（４，４−ジメチル−５（４Ｈ）−オキ
サシロン）、２．２°−ジフェニレンビス（４，４−ジ
メチル−５（４Ｈ）−オキサシロン）、２．２°−（１
，４−シクロヘキシレン）−ビス（４，４−ジメチル−
５（４Ｈ）−オキサシロン）、２．２’−ビス（４−イ
ソプロピル−５（４Ｈ）−オキサシロン）、２．２″−
メチレンビス（４−イソプロピル−５（４Ｈ）−オキサ
シロン）、２．２°−エチレンビス（４−イソプロピル
−５（４）１）−オキサシロン）、２．２°−テトラメ
チレンビス（４−イソプロピル−５（４Ｈ）−オキサシ
ロン）、２．２′−へキサメチレンビス（４−イソプロ
ピル−５（４Ｈ）−オキサシロン）、２，２゜−ｐ−フ
ェニレンビス（４−イソプロピル−５（４日）−オキサ
シロン）、２．２’−ｍ−フェニレンビス（４−イソプ
ロピル−５（４Ｈ）−オキサシロン）、２，２°−ナフ
タレンビス（４−イソプロピル−５（４Ｈ）−オキサシ
ロン）、２．２°−ビス（４−イソブチル−５（４Ｈ）
−オキサシロン）、２．２’−メチレンビス（４−イン
ブチル−５（４Ｂ）−オキサシロン）、２．２°−エチ
レンビス（４−イソブチル−５（４Ｈ）−オキサシロン
）、２．２°−テトラメチレンビス（４−イソブチル−
５（４Ｈ）−オキサシロン）、２．２°−へキサメチレ
ンビス（４−インブチル−５（４Ｈ）−オキサシロン）
、２．２゜−ｐ−フェニレンビス（４−インブチル−５
（４Ｈ）−オキサシロン）、２．２°−ｍ−フェニレン
ビス（４−インブチル−５（４Ｈ）−オキサシロン）、
２．２°−ナフタレンビス（４−イソブチル−５（４１
１）−オキサシロン）等である。

ビスオキサジノン化合物は以下の例が挙げられる。

２．２゛−ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン
）、２．２°−メチレンビス（３，１−ベンゾオキサジ
ン−４−オン）、２．２°−エチレンビス（３，１−ベ
ンゾオキサジン−４−オン）、２．２°−テトラメチレ
ンビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２．
２’−へキサメチレンビス（３，１−ベンゾオキサジン
−４−オン）、２．２°−デカメチレンビス（３，１−
ベンゾオキサジン−４−オン）、２゜２°−ｐ−フェニ
レンビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）　、
２．２’−ｍ−フェニレンビス（３゜１−ベンゾオキサ
ジン−４−オン）、２，２°−ナフタレンビス（３，１
−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２°−（４，４
°−ジフェニレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−
４−オン’）　、２．２’−（１，４−シクロヘキシレ
ン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２
．２’−ビス（４，４−ジヒドロ−１，３，６Ｈ−オキ
サジン−６−オン）、２．２°−メチレンビス（４，５
−ジヒドロ−１，３，６８−オキサジン−６−オン）、
２．２°−エチレンビス（４，５−ジヒドロ−１，３，
６８−オキサジン−６−オン）、２゜２′−テトラメチ
レンビス（４，５−ジヒドロ−１，３゜６Ｈ−オキサジ
ン−６−オン）、２．２’−ｐ−フェニレンビス（４，
５−ジヒドロ−１，３，６８−オキサジン−６−オン）
、２．２″−ｍ−フェニレンビス（４゜５−ジヒドロ−
１，３，６８−オキサジン−６−オン）、２．２°−ビ
ス（４−メチル−５−ヒドロ−１，３，６８−オキサジ
ン−６−オン）、２．２°−エチレンビス（４−メチル
−５−ヒドロ−１，３，６Ｈ−オキサジン−６−オン）
、２．２°−０−フェニレンビス（４−メチル−５−ヒ
ドロ−１，３，６８−オキサジン−６−オン）、２．２
°−ｍ−フェニレン（４−メチル−５−ヒドロ−１，３
，６Ｈ−オキサジン−６−オン）、２．２’−ｐ−フェ
ニレンビス（４−ヒドロ−５−メチル１．３．６）１−
オキサジン−６−オン）、２．２−ｍ−フェニレンビス
（４−ヒドロ−５−メチル−１，３，６８−オキサジン
−６−オン）等である。

