JPH01153760A - オキシ塩化ビスマスから成る真珠光沢顔料の製法 - Google Patents
オキシ塩化ビスマスから成る真珠光沢顔料の製法Info
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- JPH01153760A JPH01153760A JP63281511A JP28151188A JPH01153760A JP H01153760 A JPH01153760 A JP H01153760A JP 63281511 A JP63281511 A JP 63281511A JP 28151188 A JP28151188 A JP 28151188A JP H01153760 A JPH01153760 A JP H01153760A
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- bismuth oxychloride
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09C—TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
- C09C1/00—Treatment of specific inorganic materials other than fibrous fillers; Preparation of carbon black
- C09C1/0015—Pigments exhibiting interference colours, e.g. transparent platelets of appropriate thinness or flaky substrates, e.g. mica, bearing appropriate thin transparent coatings
- C09C1/0018—Pigments exhibiting interference colours, e.g. transparent platelets of appropriate thinness or flaky substrates, e.g. mica, bearing appropriate thin transparent coatings uncoated and unlayered plate-like particles
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Pigments, Carbon Blacks, Or Wood Stains (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、板片状のオキシ塩化ビスマスから成る真珠光
沢顔料の製法の関する。
沢顔料の製法の関する。
従来の技術
真珠光沢顔料の光学的作用は、平滑な表面を４材゛する
、板片状に構成された、強度に光を屈折する、半透明の
顔料粒子の配向された反射に依存する。真珠光沢顔料の
平均的粒子直径は、その作用が散乱又は吸収に起因する
顔料の平均直径よりも著しく大きい。該粒子直径は、小
さな直径を有する粒子に関しては絹様の柔らかく見なさ
れ、大きな直径を有する板片に関しては特徴的に光る効
果の形式を決定する。
、板片状に構成された、強度に光を屈折する、半透明の
顔料粒子の配向された反射に依存する。真珠光沢顔料の
平均的粒子直径は、その作用が散乱又は吸収に起因する
顔料の平均直径よりも著しく大きい。該粒子直径は、小
さな直径を有する粒子に関しては絹様の柔らかく見なさ
れ、大きな直径を有する板片に関しては特徴的に光る効
果の形式を決定する。
最も古典的な公知の合成真珠光沢顔料には、層構造を有
し、かつ一般に、葉片の形と見なすことができる正方形
の二重角錐体に結晶するオキシ塩化ビスマスが数えられ
る。
し、かつ一般に、葉片の形と見なすことができる正方形
の二重角錐体に結晶するオキシ塩化ビスマスが数えられ
る。
オキシ塩化ビスマス真珠光沢顔料は、一般に溶解したビ
スマス塩を塩素イオンの存在下に加水分解することによ
り沈澱せしめられる：Ｂｌ””Ｃ（２−”Ｈ２０→Ｂ１
０Ｃり＋２１１ ”この場合には、真珠光沢特性を有す
る板片状のＢ１０ＣＱ、結晶を得るためには、特定の反
応パラメータ、例えば濃度、撹拌条件、ｐ Ｈ値、温度
