JPH01157997A - 新規なα―ジアゾアセト酢酸エステル - Google Patents
新規なα―ジアゾアセト酢酸エステルInfo
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- JPH01157997A JPH01157997A JP31400187A JP31400187A JPH01157997A JP H01157997 A JPH01157997 A JP H01157997A JP 31400187 A JP31400187 A JP 31400187A JP 31400187 A JP31400187 A JP 31400187A JP H01157997 A JPH01157997 A JP H01157997A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、光感応性材料として、極めて有用な新規物質
に関する。
に関する。
更に詳しくは、α−ジアゾアセト酢酸エステルおよびそ
の前駆体に関するものである。
の前駆体に関するものである。
芳香環を含むジアゾケトン化合物は、３００ ｎｍ以上
の光ｌこ感応する材料として、レジストの感光剤等に使
用されているが、３００ｎｍ 以下の光に対しては感度
が恕く、ブリーチング作用も起こらないという欠点があ
った。一方、３００ｎｍ 以下の光に感応するジアゾケ
トン化合物おしては、ビー・デイ−・グランドらがアイ
・イー・イー・イー・トランザクション オン エレク
トロン テハイシス、第２８巻、第１３００頁（１９ｓ
１ ） （Ｂ−Ｄ、 Ｇｒａｎｔｅｔａｌ 、 ＬＥＥ
ＥＴｒａｎｓ Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｄｅｖｉｃｅｓ、
ＥＤ−２８１３００（１９８１） で述べているよう
に、５−ジアゾメルドラム酸およびその誘導体等が知ら
れている力＼これらの材料は、ブリーチング作用に優れ
ているも０〕の、溶解性が乏しく、また、昇華性がある
などの問題があり、実用上、その改讐が強く望韮れてい
た。
の光ｌこ感応する材料として、レジストの感光剤等に使
用されているが、３００ｎｍ 以下の光に対しては感度
が恕く、ブリーチング作用も起こらないという欠点があ
った。一方、３００ｎｍ 以下の光に感応するジアゾケ
トン化合物おしては、ビー・デイ−・グランドらがアイ
・イー・イー・イー・トランザクション オン エレク
トロン テハイシス、第２８巻、第１３００頁（１９ｓ
１ ） （Ｂ−Ｄ、 Ｇｒａｎｔｅｔａｌ 、 ＬＥＥ
ＥＴｒａｎｓ Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｄｅｖｉｃｅｓ、
ＥＤ−２８１３００（１９８１） で述べているよう
に、５−ジアゾメルドラム酸およびその誘導体等が知ら
れている力＼これらの材料は、ブリーチング作用に優れ
ているも０〕の、溶解性が乏しく、また、昇華性がある
などの問題があり、実用上、その改讐が強く望韮れてい
た。
本発明の目的は、上記した材料の欠点を補い、％ｆこ、
ブリーチング作用、溶解性に優れ昇華性のないことを特
徴とする３００ ｎｍ 以下の光に感応するジアゾケト
ン化合物を提供することにある。