式（６）で表わされるアジリジン基としては、エチレン
イミンを酸クロライドやインシアナート化合物と反応さ
せることで容易に生成出来る。

式（７）で表わされるラクタム基としては、Ｒ３がトリ
メチレンであるピロリドン、テトラメチレンであるピペ
リドン、ペンタメチレンであるカブロタクタムが好まし
く、式（６）と同様にラクタム類を酸クロライドやイン
シアナート化合物と反応させることで容易に生成出来る
。

これらの反応に用いられる酸クロライドとしては、例え
ばテレフタル酸、イソフタル酸、ナフタレンジカルボン
酸、アジピン酸、セバシン酸、トリメリット酸、コハク
酸等の誘導体である。　　・ジイソシアナートは、例えばトルエンジイソシアナート
、メチレンジフェニルジイソシアナート、キシリレンジ
イソシアナート、ナフチレンジイソシアナート、３．３
°−ジメチルジフェニル−４，４”−ジイソシアナート
、ヘキサメチレンジイソシアナート、イソホロンジイソ
シアナート、メチレンビフェニルジイソシアナートの水
添体、トルエンジイソシアナートの水添体、リジンジイ
ソシアナート、ビス（２−インシアナートエチル）フマ
ラート等が挙げられる。

本発明で用いる芳香族ポリエステル重合体（Ａ）、ハロ
ゲン化合物（Ｂ）及び窒素含有３乃至８員環化合物（Ｃ
）の割合は、ポリエステル樹脂組成物全量に対してハロ
ゲン化合物（Ｂ）と窒素含有３乃至８員環化合物（Ｃ）
がそれぞれ０．１〜３０重量％で、ハロゲン化合物（Ｂ
）と窒素含有３乃至８員環化合物（Ｃ）とのモル数の比
が２：１〜１：２であることが好ましい。

本発明による組成物は、使用条件として高い酸素指数を
必要とする被覆材とする場合は、ハロゲン化合物（Ｂ）
の含量を適宜法めることによって組成物中のハロゲン含
有量を調節し、目的とする酸素指数を満足するものを得
ることができる。

本発明に用いられる芳香族ポリエステル重合体（Ａ）は
溶融重合、界面重合や固相重合等の公知の方法で重合が
可能であり、固有粘度で０．５〜３．０程度のものが使
用可能である。

本発明の組成物は特に添加剤を用いなくても優れた性能
を示すが、更にその性能を向上させるべく、必要に応じ
て酸化防止剤や紫外線吸収剤等の安定剤、帯電防止剤、
他の難燃剤や難燃助剤、染料や顔料等の着色剤及び流動
性や離型性の改善のための滑剤、潤滑剤、結晶化促進剤
（核剤）、無機物等が使用できる。