及び反応時間を維持することが極めて重要であるＢ１０
Ｃ（２真珠光沢顔料を製造するためには、既に種々の方
法が公知である。
スマス塩を塩素イオンの存在下に加水分解することによ
り沈澱せしめられる：Ｂｌ””Ｃ（２−”Ｈ２０→Ｂ１
０Ｃり＋２１１ ”この場合には、真珠光沢特性を有す
る板片状のＢ１０ＣＱ、結晶を得るためには、特定の反
応パラメータ、例えば濃度、撹拌条件、ｐ Ｈ値、温度
及び反応時間を維持することが極めて重要であるＢ１０
Ｃ（２真珠光沢顔料を製造するためには、既に種々の方
法が公知である。
米国特許第３７９８３１３号明細書には、水中に溶かし
たビスマス塩から出発し、塩酸の存在下に加水分解する
方法が記載された。このためには、まず０．２：Ｉ〜０
．８：ＩのＢｉ／ｌｌＣｆ２重量比を有するビスマス塩
の塩酸水溶液を、自発的加水分解を回避するためにＨＣ
ｌ２約１／２重量％未満を含有する、予め装入した量の
水中に装入する。この際、温度は６０℃ないし溶液の沸
点である。この場合、ビスマス塩は緩慢にＢ１０Ｃρ芽
晶を形成して沈澱する。Ｉ：ｌ〜２゜１のＢｉ／ＨＣσ
重量比を有する別のビスマス１１（４溶液を徐々に添加
すると、別のＢ１０Ｃ（２が析出し、−次的に形成され
た芽晶に成長するする。
たビスマス塩から出発し、塩酸の存在下に加水分解する
方法が記載された。このためには、まず０．２：Ｉ〜０
．８：ＩのＢｉ／ｌｌＣｆ２重量比を有するビスマス塩
の塩酸水溶液を、自発的加水分解を回避するためにＨＣ
ｌ２約１／２重量％未満を含有する、予め装入した量の
水中に装入する。この際、温度は６０℃ないし溶液の沸
点である。この場合、ビスマス塩は緩慢にＢ１０Ｃρ芽
晶を形成して沈澱する。Ｉ：ｌ〜２゜１のＢｉ／ＨＣσ
重量比を有する別のビスマス１１（４溶液を徐々に添加
すると、別のＢ１０Ｃ（２が析出し、−次的に形成され
た芽晶に成長するする。
ルーマニア特許第８８４２３号明細書には、同様にビス
マス塩、即ち硝酸ビスマスの加水分解に起因するＢ１０
（ｊ２真珠光沢顔料の製法が記載された。該方法によれ
ば、ｎ−プロパツールを含有するＨＣＱ／ ＨＮＯ３混
合物中の硝酸ビスマスの溶液を加熱沸騰させかつ次いで
徐々に希釈したＮａＯＨ水溶液を加える。冷却後に、濾
別する。
マス塩、即ち硝酸ビスマスの加水分解に起因するＢ１０
（ｊ２真珠光沢顔料の製法が記載された。該方法によれ
ば、ｎ−プロパツールを含有するＨＣＱ／ ＨＮＯ３混
合物中の硝酸ビスマスの溶液を加熱沸騰させかつ次いで
徐々に希釈したＮａＯＨ水溶液を加える。冷却後に、濾
別する。
ソヴイエト社会主義共和国連邦第４３６８４４号明細書
に記載のもう１つの方法によれば、同様に硝酸ビスマス
の塩酸溶液を水／イソプロパツール混合物中に装入して
加水分解することによりＢ１０Ｃσ真珠光沢顔料が製造
される。得られた反応混合物を別の工程で９０〜９６℃
で水中に装入する。冷却後に、Ｂ１０Ｃｆ２結晶を濾別
し、洗浄しかつヒマシ油で分散剤の存在下にペーストに
加工する。
に記載のもう１つの方法によれば、同様に硝酸ビスマス
の塩酸溶液を水／イソプロパツール混合物中に装入して
加水分解することによりＢ１０Ｃσ真珠光沢顔料が製造
される。得られた反応混合物を別の工程で９０〜９６℃
で水中に装入する。冷却後に、Ｂ１０Ｃｆ２結晶を濾別
し、洗浄しかつヒマシ油で分散剤の存在下にペーストに
加工する。
この塩素イオンの存在下でのビスマス塩の加水分解に基
づく方法において重要なことは、比較的高く希釈して操
作しかつＢ１０Ｃ１２結晶の析出を緩慢に結晶化にとっ
て重要な多数の条件を維持して実施することである。従
って、Ｂ１０Ｃ１２真珠光沢顔料の再現可能な製造は、
全く不可能ではないにしても、極めて困難である。
づく方法において重要なことは、比較的高く希釈して操
作しかつＢ１０Ｃ１２結晶の析出を緩慢に結晶化にとっ
て重要な多数の条件を維持して実施することである。従
って、Ｂ１０Ｃ１２真珠光沢顔料の再現可能な製造は、
全く不可能ではないにしても、極めて困難である。
変更可能なＣＱ顔料を有するオキシ塩化ビスマ＝３＝
スに関する経済性の研究（Ｒｕｓｓ、 Ｊ、 ｏｆ Ｉ
ｎｏｒｇ。
ｎｏｒｇ。
Ｃｈｅｍ、 ３０（７） １９８５． ｐ、９４８−９
４９）において、組成りｉ＋、Ｊ７Ｃ，（２＋２ の化合物から出発するＢ１０Ｃσの製法が記載されてい
る。この化合物は、ＢｉＣｌ２＋・２Ｈ２０とＢ１，０