ブリーチング作用、溶解性に優れ昇華性のないことを特
徴とする３００ ｎｍ 以下の光に感応するジアゾケト
ン化合物を提供することにある。
上記目的を達成するために、本発明者は、棟々のジアゾ
ケトン化合物を合成した結果、３００ｎｍ以下の光に感
応して効率良くブリーチングするとともに溶解性に優れ
、昇華性のないジアゾケトン化合物として、出発原料が
、コール酸、デオキシコール酸あるいはりトコール酸が
あり、かつ、下記−数式（りで示されるα−ジアゾアセ
ト酢酸エステルが、上記目的を満足する有用な化合物で
あることを見い出した。
ケトン化合物を合成した結果、３００ｎｍ以下の光に感
応して効率良くブリーチングするとともに溶解性に優れ
、昇華性のないジアゾケトン化合物として、出発原料が
、コール酸、デオキシコール酸あるいはりトコール酸が
あり、かつ、下記−数式（りで示されるα−ジアゾアセ
ト酢酸エステルが、上記目的を満足する有用な化合物で
あることを見い出した。
但し、Ｒ＋は、−ＣＯ２Ｈ，−ＣＯ２Ｒ９（ここでＲ９
は芳香環を含まない一価の有機基で、例えば、ＣＩ”Ｃ
１００Ｎ’２０ ＩＩ ＩＩ ＩＩ のアルキル基等が良い。）および−Ｃｈ２０Ｃ−Ｃ−Ｃ
−ＣＨａから選ばれた一種Ｉ Ｒ２＋ Ｒ３１Ｒ４は、
−Ｈ，−ＯＨ，お式（１）中ｌこは少なくとも１個のα
−ジアゾアセト酢酸エステル基が含まれるものである。
は芳香環を含まない一価の有機基で、例えば、ＣＩ”Ｃ
１００Ｎ’２０ ＩＩ ＩＩ ＩＩ のアルキル基等が良い。）および−Ｃｈ２０Ｃ−Ｃ−Ｃ
−ＣＨａから選ばれた一種Ｉ Ｒ２＋ Ｒ３１Ｒ４は、
−Ｈ，−ＯＨ，お式（１）中ｌこは少なくとも１個のα
−ジアゾアセト酢酸エステル基が含まれるものである。
本発明のα−ジアゾアセト酢酸エステルは、以下のよう
（こして合成することができる。
（こして合成することができる。
出発原料は、コール酸、デオキシコール酸あるいはりト
コール酸であり、出発原料、出発原料のＲ９エステル坏
（ここでＲ９は芳香ｉ＋含まない一価の有機基で、例え
ば、Ｃ１〜Ｃｓｏのアルキル基等が良い。）あるいは出
発原料の還元体の水酸基のうち、少なくとも１個を、酸
触媒下におけるアセト酢熾エステルとのエステル又換反
応あるいは酸触媒下ｉｃＳけるジケテンとの反応等を用
いて、アセト酢酸エステル基に変換し、下記−数式（２
）で示される一般式（１）に対応した前駆体を得る。
コール酸であり、出発原料、出発原料のＲ９エステル坏
（ここでＲ９は芳香ｉ＋含まない一価の有機基で、例え
ば、Ｃ１〜Ｃｓｏのアルキル基等が良い。）あるいは出
発原料の還元体の水酸基のうち、少なくとも１個を、酸
触媒下におけるアセト酢熾エステルとのエステル又換反
応あるいは酸触媒下ｉｃＳけるジケテンとの反応等を用
いて、アセト酢酸エステル基に変換し、下記−数式（２
）で示される一般式（１）に対応した前駆体を得る。
但し、Ｒ５は一■２Ｈ，ＣＯ２Ｒ９および０ 曾
ｌ
−ＣＨ２Ｏ−Ｃ−ＣＨ２−Ｃ−ＣＨｓから選ばれた一種
、 Ｒｓ ＋ Ｒ７選ばれた一種で、−数式（２）には
少なくとも１個のアセト酢酸エステル基が含まれている
。次いで、アセト酢酸エステル基＋Ｐ−）ルエンスルホ
ニルアジドとアミンの反応等を用いて、α−ジアゾアセ
ト酢酸エステル基に変換すると、−数式（１）に示され