安定剤としては、ヒンダードフェノール系、アミン系、
リン系等の化合物が使用できる。

ヒンダードフェノール系化合物の一例を示せば、２．２
゛−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノ
ール）、ヘキサメチレングリコールビス（３，５−ジ−
ｔ−ブチル−４−ヒドロキ、ジヒドロシンナメート）、
テトラキス〔メチレン（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−
ヒドロキシヒドロシンナメート）〕メタン、トリエチレ
ングリコールビス−３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒトｏ
−１−シー５−メチルフェニル）プロピオネート、１、
３．５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ
ーｔ−／チルー４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、ｎ
−オクタデシル−３−（４°−ヒドロキシ−３°、５°
−ジ−ｔ−ブチルフェノール）プロピオネート、４，４
°−メチレンビス（２，６−ジーを一ブチルフェノール
）、４．４°−ブチリデンビス（６−ｔ−ブチル−３−
メチルフェノール）、２．２”−チオジエチルビス［３
−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル
）プロピオネート、ジステアリル−３，５−ジ−ｔ−ブ
チル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、２−を−
ブチル−６−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−２−ヒド
ロキシベンジル）−４−メチルフェニルアクリレートの
少なくとも一種又は二種以上を使用することができる。

これらの中でも、ヘキサメチレングリコールビス（３，
５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナメー
ト）、テトラキス〔メチレン（３，５−ジ−ｔ−ブチル
−４−ヒドロキシヒドロシンナメート）〕メタン、トリ
エチレングリコールビス−３−（３−ｔ−ブチル−４−
ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオネートは特
に好ましい物質である。

アミン系化合物の一例を示せば、Ｎ−フェニル−Ｎ’−
イソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ、Ｎ’−ジ
フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、４．４°−ビス（
４−α、α−ジメチルベンジル）ジフェニルアミン、ジ
フェニルアミンとアセトンとの縮合反応物、Ｎ−フェニ
ルナフチルアミン、Ｎ、Ｎ’−シーβ−ナフチルフェニ
レンジアミンなどである。

リン系の化合物の例を示せば下記一般式（１６）で示さ
れるホスホナイト化合物等があり、式中、Ｒ１１＋　ＲｌＩ　ＲＩＧ及びＲｌＩ
　は炭素数１〜２５のアルキル基、置換アルキル基、ア
リール基又は置換アリール基であり、それぞれ同一であ
っても異なっていても良い。これらの例を示せば、メチ
ル基、エチル基、ブチル基、オクチル基、デシル基、ラ
ウリル基、トリデシル基、ステアリル基、フェニル基、
アルキル及ヒ／又はアルコキシ置換フェニル基などであ
る。また、Ｒ１２は炭素数４〜３３のアルキレン基、置
換アルキレン基、アリーレン基又は置換アリーレン基を
示しており、その例を示せば、ブチレン基、ナフチレン
基、フェニレン、ナフチレン基、ジフェニレン基、次式で示される基（式中、Ｑはオキシ基、スルホニル基、カ
ルボニル基、メチレン基、エチリデン基、ブチリデン基
、イソプロピレン基、ジアゾ基など）等である。特に好
ましいホスホナイト化合物としては、テトラキス（２，
４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−４，４’−ジフェニレ
ンホスホナイトが挙げられる。

添加量は組成物全量に対し０．０１〜５重量％であり、
好ましくは０．１〜３重量％である。

また、難燃助剤としては、三酸化アンチモン、ハロゲン
化アンチモン等のアンチモン化合物の他、亜鉛、ビスマ
スを含む金属化合物、水酸化マグネシウム或いはアスベ
ストの如き粘土質珪酸塩等が使用できる。

また、無機物としては、ガラス繊維、セラミック繊維、
ボロン繊維、チタン酸カリウム繊維、アスベスト等の一
般無機繊維、炭酸カルシウム、高分散性珪酸塩、アルミ
ナ、水酸化アルミニウム、タルク、クレー、マイカ、ガ
ラスフレーク、ガラス粉、ガラスピーズ、石英粉、珪砂
、ウオラストナイト、カーボンブラック、硫酸バリウム
、焼石膏、炭化珪素、アルミナ、ボロンナイトライドや
窒化珪素等の粉粒状物質、板状の無機化合物、ウィスカ
ー等が含まれる。