３との混合物を６００℃の温度に２４０時間加熱するこ
とにより得られる。次いで、該材料をＨＣＱ、 ＮＨ，
Ｃｆ、 ＬｉＣ（２及びＫＣｆ２の水溶液の存在下に熱
水的に４００℃の温度で５〜７日間処理する。このよう
な方法では、出発物質： Ｂｉ＋２０＋ｔｅ１２２を製
造する際並びにその引き続いての熱水処理の際の長い時
間帯に亙って適用すべき高い温度に基づき旧ＯＣσ真珠
光沢顔料の工業的製造にためにはふされしくない。
４９）において、組成りｉ＋、Ｊ７Ｃ，（２＋２ の化合物から出発するＢ１０Ｃσの製法が記載されてい
る。この化合物は、ＢｉＣｌ２＋・２Ｈ２０とＢ１，０
３との混合物を６００℃の温度に２４０時間加熱するこ
とにより得られる。次いで、該材料をＨＣＱ、 ＮＨ，
Ｃｆ、 ＬｉＣ（２及びＫＣｆ２の水溶液の存在下に熱
水的に４００℃の温度で５〜７日間処理する。このよう
な方法では、出発物質： Ｂｉ＋２０＋ｔｅ１２２を製
造する際並びにその引き続いての熱水処理の際の長い時
間帯に亙って適用すべき高い温度に基づき旧ＯＣσ真珠
光沢顔料の工業的製造にためにはふされしくない。
発明が解決しようとする課題
従って、本発明の課題は、良好な空時収率でかつ著しい
測定及び制御費用を用いて維持すべき操作パラメータを
回避して、再現可能な特性を有するＢ１０Ｃ（！真珠光
沢顔料を製造する、Ｂ１０Ｃ（２真珠光沢顔料の製法を
提供することであった。
測定及び制御費用を用いて維持すべき操作パラメータを
回避して、再現可能な特性を有するＢ１０Ｃ（！真珠光
沢顔料を製造する、Ｂ１０Ｃ（２真珠光沢顔料の製法を
提供することであった。
課題を解決するための手段
前記課題は、水中に溶かしたビスマス塩を塩素イオンの
存在下に加水分解してオキシ塩化ビスマスを形成させる
ことによりオキシ塩化ビスマスから成る板片状の真珠光
沢顔料を製造する方法において、加水分解によって形成
されたオキシ塩化ビスマスを、引き続き熱水的に１２０
〜３６０℃の温度で０．２〜５．５のｐ Ｈ値で処理す
ることにより解決される。
存在下に加水分解してオキシ塩化ビスマスを形成させる
ことによりオキシ塩化ビスマスから成る板片状の真珠光
沢顔料を製造する方法において、加水分解によって形成
されたオキシ塩化ビスマスを、引き続き熱水的に１２０
〜３６０℃の温度で０．２〜５．５のｐ Ｈ値で処理す
ることにより解決される。
発明の作用
ビスマス塩、特に硝酸ビスマスから出発して、まず酸性
ビスマス塩溶液を製造する。該溶液は有利にはＩリット
ル当りビスマス塩 ０．２〜３モルを含有しかつ早期の
加水分解を回避するために、塩酸又は塩酸とビスマス塩
の酸との混合物を添加することにより−１，５〜十０．
５のｐ Ｈ値に調整する。酸性溶液中に、Ｉ：ｌ〜１・
５のＢｉ ： Ｃｆの原子比が存在すべきである。この
溶液から、水で希釈するにせよ、アルカリを添加するに
せよ、ｐ Ｈ値を＞１．有利には１゜５〜７に高めるに
せよ、Ｂ１０ＣＱを析出させる。
ビスマス塩溶液を製造する。該溶液は有利にはＩリット
ル当りビスマス塩 ０．２〜３モルを含有しかつ早期の
加水分解を回避するために、塩酸又は塩酸とビスマス塩
の酸との混合物を添加することにより−１，５〜十０．
５のｐ Ｈ値に調整する。酸性溶液中に、Ｉ：ｌ〜１・
５のＢｉ ： Ｃｆの原子比が存在すべきである。この
溶液から、水で希釈するにせよ、アルカリを添加するに
せよ、ｐ Ｈ値を＞１．有利には１゜５〜７に高めるに
せよ、Ｂ１０ＣＱを析出させる。
この際には、６０〜１００℃の温度を維持するのが有利
である。
である。
重要であるのは、この工程で専ら旧ＯＣρを析出させる
ことであり、かつ所定の方法パラメータを意図的に調整
することにより板片状構−造を有する生成物を得ること
は重要ではない。この理由から、高い空時収率を達成す
るために濃縮したビスマス塩溶液を調整することができ
かつ沈澱時間は公知方法におけるように重要でない反応
混合物から、Ｂ１０Ｃσを分離することができるが、し
かし反応混合物を直接的に熱水処理にかけることも可能
である。
ことであり、かつ所定の方法パラメータを意図的に調整
することにより板片状構−造を有する生成物を得ること
は重要ではない。この理由から、高い空時収率を達成す
るために濃縮したビスマス塩溶液を調整することができ
かつ沈澱時間は公知方法におけるように重要でない反応
混合物から、Ｂ１０Ｃσを分離することができるが、し