る本発明のα−ジアゾアセト酢酸エステルが生成する。
、 Ｒｓ ＋ Ｒ７選ばれた一種で、−数式（２）には
少なくとも１個のアセト酢酸エステル基が含まれている
。次いで、アセト酢酸エステル基＋Ｐ−）ルエンスルホ
ニルアジドとアミンの反応等を用いて、α−ジアゾアセ
ト酢酸エステル基に変換すると、−数式（１）に示され
る本発明のα−ジアゾアセト酢酸エステルが生成する。
本発明ＯＪα−ジアゾアセト酢酸エステルは、１個のα
−ジアゾアセト酢酸エステル基に対して、約２６０ ｎ
ｍ ζこε約７０００の光吸収を持つが、光照射する
とカルボン酸に変化してεが約９００まで減少し、効率
の良い大きなフリーチング作用を示す。
−ジアゾアセト酢酸エステル基に対して、約２６０ ｎ
ｍ ζこε約７０００の光吸収を持つが、光照射する
とカルボン酸に変化してεが約９００まで減少し、効率
の良い大きなフリーチング作用を示す。
また、本発明のα−ジアノアセト酢酸エステルは溶解性
に梗れ、エーテル系、ケトン系、アルコール系、ハロゲ
ン系等の通常の有機溶媒に容易に溶解する。さらに昇華
性もない。したがって、本発明のα−ジアゾアセト酢酸
エステルは、それ自体あるいは樹脂等との組成物として
成膜することができ、光感応性材料として、例えば、レ
ジヌトの感光剤等として、極めて有用である。
に梗れ、エーテル系、ケトン系、アルコール系、ハロゲ
ン系等の通常の有機溶媒に容易に溶解する。さらに昇華
性もない。したがって、本発明のα−ジアゾアセト酢酸
エステルは、それ自体あるいは樹脂等との組成物として
成膜することができ、光感応性材料として、例えば、レ
ジヌトの感光剤等として、極めて有用である。
本発明のα−ジアゾアセト酢酸エステルは、感光基とし
て、−０−Ｃ−Ｃ−Ｃ−Ｃ）１３ を用いることにより
、３００ｎｍ 以下ＯＪ光に効率良く反応して大きくブ
リーチングし、一方、エステル基としてステロイド骨格
を持つ大きな母体を結合させることにより浴解性が向上
し、昇華性がなくなったものと考えられる。
て、−０−Ｃ−Ｃ−Ｃ−Ｃ）１３ を用いることにより
、３００ｎｍ 以下ＯＪ光に効率良く反応して大きくブ
リーチングし、一方、エステル基としてステロイド骨格
を持つ大きな母体を結合させることにより浴解性が向上
し、昇華性がなくなったものと考えられる。
以下、本発明の実施例のうち、いくつかについて具体的
に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。
に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。
実施例 １
環流管１滴下ロートおよび攪拌子を倫えた１００ｍ１三
ツロフラスコに、コール酸メチル２．１１ｇ（５，ＯＯ
ｍｍｏＡり １．４−ジオキサ７１０ｍ７ ＋およびＰ
−トルエンスルホン醒水和物０．１４ｇを入れ、加熱還
流する。次いで、攪拌しながら、ジケテン１．６８ ｇ
（２０，０ｍｍｏ／）の１．４−ジオキサン１０ｍｎ１
Ｇ液ｉ４０分かけて滴下し、４時間熟成する。反応終了
後、溶媒を減圧下留去し、浅漬をジエチルエーテルｔこ
溶解し、水および飽和食塩水で洗う。無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥後、ジエチルエーテルを留去し、カラムクロマ