これらの無機充填剤は一種又は二種以上併用混合使用で
きる。

また、溶融押出被覆性、滑性、柔軟性改良などの目的で
、有機高分子物質を一種又は二種以上補助的に混合する
ことができる。−例を示せば、他の骨格のポリエステル
、ポリアミド、カルボン酸変性オレフィン及びそれ等の
共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン
等のポリオレフィン及びポリアクリレート、ＡＢＳ等の
変性ポリオレフィン、ポリカーボネート、ポリフェニレ
ンオキサイド、ポリフェニレンサルファイド、フッ素樹
脂等のエンジニアリングプラスチックス、ポリウレタン
、ブチルゴム、エチレンプロピレンゴム、各種エラスト
マー等のゴム状弾性ポリマー等が挙げられる。

本発明の組成物は、必要とする成分（Ａ）、　（Ｂ）。

（Ｃ）等を一般に使用される押出機等の如き溶融混合装
置を用いて混練し、ペレット化することによって調製で
きる。

次に本発明の組成物は導電線の被覆材料として特に有用
である。本発明の組成物による導電線の被覆は、通常の
方法で行うことができる。

即ち、本発明の組成物よりなる被覆材を溶融押出しによ
り、走行する導電体に被覆させる。

導電体の走行方向と被覆材の押出方向が同一線上にある
場合と一定の角度を持つクロスヘツドを用いる場合との
両者があるが、何れの場合でも本発明の電線は製造可能
である。

この目的での押出機は被覆材流量の制御がし易いスクリ
ュー型押出機を使用するのが好ましい。

被覆材の偏肉を検出する方法は、Ｘ線、超音波等の公知
の方法で行う。

被覆材の偏肉による偏心の度合は同心率ｅｃで表され、
ｅｃは大なる程よいが、６５％以上が好ましく、更に好
ましくは７０％以上である。

ｅ烏ａｍｅ＋ａｉｈ　　：被覆断面最小厚みｅ＋ａａｘ　　：被覆断面最大厚み偏肉の制御は偏肉検出機により検出して、スクリュー型
押出機のグイセンタ一部でグイと導体とのクリアランス
を自動的にもしくは手動で調整する方法、被覆材の流量
を圧力、温度と共に制御して調整する方法等で実施する
。

ダイに無偏心ヘッドを用いることも偏肉を小さくする上
で効果的である。

電線製造に際しては、所望により被覆材の機械的強度を
更に増加させる目的で、被覆材をコーティングし賦形し
た後に加熱ゾーンを通過させて製造させることができる
。加熱ゾーンの温度は被覆材の融点以下でガラス転移点
以上である。

〔発明の効果〕

本発明の難燃性樹脂組成物は、従来のポリエステル系被
覆材に比べて熱履歴による物性の低下を著しく改善した
為に、以下の様な優れた効果を生じる。

（１）被覆材の難燃性が高く、熱履歴による物性かの低
下が少ないので、熱源廻り、輸送機器のエンジン廻り、
電気製品の発熱部品廻りの電線用途に有効である。

（２）機械的特性、電気的特性を損ねることなく被覆材
の薄肉化が可能であり、尚且つ屈曲性に富んでいるので
、限られた空間の有効利用が飛躍的に増大する。特に情
報の集積度が高く、空間容量に制約のある宇宙ロケット
、航空機、自動車等の輸送機器、電気製品、コンピュー
ター、情報関連機器等の電線用途として効果的である。

又、上記のような特徴を持つために、本発明で得られる
組成物は、前述の側辺外にもかかる物性を兼備すること
が望ましい各種の機器材料、部品類等にも好適である。

〔実　施　例〕

以下に本発明を実施例をもって説明するが、本発明はこ
れに限定されるものではない。

実施例１ポリブチレンテレフタレート　（ＰＢＴ）　　（固有粘
度０．９５）　１００重量部に、テトラブロモテレフタ
ル酸°（以下ＴＢＴＡと略す）１０重量部と２゜２゛−
ｍ−フ二二しンビス（２−オキサゾリン）（以下ＰＢＯ
と略す）６重量部とを粉体混合し、通常の押出機を用い
て一様に溶融混合したペレットを得た。