かし反応混合物を直接的に熱水処理にかけることも可能
である。
第１工程で得られたオキシ塩化ビスマスを、水と混合し
て２〜７０重量％、有利には５〜３０重量％の懸濁液に
しかつ塩酸を添加することにより０．２〜５，５、有利
には０．５〜２．５のｐ Ｈ値に調整する。該懸濁液を
塩化物を含有するのために耐食性材料、例えばタンタル
又はエナメルで被覆したオートクレーブ中に装入しかつ
そこで１２０〜３６０℃、有利には１５０〜２５０℃の
温度に加熱する。処理時間は、調整したＩ）Ｈ値及び選
択した温度に基づき決定さかつ該処理時間は製造すべき Ｂ１０Ｃ（２真珠光沢顔料の所定の平均粒度で、所定の
範囲内のｐＨ値が低くなればなる程かつ温度が高くなれ
ばなる程、短くてもよい。−膜内に、熱水処理の時間は
０．１〜８時間である。冷却後に、形成されたＢ１０
Ｃρ真珠光沢顔料を濾過し、洗浄しかつ乾燥する。
て２〜７０重量％、有利には５〜３０重量％の懸濁液に
しかつ塩酸を添加することにより０．２〜５，５、有利
には０．５〜２．５のｐ Ｈ値に調整する。該懸濁液を
塩化物を含有するのために耐食性材料、例えばタンタル
又はエナメルで被覆したオートクレーブ中に装入しかつ
そこで１２０〜３６０℃、有利には１５０〜２５０℃の
温度に加熱する。処理時間は、調整したＩ）Ｈ値及び選
択した温度に基づき決定さかつ該処理時間は製造すべき Ｂ１０Ｃ（２真珠光沢顔料の所定の平均粒度で、所定の
範囲内のｐＨ値が低くなればなる程かつ温度が高くなれ
ばなる程、短くてもよい。−膜内に、熱水処理の時間は
０．１〜８時間である。冷却後に、形成されたＢ１０
Ｃρ真珠光沢顔料を濾過し、洗浄しかつ乾燥する。
発明の効果
本発明による方法は、同様にビスマス塩の加水分解に基
づくオキシ塩化ビスマス真珠光沢顔料を製造する公知方
法に比較して、沈澱及び結晶成長が第２工程で進行しか
つ同時に沈澱の際には、結晶の最適な板片形への成長を
保証するパラメータに留意する必要がないという利点を
有する。この理由から、沈澱工程において操作＝７− パラメータを狭い限界内に維持する必要はない。専ら、
塩素イオンの存在下にｐＨ値を高めることによりビスマ
ス塩が完全に加水分解してＢ１０Ｃ（２が形成されるよ
うに留意すべきである。
づくオキシ塩化ビスマス真珠光沢顔料を製造する公知方
法に比較して、沈澱及び結晶成長が第２工程で進行しか
つ同時に沈澱の際には、結晶の最適な板片形への成長を
保証するパラメータに留意する必要がないという利点を
有する。この理由から、沈澱工程において操作＝７− パラメータを狭い限界内に維持する必要はない。専ら、
塩素イオンの存在下にｐＨ値を高めることによりビスマ
ス塩が完全に加水分解してＢ１０Ｃ（２が形成されるよ
うに留意すべきである。
第１工程で製造したＢ１０ＣＩ２の目的の結晶化を、初
めて熱水処理の第２工程で行う。該結晶化は、専ら最初
にＨＣｌで調整したｐ Ｈ値により、温度及び処理時間
により、高い制御費用を必要としないあらゆる制御量に
よって影響される。熱水的に後処理した生成物は、使用
した生成物に比較して常に高い光沢を有し、該光沢は本
発明による熱水的後処理により、特に使用した出発物質
の解凝集が行われる、即ち凝集した又はその上団結した
出発物質の粒子が分離して存在する個々の粒子に転化さ
れることに起因する。更に、熱水的に後処理した生成物
の粒度分布から明らかに、この処理により狭い粒度スペ
クトルが達成される。ＲＥＭ及びＴＥＭ写真は、均一な
直径／厚さ比及び平滑な表面を有する板片を示す。熱水
処理の際に、粒子の平均的横力向直径が増大する。
めて熱水処理の第２工程で行う。該結晶化は、専ら最初
にＨＣｌで調整したｐ Ｈ値により、温度及び処理時間
により、高い制御費用を必要としないあらゆる制御量に
よって影響される。熱水的に後処理した生成物は、使用
した生成物に比較して常に高い光沢を有し、該光沢は本
発明による熱水的後処理により、特に使用した出発物質
の解凝集が行われる、即ち凝集した又はその上団結した
出発物質の粒子が分離して存在する個々の粒子に転化さ
れることに起因する。更に、熱水的に後処理した生成物
の粒度分布から明らかに、この処理により狭い粒度スペ
クトルが達成される。ＲＥＭ及びＴＥＭ写真は、均一な
直径／厚さ比及び平滑な表面を有する板片を示す。熱水
処理の際に、粒子の平均的横力向直径が増大する。
実施例
以下に実施例に記載の１％−１は、別にことわりに無い