トクラフイにて目的化合物を単離した。収量１．５６ｇ
、収率６０，５チ ＮＭＲススベクトル（６０ＭＨｚ、 ＣＤＣ１ａ ）の
特徴的ビーク： ０ Ｃ（δ？）、５３ ； Ｃ０−Ｃ）ｉ３）強度比 Ａ
：Ｂ：Ｃ＝３：２：Ｉ ＩＲスペクトルの％徴的ビーク： １７００σ−１，シＣ二〇 Ｎ２ Ｎ２ 還流管および攪拌子を備えたニツロフラスコに、実施例
１１こ記載の前駆体１．５６．９ （２，３１ｍｍｏＡ
り 。
ツロフラスコに、コール酸メチル２．１１ｇ（５，ＯＯ
ｍｍｏＡり １．４−ジオキサ７１０ｍ７ ＋およびＰ
−トルエンスルホン醒水和物０．１４ｇを入れ、加熱還
流する。次いで、攪拌しながら、ジケテン１．６８ ｇ
（２０，０ｍｍｏ／）の１．４−ジオキサン１０ｍｎ１
Ｇ液ｉ４０分かけて滴下し、４時間熟成する。反応終了
後、溶媒を減圧下留去し、浅漬をジエチルエーテルｔこ
溶解し、水および飽和食塩水で洗う。無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥後、ジエチルエーテルを留去し、カラムクロマ
トクラフイにて目的化合物を単離した。収量１．５６ｇ
、収率６０，５チ ＮＭＲススベクトル（６０ＭＨｚ、 ＣＤＣ１ａ ）の
特徴的ビーク： ０ Ｃ（δ？）、５３ ； Ｃ０−Ｃ）ｉ３）強度比 Ａ
：Ｂ：Ｃ＝３：２：Ｉ ＩＲスペクトルの％徴的ビーク： １７００σ−１，シＣ二〇 Ｎ２ Ｎ２ 還流管および攪拌子を備えたニツロフラスコに、実施例
１１こ記載の前駆体１．５６．９ （２，３１ｍｍｏＡ
り 。
トリエチルアミン０．７７９ （７，６２ｍｍｏ ｌ
）およびアセトニトリル１０ｍ１を加え、さら憂こ、Ｐ
−トルエ７スにホニルアジド１．５０．９ （７，６２
ｍｍｏｌ）のアセトニトリル５ ｍ ｌ溶液を滴下する
。室温で２時間攪拌した後、溶媒を減圧下留去し、ジエ
チルエーテルで抽出を行なう。ジエチルエーテル溶液を
、水酸化カリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄した後、無
水硫酸ナトリウムで乾燥する。ジエチルエーテルを減圧
下留去し、エタノールから再結晶することにより、目的
化合物を得た。収量１．３８，９．収率８０．０％、融
点１５９°Ｃ ＮＭＲスペクトル（６０Ｍｆｌｚ、 ＣＤＣｌ５ ）の
特徴的ビーク二 〇 Ａ（δ２．４２．２．４６ ；ＣＨａ Ｃ）Ｂ（δ３
．６０ 、− Ｃ−０−ＣＨｓ ）強度比 Ａ：Ｂ＝３
：Ｉ ＩＲスペクトルの特徴的ピーク Ａ （２１６０ｃｍ−’ ： ｖ Ｃ＝Ｎｚ ）Ｂ
（１７３０ｃｍ−’ 、 １６７５ ｃｍす；νＣ＝
０）ＴＪＶスペクトル（ＴＨＦ中） λｍａＸ ２５８ｎｍｌ ε２４，５００実施例５ あるいは ジケテンをコール酸メチルに対して２．２倍等量使い、
実施例１と同様の操作で目的化合物を得た。
）およびアセトニトリル１０ｍ１を加え、さら憂こ、Ｐ
−トルエ７スにホニルアジド１．５０．９ （７，６２
ｍｍｏｌ）のアセトニトリル５ ｍ ｌ溶液を滴下する
。室温で２時間攪拌した後、溶媒を減圧下留去し、ジエ
チルエーテルで抽出を行なう。ジエチルエーテル溶液を
、水酸化カリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄した後、無