得られたペレットから射出成形機を用いて通常の方法で
試験片を作成し、物性を評価した。

各物性は以下の方法により測定した。

引張り強度、伸び率（％）はＡＳＴＭ　０６３８により
測定した。絶縁破壊はＡＳＴＭ　Ｄ　１４９短時間法で
、誘電率はＤＩＳＯ１ｋＨｚにより各々測定した。また
、難燃性は［ＩＬ−９４Ｖに準拠した試験法で３０秒以
内に消えたものを０１消えなかったものを×と判定した
。酸素指数はＪＩＳ　Ｋ　７２０１により測定した。

表面形状は１２０℃、７２時間後の表面状態を観察し、
ブリード、ふくれ等、異常のあるものを×、ないものを
○とした。

また、引張り試験片を１２０℃の恒温槽に保存し、５０
０時間後の伸び率、伸び保持率を同様に測定した。

更にこの組成物を用い外径的１．９ｍｍの銅製円形圧縮
撚り線に０．３ｍｍの肉厚となるよう樹脂組成物を被覆
して電線を作成し、１２０℃の恒温槽に保存し、５００
時間後に９０°角で１０回折り曲げた後の表面状態を調
べ、屈曲性を評価した。割れや微細なりラックの発生し
たものを×、異常なきものを○とした。

各々の測定結果を表１に示す。

実施例２実施例１で用いたＰＢＴ１００重量部にテトラブロモビ
スフェノールＡ（以下ＴＢＢＡｌｒｔ）１０重量部とＰ
Ｂｏ　６重量部とを粉体混合し、通常の押出機を用いて
一様に溶融混合したペレットを得た。

得られた樹脂組成物を実施例１と同様にして物性を評価
した。

各々の測定結果を表１に示す。

実施例３実施例１．２で用いたＰＢＴ１００重量部にＴＢＴＡ　
１０重１９と、ジフェニルメタン−ビス−４，４°−Ｎ
、Ｎ’−ジエチレン尿素（以下ＭＤＩＡと略す）８重量
部とを粉体混合し、通常の押出機を用いて一様に溶融混
合したペレットを得た。

得られた樹脂組成物を実施例１．２と同様にして評価し
た。

結果を表１に示す。

比較例１実施例１〜３で用いたＰＢＴ１００重量部にデカブロモ
ジフェニルエーテル（以下ＤＢＤＰＥと略す）１０重量
部を粉体混合し、通常の押出機を用いて一様に溶融混合
したペレットを得た。

得られた樹脂組成物を実施例１〜３と同様にして評価し
た。

測定結果を表１に併せて示す。

実施例４ポリエチレンテレフタレー）　（ＰＥＴ）　　（固有粘
度１．１０）　１００重量部にＴＢＴＡＩＯ重量部、Ｐ
Ｂｏ　６重量部を粉体混合し、通常の押出機を用いて一
様に溶融混合したペレットを得た。