限り、「重量％」である。
限り、「重量％」である。
実施例１及び２は、出発物質として使用したオキシ塩化
ビスマスの加水分解による製造を示しかつ実施例３〜６
は熱水的後処理を示す。
ビスマスの加水分解による製造を示しかつ実施例３〜６
は熱水的後処理を示す。
実施例１
撹拌機、ｐＨ測定装置及び２つの計量供給ポンプを備え
た２σの４つ首フラスコに、水１０００Ｊ１１２中の３
８％のＨＣｌ１５ｇ（Ｉ（Ｃ１！０．１５モル）の溶液
を装入する。７０℃に加熱した受容物に、３８％のｌＩ
Ｃ１２］ ４５ ｇ（１、５モル）、６５％のｌｌＮ０
． １４５９Ｃ１、５モル）及び水２００ｘｆ２中のＢ
ｉ（ＮＯ３）：＋・５＋１，０２３９．６ ｆｌ（，０
，５モル）の溶液を１５１／ｍｉｎの速度で計量供給す
る、この際受容物中のｐＨ値は６Ｎカセイソーダ溶液を
同時に添加することにより０６５〜０．８８の値で保持
する。添加終了後（３０分）に、ｐ Ｔ−（値を２．５
に冒かめ、かつ得られたＢ１０Ｃｆ２をデンカチージョ
ンにより過剰の溶液から分離する。
た２σの４つ首フラスコに、水１０００Ｊ１１２中の３
８％のＨＣｌ１５ｇ（Ｉ（Ｃ１！０．１５モル）の溶液
を装入する。７０℃に加熱した受容物に、３８％のｌＩ
Ｃ１２］ ４５ ｇ（１、５モル）、６５％のｌｌＮ０
． １４５９Ｃ１、５モル）及び水２００ｘｆ２中のＢ
ｉ（ＮＯ３）：＋・５＋１，０２３９．６ ｆｌ（，０
，５モル）の溶液を１５１／ｍｉｎの速度で計量供給す
る、この際受容物中のｐＨ値は６Ｎカセイソーダ溶液を
同時に添加することにより０６５〜０．８８の値で保持
する。添加終了後（３０分）に、ｐ Ｔ−（値を２．５
に冒かめ、かつ得られたＢ１０Ｃｆ２をデンカチージョ
ンにより過剰の溶液から分離する。
得られた生成物は白色であり、光沢を呈せずかつ広い粒
度分布を有し、該粒度はキラス（Ｃｉｌａｓ）粒度計で
測定して平均６．８μｍである。
度分布を有し、該粒度はキラス（Ｃｉｌａｓ）粒度計で
測定して平均６．８μｍである。
実施例２
撹拌機、ｐＨ測定装置及び接続された計量供給ポンプを
備えた２ρの４つ首フラスコに、６５％（１） ＨＮＯ
３２５ｘ（１、ＨＣｌ２２１ｉａ（０，２６モル）、ｎ
−プロパツールｌ０ｘ（！及びＨ，０４００ＪＩ１２を
装入する。ｓ＋（Ｎｏ３）３・５Ｈ３０］ ２ ］ 、
２５ｇ（０，２５モル）を撹拌下に受容物中に装入する
。０．４５ のＴ） Ｈ値で、還流まで加熱し、かつＩ
ＮのＮａ０ＨＩ ０００ ｘＱを２０ ｘ（１／ｍｊｎ
の速度で計量供給することにより、オキシ塩化ビスマス
を析出させる。更に３０分間撹拌した後に、溶液を冷却
し、Ｂ１０Ｃ（２を濾別しかつ水で洗浄する。
備えた２ρの４つ首フラスコに、６５％（１） ＨＮＯ
３２５ｘ（１、ＨＣｌ２２１ｉａ（０，２６モル）、ｎ
−プロパツールｌ０ｘ（！及びＨ，０４００ＪＩ１２を
装入する。ｓ＋（Ｎｏ３）３・５Ｈ３０］ ２ ］ 、
２５ｇ（０，２５モル）を撹拌下に受容物中に装入する
。０．４５ のＴ） Ｈ値で、還流まで加熱し、かつＩ
ＮのＮａ０ＨＩ ０００ ｘＱを２０ ｘ（１／ｍｊｎ
の速度で計量供給することにより、オキシ塩化ビスマス
を析出させる。更に３０分間撹拌した後に、溶液を冷却
し、Ｂ１０Ｃ（２を濾別しかつ水で洗浄する。
得られた生成物は白色であり、光沢を呈しない。走査電
子顕微鏡写真によれば、多数の入り交じって成長した１
μｍの大きさの板片から成る、多数の大きな凝集物を呈
する。
子顕微鏡写真によれば、多数の入り交じって成長した１
μｍの大きさの板片から成る、多数の大きな凝集物を呈
する。
実施例３
実施例１で得られたＢ１０Ｃρを５％の懸濁液内で混練
し、かつタンタルで内部被覆した撹拌及び加熱可能なオ
ートクープ中に装入する。ｐ Ｔ−１値は３８％のＨＣ
ｌ２を添加することにより３に調整する。該オートクー
プを撹拌（３００ｍ１ｎ−’）下に２００℃に加熱し、
この温度で３０分間放置し、次いで冷却する。
し、かつタンタルで内部被覆した撹拌及び加熱可能なオ
ートクープ中に装入する。ｐ Ｔ−１値は３８％のＨＣ
ｌ２を添加することにより３に調整する。該オートクー
プを撹拌（３００ｍ１ｎ−’）下に２００℃に加熱し、
この温度で３０分間放置し、次いで冷却する。
濾別した生成物は高い光沢を有しかつ走査電子顕微鏡で
拡大すると平滑な表面を有するｑｔ−の板片を呈する。
拡大すると平滑な表面を有するｑｔ−の板片を呈する。
実施例４
