JPH01155666A - 光電変換装置 - Google Patents

光電変換装置

Info

Publication number
JPH01155666A
JPH01155666A JP62314644A JP31464487A JPH01155666A JP H01155666 A JPH01155666 A JP H01155666A JP 62314644 A JP62314644 A JP 62314644A JP 31464487 A JP31464487 A JP 31464487A JP H01155666 A JPH01155666 A JP H01155666A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
photoelectric conversion
conversion device
thin film
group
semiconductor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP62314644A
Other languages
English (en)
Inventor
Koji Mori
孝二 森
Masakuni Itagaki
板垣 雅訓
Masumitsu Ino
益充 猪野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ricoh Co Ltd
Original Assignee
Ricoh Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ricoh Co Ltd filed Critical Ricoh Co Ltd
Priority to JP62314644A priority Critical patent/JPH01155666A/ja
Publication of JPH01155666A publication Critical patent/JPH01155666A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy

Landscapes

  • Photovoltaic Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [技術分野] 本発明は光電変換装置に関し、さらに詳しくは超電導材
料層を有する積層構造の光電変換装置に関する。
[従来技術] 従来のこの種の光電変換装置の一例を第3図および第4
図を参照して説明する。
第3図に示す光電変換装置11は、基体12上にInS
b (I[I−V族の半導体) 層13ヲ形成シ、その
InSbnSb上にCd5(光導電体)層14を形成し
、そのCd5a14上に上部電極16を形成した構造に
なっている。15は絶縁膜でおる。
InSbはバンドギVツブの狭い材料であり波長10μ
m以下の赤外線領域に感度が高く、CdSはバンドギャ
ップの広い材料であり、可視光線領域に感度が高いので
、これらのへテロ接合によって、第4図に示すように、
可視光線領域から赤外線領域までカバーする光電変換装
置となる。
ところが上記従来の光電変換装置は、可視光線領域から
赤外線領域までカバーしているが、第4図に示すように
、せいぜい波長10μm程度までであり、遠赤外線領域
まではカバーすることができない問題点がある。
[目 的1 本発明は、波長が10μmより長い遠赤外線領域をカバ
ーしうる高帯域の光電変換装置を提供することを目的と
する。
し構 成] 上記の目的を達成するために本発明は、基体上に少なく
とも超電導材料と半導体材料との積層構造を基本構造に
有することを特徴とする光電変換装置を提供するもので
ある。
本発明における超電導材料としては、例えば、R,X、
Z、D、Aからなる化合物R6XxZZD6A(:xが
好適に用いられる。
(但し、 RはSc、Y、Laおよびランタナイド族の元素 Xは周期律表第■族の元素 Zは遷移金属元素 りは周期律表第IV族カルコゲン元素 AはB、C,N、F、Si、Geの元素であって、各々
はグループ内の元素の1種または2種以上を含有し、α
≧Oである) 上記超電導材料における周期律表第■族の元素Xとして
はBa、3r、 Caが好ましい。また、遷金属元素Z
としてはCuが好ましい。周期律表第IV族カルコゲン
元素としてはo、seが好ましい。
半導体材料としては、II−IV族、■−v族、V族の
半導体であり、そのバンドキャップ(ECJ)が前記超
電導材料のKTc  (k:ボルツマン定数、TC:超
電導を示す臨界温度)よりも大きいものが本発明の目的
達成の上で好ましい。
超電導材料はTc以下の温度で超電導状態を呈し、半導
体と同様なバンドギャップを有し、Eq=KTcなる関
係からすると超ナローバンドギャップ(narrow 
band gap )材ということができ、これは極め
て長い波長(遠赤外)を感する光電材料としての性質を
持っていることを意味している。
前述の超電導材料R6XxZ2D6Aaは30に〜30
0 kの範囲にわたり超電導状態を呈し、理論的には2
〜20meVの値を有し、遠赤外の波長を感すること、
比較的Tcが高く冷却が容易で超電導状態が得られやす
いこと等から特に好ましいものである。
一方、半導体材料は、可視から近赤外に感度をもってい
る。
そこで、これらの材料層のへテロ接合を形成することに
よって、可視光線領域から遠赤外領域まで及ぶ極めて広
く且つ高帯域の光電変換装置を得ることができる。
[実施例コ 以下、図面に示す実施例により本発明を更に説明する。
ただし、これにより本発明が限定されるものではない。
第1図は本発明の一実施例の光電変換装置を示すもので
ある。
この光電変換装置1は、基板2の上に超電導材料薄膜層
3を形成し、その上に半導体材料薄膜層4を形成し、側
面に層間絶縁膜5を形成し、さらに上部電極6を形成し
た構造になっている。
超電導材料薄膜層3は、電流取り出し用電極の働きも兼
用している。
超電導材料は、例えば前記化合物(R,XxZ2DδA
(:x)においてRがYlXがBa、ZがCUlOがO
であって、rが約1.0. xが約2.012が約3.
019.0>δ> 5.0. 0.5>a≧Oである化
合物である。
半導体材料は、例えば、GaASである。
かかる光電変換装置1によれば、例えば第2図に示す如
き分光感度特性が得られるが、可視領域から遠赤外領域
まで極めて広く且つ高い帯域まで感度をもっていること
がわかる 他の実施例としては、超電導材料は光電変換専用に用い
、別個の材料で電流取り出し電極を構成したものが挙げ
られる。
また他の実施例としては、基体上に半導体材料薄膜層を
形成し、その上に超電導材料薄膜層を形成するように、
層の順序を入れ換えたものが挙げられる。
ざらに他の実施例としては、超電導材料薄膜層と半導体
材料薄膜層の積層構造を2以上組み合わせたものが挙げ
られる。
[効 果] 本発明によれば、波長が10μmより長い遠赤外領域ま
で感度のある極めて高帯域の光電変換装置が得られ、−
次元あるいは二次元の光電センサとして有用なものとな
る。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例の光電変換装置の模式的断面
図、第2図は第1図に示す実施例装置の分光感度特性図
、第3図は従来の光電変換装置の一例の模式的断面図、
第4図は第3図に示す従来装置の分光感度特性図である