各々の測定結果を表１に示す。

比較例２実施例４で用いたＰＥＴ８０重量部にＤＢＤＰＥＩＯ重
量部を粉体混合し、通常の押出機を用いて一様に溶融混
合したペレットを得た。

各々の結果を表１に示す。

手続補正書（自発）平成１年１月１１日

Claims

【特許請求の範囲】１　（ａ）主として芳香族ジカルボン酸又はそのエステ
ル形成性誘導体と、（ｂ）主として脂肪族グリコール又
はそのエステル形成性誘導体を重縮合させることによっ
て得られる芳香族ポリエステル重合体（Ａ）に、下記一般式（１）又は（２）で示される化合物（Ｂ）と下記一般式（３）で示される化合物（Ｃ）とを組成物全
量に対してそれぞれ０．１〜３０重量％配合したことを
特徴とする難燃性樹脂組成物。 ▲数式、化学式、表等があります▼（１） ▲数式、化学式、表等があります▼（２）〔式中、Ｘはハロゲンを示す。Ｙ＿１，Ｙ＿２，は水酸
基、カルボン酸基、グリシジルエステル基、グリシジル
エーテル基のうちから選ばれる基を示す。Ｚは２価の有機基を示し、ｎは１以上の整数を示す。〕 ▲数式、化学式、表等があります▼（３）〔式中、Ｌ＿１及びＬ＿２は下記一般式（４）〜（７）
で表される官能基より選ばれる３乃至８員環の環状反応
性基であり、Ｌ＿１とＬ＿２は各々同一でも相異なって
いてもよい。 ▲数式、化学式、表等があります▼（４）▲数式、化学
式、表等があります▼（５） ▲数式、化学式、表等があります▼（６）▲数式、化学
式、表等があります▼（７）Ｒ＿１〜Ｒ＿３は２価の有機基を示し、環に直接結合し
ている水素はアルキル及び／又はアリルで置換されてい
てもよい。Ｍは２価の有機基を示す。〕２　一般式（１）又は（２）で示される化合物（Ｂ）の
分子量が５００〜５，０００である特許請求の範囲第１
項記載の樹脂組成物。３　一般式（２）で示される化合物（Ｂ）がハロゲン化
ジオール及び／又はハロゲン化ジカルボン酸である特許
請求の範囲第１項又は第２項記載の樹脂組成物。４　一般式（１）又は（２）で示される化合物（Ｂ）に
おいて、ハロゲン（Ｘ）が臭素である特許請求の範囲第
１〜３項のいずれか１項に記載の樹脂組成物。５　更に安定剤を組成物全量に対し０．１〜３重量％含
有する特許請求の範囲第１〜４項のいずれか１項に記載
の樹脂組成物。６　電導線の表面に、（ａ）主として芳香族ジカルボン酸又はそのエステル形
成性誘導体と、（ｂ）主として脂肪族グリコール又はそ
のエステル形成性誘導体を重縮合させることによって得
られる芳香族ポリエステル重合体（Ａ）に、下記一般式（１）又は（２）で示される化合物（Ｂ）と下記一般式（３）で示される化合物（Ｃ）とを組成物全
量に対してそれぞれ０．１〜３０重量％配合した難燃性
樹脂組成物よりなる被覆材を被覆してなることを特徴と
する電線。 ▲数式、化学式、表等があります▼（１） ▲数式、化学式、表等があります▼（２）〔式中、Ｘはハロゲンを示す。Ｙ＿１，Ｙ＿２，は水酸
基、カルボン酸基、グリシジルエステル基、グリシジル
エーテル基のうちから選ばれる基を示す。Ｚは２価の有機基を示し、ｎは１以上の整数を示す。〕 ▲数式、化学式、表等があります▼（３）〔式中、Ｌ＿１及びＬ＿２は下記一般式（４）〜（７）
で表される官能基より選ばれる３乃至８員環の環状反応
性基であり、Ｌ＿１とＬ＿２は各々同一でも相異なって
いてもよい。 ▲数式、化学式、表等があります▼（４）▲数式、化学
式、表等があります▼（５） ▲数式、化学式、表等があります▼（６）▲数式、化学
式、表等があります▼（７）Ｒ＿１〜Ｒ＿３は２価の有機基を示し、環に直接結合し
ている水素はアルキル及び／又はアリルで置換されてい
てもよい。Ｍは２価の有機基を示す。〕７　一般式（１）又は（２）で示される化合物（Ｂ）に
おいて、ハロゲン（Ｘ）が臭素である特許請求の範囲第
６項記載の電線。８　電線が低圧用電線である特許請求の範囲第６項又は
第７項記載の電線。