その他は、実施例３に記載と同じ条件下で、熱水処理を
６０分間の時間帯に亙って実施する光沢を判定するため
に、得られた顔料を２５％の顔料濃度でレッド・デビル
（Ｒｅｄ Ｄｅｖｉｌ）内で５分間振ることによりポリ
エステル樹脂中に埋め込みかつ次いで２００μｍの湿式
フィルム厚さで黒色の紙に塗布する。
６０分間の時間帯に亙って実施する光沢を判定するため
に、得られた顔料を２５％の顔料濃度でレッド・デビル
（Ｒｅｄ Ｄｅｖｉｌ）内で５分間振ることによりポリ
エステル樹脂中に埋め込みかつ次いで２００μｍの湿式
フィルム厚さで黒色の紙に塗布する。
乾燥後に、該塗膜を“エリクセン・グロスマスタ（Ｅｒ
ｉｃｈｓｅｎ−ＧＩｏｓｓｍａｓｔｅｒＸ光沢測定のた
めのレフレクタ、モデル５０７）を用いて６０゜及び８
５°の角度で調査する。
ｉｃｈｓｅｎ−ＧＩｏｓｓｍａｓｔｅｒＸ光沢測定のた
めのレフレクタ、モデル５０７）を用いて６０゜及び８
５°の角度で調査する。
以下の第１表では、熱水処理しなかった顔料（実施例１
）の光沢と熱水後処理した顔料（実施例４）の光沢とを
対比させる。
）の光沢と熱水後処理した顔料（実施例４）の光沢とを
対比させる。
第 １ 表
実施例 熱水処理 平均粒度 光沢
−−−□−−時朋子恒り□−−−□℃卯】−□旦勇°
８−叶］ ６．８
０．７ ０．１４ ６０
１１．３ ８，０ １４．５上記表から明らか
であるように、熱水処理は出発物質に比較して著しい光
沢上昇を惹起する。実施例４に基づき得られた顔料のＲ
ＥＭ写真は、丸い輪郭を有する粒子を呈する。この粒子
の表面は、極めて平滑である。長時間の滞留時間での粒
子のキラス（Ｃ１１ａｓ）粒度計で測定された成長は、
ｒ（ＥＭ写真によって証明される。
−−−□−−時朋子恒り□−−−□℃卯】−□旦勇°
８−叶］ ６．８
０．７ ０．１４ ６０
１１．３ ８，０ １４．５上記表から明らか
であるように、熱水処理は出発物質に比較して著しい光
沢上昇を惹起する。実施例４に基づき得られた顔料のＲ
ＥＭ写真は、丸い輪郭を有する粒子を呈する。この粒子
の表面は、極めて平滑である。長時間の滞留時間での粒
子のキラス（Ｃ１１ａｓ）粒度計で測定された成長は、
ｒ（ＥＭ写真によって証明される。
実施例５
実施例３に記載と同様に、実施例１で得られたＢ１０Ｃ
１２を１．０のｐＨ値でその他は同じ条件下で加熱した
。加熱した後に、撹拌機を遮断しかつ反応混合物を２０
０℃の温度で２時間熱水処理した。
１２を１．０のｐＨ値でその他は同じ条件下で加熱した
。加熱した後に、撹拌機を遮断しかつ反応混合物を２０
０℃の温度で２時間熱水処理した。
得られた生成物は板片状でありかつ凝集及び団結を示さ
ない、該粒子は、ＲＥＭ写真から明らかなように、平滑
な表面及び丸い輪郭を有する。
ない、該粒子は、ＲＥＭ写真から明らかなように、平滑
な表面及び丸い輪郭を有する。
第 ２ 表
実施例 ｐＨ値 平均粒度 光沢
−（μｍ） ６０° 多−旺 １ ６．８ ０．７
０．＋５ １．０ １６．２
１２，９ ２３．５第２表から、熱水処理は光沢の
著しい一ヒ昇を惹起することが明らかである。
−（μｍ） ６０° 多−旺 １ ６．８ ０．７
０．＋５ １．０ １６．２
１２，９ ２３．５第２表から、熱水処理は光沢の
著しい一ヒ昇を惹起することが明らかである。
実施例６
実施例２で得られた生成物を２５％の水性懸濁液の形で
エナメルで内部被覆した撹拌及び加熱可能なオートクー
プ中に装入する。ｐＨ値は３８％のＨＣＱを添加するこ
とにより１．１に調整する。該オートクープを撹拌（３
００ｍ１ｎ−’）下に２００℃に加熱する。次いで、撹
拌機を遮断し、この温度で６０分間放置し、次いで冷却
する。引き続き、生成物を濾別し、洗浄しかつ乾燥する
。
エナメルで内部被覆した撹拌及び加熱可能なオートクー
プ中に装入する。ｐＨ値は３８％のＨＣＱを添加するこ
とにより１．１に調整する。該オートクープを撹拌（３
００ｍ１ｎ−’）下に２００℃に加熱する。次いで、撹
拌機を遮断し、この温度で６０分間放置し、次いで冷却
する。引き続き、生成物を濾別し、洗浄しかつ乾燥する
。
得られる生成物は高い光沢を有しかつ走査電子顕微鏡に
おいて１２．３μｍの平均直径を有する分離した粒子を
呈する。粒子の表面は平滑でありかつ丸い輪郭をを有す
る。該生成物の光沢値を、第３表において熱水処理しな
かった出発物質（実施例２）の値に対比させて示ず。