水硫酸ナトリウムで乾燥する。ジエチルエーテルを減圧
下留去し、エタノールから再結晶することにより、目的
化合物を得た。収量１．３８，９．収率８０．０％、融
点１５９°Ｃ ＮＭＲスペクトル（６０Ｍｆｌｚ、 ＣＤＣｌ５ ）の
特徴的ビーク二 〇 Ａ（δ２．４２．２．４６ ；ＣＨａ Ｃ）Ｂ（δ３
．６０ 、− Ｃ−０−ＣＨｓ ）強度比 Ａ：Ｂ＝３
：Ｉ ＩＲスペクトルの特徴的ピーク Ａ （２１６０ｃｍ−’ ： ｖ Ｃ＝Ｎｚ ）Ｂ
（１７３０ｃｍ−’ 、 １６７５ ｃｍす；νＣ＝
０）ＴＪＶスペクトル（ＴＨＦ中） λｍａＸ ２５８ｎｍｌ ε２４，５００実施例５ あるいは ジケテンをコール酸メチルに対して２．２倍等量使い、
実施例１と同様の操作で目的化合物を得た。
実施例４
あるいは
Ｎ２ Ｎ２
実施例３１こ記載の前駆体を用いて実施例２と同様の操
作を行なうことにより目的化合物を得た。
作を行なうことにより目的化合物を得た。
ジケテンをコール酸メチルに対して１１倍等量使い、実
施例１と同様の操作で目的化合物を得た。
施例１と同様の操作で目的化合物を得た。
実施例６
実施例５に記載の前躯体を用いて実施例１と同様の操作
を行なうことにより目的化合物を得た。
を行なうことにより目的化合物を得た。
コール酸−ｎ−プロピル５．１１９ （１１ｍｍｏｌ）
。
。
シ’Ｉテン３．８１ ＆ （４５，４ｍｍｏ ｌ ）お
よびｐ−トルエンスルホン酸水利物０．４４ ｇから、
実施例１と同様の操作で目的化合物を得た。
よびｐ−トルエンスルホン酸水利物０．４４ ｇから、
実施例１と同様の操作で目的化合物を得た。
実施例８
実施例７に記載の前駆体をカラムクロマトグラフィで単
離することなしに、Ｐ−）ルエンスルホニルアジド６．
ｏ９ｇ（３０，９ｍｍｏＡ！ ）およびトリエチ）ｖ７
ミ：／ １１４ ｇ （３０，９ｍｍｏＡ ）と反応さ
せ、実施例２と同様の操作でジアゾ化を行なった。次い
で、反応残渣を酢酸エチルとヘキサンの混合溶媒から再
結晶することにより目的化合物８′４た。収量４．５６
！ｉ、収率６五〇チ、融点１１０〜１１２°Ｃ９ＮＭ
Ｒスペクトル（６０ＭＨｚ、 ＣＤＣｌ５ ）の特徴的
強度比 Ａ：Ｂ＝９：２ ＩＲスペクトルの特徴的ビーク： Ａ （２１６０ｃｍ−１；νＣ＝Ｎｚ）Ｂ （１７２０
ｃｍ−’ 、 １６８０ ｃｍ−’ ”、νＣ＝０）
ＵＶスペクトル（Ｔｌ−１Ｆ中） λｍａｘ ２５８ｎｍ 、 ａ ２５，８００笑施例９ リトコール酸メチルｔ９ｓ ｇ（ｓ、Ｄｏ ｍｍｏ ｌ
） 、ジゲテ：ｙ ｏ、ｓｏ ｆｌ （６，０ｍｍｏ
ｌ ） 、およびＰ−トルエンスルホン酸水和物５７
ｍｇを１，２−ジクロロエタン８ ｍ ｌ中で、実施例
１と同様の操作で反応させ、残渣をメタノールから再結
晶することにより目的化合物を得た、収量１．４４ ｇ
、収率６α７％、融点１８４〜１８９°Ｃ１ 実施例１Ｏ 実施例９に記載の前駆体と、Ｐ−）ルエンスルホニルア
ジドＱ、６０ 、！ｉ’ （３，０ｍｍｏｌ）およびト
リエチ７ｔ、７ミｙ ｏ、３１ ｇ （３，０ｍｍｏ
ｌ ）’ｘ、実施例２と同様の操作で反応させ、ジアゾ
化を行なった。次いで、反応残渣からカラムクロマトグ
ラフィにより目的化合物を単離した。収ｆ１１２．！ｉ
’、収率７５．０チ。