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)基体上に少なくとも超電導材料と半導体材料との
    積層構造を基本構造に有することを特徴とする光電変換
    装置。
  2. (2)超電導材料が、R、X、Z、D、Aからなる化合
    物R_rX_xZ_zD_δA_αである特許請求の範
    囲第1項記載の光電変換装置。 (但し、 RはSc、Y、Laおよびランタナイド族の元素 Xは周期律表第II族の元素 Zは遷移金属元素 Dは周期律表第VI族カルコゲン元素 AはB、C、N、F、Si、Geの元素 であって、各々はグループ内の元素の1種または2種以
    上を含有し、α≧0である)
  3. (3)半導体材料が、II−IV族、III−V族またはVI族
    の半導体であり、かつそのバンドキャップ(Eg)が超
    電導体のKTc(Tc:臨界温度、K:ボルツマン定数
    )よりも大きい特許請求の範囲第1項記載の光電変換装
    置。
JP62314644A 1987-12-11 1987-12-11 光電変換装置 Pending JPH01155666A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP62314644A JPH01155666A (ja) 1987-12-11 1987-12-11 光電変換装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP62314644A JPH01155666A (ja) 1987-12-11 1987-12-11 光電変換装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH01155666A true JPH01155666A (ja) 1989-06-19

Family

ID=18055810

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP62314644A Pending JPH01155666A (ja) 1987-12-11 1987-12-11 光電変換装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH01155666A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5244870A (en) * 1990-05-11 1993-09-14 The University Of Tokyo Superconductive optoelectronic device with the basic substance Cu2 O of superconductive-conjugate photoconductivity

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5244870A (en) * 1990-05-11 1993-09-14 The University Of Tokyo Superconductive optoelectronic device with the basic substance Cu2 O of superconductive-conjugate photoconductivity

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5264375A (en) Superconducting detector and method of making same
Rogalski Infrared detectors
US5288649A (en) Method for forming uncooled infrared detector
Rogalski Infrared detectors: an overview
US5380669A (en) Method of fabricating a two-color detector using LPE crystal growth
Ishikawa et al. Low-cost 320x240 uncooled IRFPA using a conventional silicon IC process
EP0534768A1 (en) Uncooled infrared detector and method for forming the same
JPH04234170A (ja) 複数波長応答性赤外線検出装置
Zerov et al. Heat-sensitive materials for uncooled microbolometer arrays
JP4137999B2 (ja) 反射性半導体基板
Wilson et al. Integrated two-color detection for advanced focal plane array (FPA) applications
Martin et al. Arrays of thermally evaporated PbSe infrared photodetectors deposited on Si substrates operating at room temperature
US4791467A (en) Heterojunction HgCdTe photovoltaic detector and its production process
Zandian et al. Mid-wavelength infrared p-on-n Hg1− xCdxTe heterostructure detectors: 30–120 kelvin state-of-the-Art performance
Andersson et al. 320 x 240 pixels quantum well infrared photodetector (QWIP) array for thermal imaging: fabrication and evaluation
JPH01155666A (ja) 光電変換装置
Rogalski Comparison of photon and thermal detector performance
Frederikse et al. Photoeffects in intermetallic compounds
JP3311869B2 (ja) 半導体光電変換素子およびこれを用いた撮像装置
Lucas Infrared detection, some recent developments and future trends
Wang et al. HgCdTe/CdTe heterostructure diodes and mosaics
Bahir et al. Planar p-on-n HgCdTe heterostructure infrared photodiodes
Karam et al. Growth and characterization of inTISb for IR-detectors
Lindle et al. Negative luminescence from large-area HgCdTe photodiode arrays with 4.8-6.0-/spl mu/m cutoff wavelengths
Khrebtov et al. High-temperature superconducting bolometers based on silicon-membrane technology