おいて１２．３μｍの平均直径を有する分離した粒子を
呈する。粒子の表面は平滑でありかつ丸い輪郭をを有す
る。該生成物の光沢値を、第３表において熱水処理しな
かった出発物質（実施例２）の値に対比させて示ず。
第 ３ 表
実施例 粒子の種類 光沢測定６０
’ ８５’ ２ 凝集物 ０．７ ０．
１６ 個別粒子 ６．９
２．１この場合も、熱水後処理は光沢の著しい上昇を示
す。
’ ８５’ ２ 凝集物 ０．７ ０．
１６ 個別粒子 ６．９
２．１この場合も、熱水後処理は光沢の著しい上昇を示
す。
代理人 弁理士 １）代 然 治
Claims (1)
- 水中に溶かしたビスマス塩を塩素イオンの存在下に加水
分解してオキシ塩化ビスマスを形成させることによりオ
キシ塩化ビスマスから成る板片状の真珠光沢顔料を製造
する方法において、加水分解によって形成されたオキシ
塩化ビスマスを、引き続き熱水的に１２０〜３６０℃の
温度で０．２〜５．５のｐＨ値で処理することを特徴と
する、オキシ塩化ビスマスから成る真珠光沢顔料の製法
。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19873738114 DE3738114A1 (de) | 1987-11-10 | 1987-11-10 | Verfahren zur herstellung von bismutoxidchlorid-perlglanzpigmenten |
| DE3738114.8 | 1987-11-10 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01153760A true JPH01153760A (ja) | 1989-06-15 |
Family
ID=6340173
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63281511A Pending JPH01153760A (ja) | 1987-11-10 | 1988-11-09 | オキシ塩化ビスマスから成る真珠光沢顔料の製法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0315849B1 (ja) |
| JP (1) | JPH01153760A (ja) |
| DE (2) | DE3738114A1 (ja) |
| ES (1) | ES2023241B3 (ja) |
| FI (1) | FI885171L (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006525936A (ja) * | 2003-05-12 | 2006-11-16 | チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド | ビスマス含有顔料固溶体 |
| CN103130275A (zh) * | 2013-03-25 | 2013-06-05 | 中国科学院新疆理化技术研究所 | 一种片层珠光氯氧化铋的制备方法 |
Families Citing this family (8)
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| DE19525503A1 (de) | 1995-07-13 | 1997-01-16 | Basf Ag | Goniochromatische Glanzpigmente auf Basis transparenter, nichtmetallischer, plättchenförmiger Substrate |
| US5958125A (en) * | 1996-07-05 | 1999-09-28 | Schmid; Raimund | Goniochromatic luster pigments based on transparent, nonmetallic, platelet-shaped substrates |
| DE10340463A1 (de) * | 2003-09-03 | 2005-03-31 | Hefele, Josef, Dr. | Verfahren zur Herstellung von lichtbeständigem Bismutoxidchlorid und seine Verwendung |
| CN104386746B (zh) * | 2014-11-19 | 2017-01-18 | 北京大学 | 一种利用水热法制备小尺寸氯氧化铋晶片的方法 |
| CN105197994A (zh) * | 2015-11-05 | 2015-12-30 | 南昌航空大学 | 一种有机熔盐法制备棒组装球状BiOCl纳米颗粒的方法 |
| CN107601559A (zh) * | 2017-09-08 | 2018-01-19 | 济南大学 | 一种聚乙烯吡咯烷酮诱导制备氯氧化铋多孔纳米片的方法 |
| CN109569672A (zh) * | 2018-12-13 | 2019-04-05 | 哈尔滨理工大学 | 一种BiOCl(100)/BiOCl(001)同相同质结及制备方法 |
| CN114225951B (zh) * | 2021-12-09 | 2023-11-17 | 四川轻化工大学 | 一种表面光电压信号增强型BiOCl的处理方法 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3798313A (en) * | 1971-11-11 | 1974-03-19 | Paispearl Prod Inc | Production of bismuth oxychloride crystals of enhanced luster and covering power |
-
1987
- 1987-11-10 DE DE19873738114 patent/DE3738114A1/de not_active Withdrawn
-
1988
- 1988-10-31 EP EP88118075A patent/EP0315849B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1988-10-31 DE DE8888118075T patent/DE3863901D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1988-10-31 ES ES88118075T patent/ES2023241B3/es not_active Expired - Lifetime
- 1988-11-09 JP JP63281511A patent/JPH01153760A/ja active Pending
- 1988-11-10 FI FI885171A patent/FI885171L/fi not_active IP Right Cessation
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006525936A (ja) * | 2003-05-12 | 2006-11-16 | チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド | ビスマス含有顔料固溶体 |
| JP4912871B2 (ja) * | 2003-05-12 | 2012-04-11 | チバ ホールディング インコーポレーテッド | ビスマス含有顔料固溶体 |
| CN103130275A (zh) * | 2013-03-25 | 2013-06-05 | 中国科学院新疆理化技术研究所 | 一种片层珠光氯氧化铋的制备方法 |
| CN103130275B (zh) * | 2013-03-25 | 2014-08-06 | 中国科学院新疆理化技术研究所 | 一种片层珠光氯氧化铋的制备方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0315849A1 (de) | 1989-05-17 |
| FI885171A7 (fi) | 1989-05-11 |
| DE3863901D1 (de) | 1991-08-29 |
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| ES2023241B3 (es) | 1992-01-01 |
| FI885171L (fi) | 1989-05-11 |
| DE3738114A1 (de) | 1989-05-18 |
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