離することなしに、Ｐ−）ルエンスルホニルアジド６．
ｏ９ｇ（３０，９ｍｍｏＡ！ ）およびトリエチ）ｖ７
ミ：／ １１４ ｇ （３０，９ｍｍｏＡ ）と反応さ
せ、実施例２と同様の操作でジアゾ化を行なった。次い
で、反応残渣を酢酸エチルとヘキサンの混合溶媒から再
結晶することにより目的化合物８′４た。収量４．５６
！ｉ、収率６五〇チ、融点１１０〜１１２°Ｃ９ＮＭ
Ｒスペクトル（６０ＭＨｚ、 ＣＤＣｌ５ ）の特徴的
強度比 Ａ：Ｂ＝９：２ ＩＲスペクトルの特徴的ビーク： Ａ （２１６０ｃｍ−１；νＣ＝Ｎｚ）Ｂ （１７２０
ｃｍ−’ 、 １６８０ ｃｍ−’ ”、νＣ＝０）
ＵＶスペクトル（Ｔｌ−１Ｆ中） λｍａｘ ２５８ｎｍ 、 ａ ２５，８００笑施例９ リトコール酸メチルｔ９ｓ ｇ（ｓ、Ｄｏ ｍｍｏ ｌ
） 、ジゲテ：ｙ ｏ、ｓｏ ｆｌ （６，０ｍｍｏ
ｌ ） 、およびＰ−トルエンスルホン酸水和物５７
ｍｇを１，２−ジクロロエタン８ ｍ ｌ中で、実施例
１と同様の操作で反応させ、残渣をメタノールから再結
晶することにより目的化合物を得た、収量１．４４ ｇ
、収率６α７％、融点１８４〜１８９°Ｃ１ 実施例１Ｏ 実施例９に記載の前駆体と、Ｐ−）ルエンスルホニルア
ジドＱ、６０ 、！ｉ’ （３，０ｍｍｏｌ）およびト
リエチ７ｔ、７ミｙ ｏ、３１ ｇ （３，０ｍｍｏ
ｌ ）’ｘ、実施例２と同様の操作で反応させ、ジアゾ
化を行なった。次いで、反応残渣からカラムクロマトグ
ラフィにより目的化合物を単離した。収ｆ１１２．！ｉ
’、収率７５．０チ。
ＮＭＲスペクトル（６０ＭＴｉｚ、 ＣＣＪ４） ＣＩ
Ｊ特徴的ビーク： ０ Ａ（δ２３０ ＊ ＣＨｓ Ｃ） Ｂ （Ｊ ３．４８ ；−ＣＯＣＨｓ ）強度比 Ａ：
Ｂ＝１ ： Ｉ ＩＲスペクトルの特徴的ビーク： Ａ （２１６０ぼ−ｌ ； ν Ｃ＝Ｎ２ ）Ｂ （
１７５５ｃｔｎ−’ ＋ １７３０ｃｒｎ−’ 、１
６７０ｃ！ｎ−’ ｉ Ｉ’Ｃ＝０）ＵＶスペクトル（
ＴＨＦ中）； λｍａｘ ２５８ｎｍ 、 ｇ ６６００〔発明の効果
〕 本発明のα−ジアゾアセト酢酸エステルは、３００ｎｍ
以下の光照射により、効率の良い優れたブリーチンク
作用を示すば力）ってなく、溶解性に優れ、昇華性もな
いことから、光感応性材料として、効用の大なるもので
ある。
Ｊ特徴的ビーク： ０ Ａ（δ２３０ ＊ ＣＨｓ Ｃ） Ｂ （Ｊ ３．４８ ；−ＣＯＣＨｓ ）強度比 Ａ：
Ｂ＝１ ： Ｉ ＩＲスペクトルの特徴的ビーク： Ａ （２１６０ぼ−ｌ ； ν Ｃ＝Ｎ２ ）Ｂ （
１７５５ｃｔｎ−’ ＋ １７３０ｃｒｎ−’ 、１
６７０ｃ！ｎ−’ ｉ Ｉ’Ｃ＝０）ＵＶスペクトル（
ＴＨＦ中）； λｍａｘ ２５８ｎｍ 、 ｇ ６６００〔発明の効果
〕 本発明のα−ジアゾアセト酢酸エステルは、３００ｎｍ
以下の光照射により、効率の良い優れたブリーチンク
作用を示すば力）ってなく、溶解性に優れ、昇華性もな
いことから、光感応性材料として、効用の大なるもので
ある。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、出発原料がコール酸、デオキシコールあるいはリト
コール酸であり、下記一般式（１）で示されることを特
徴とする新規なα−ジアゾアセト酢酸エステル。 ▲数式、化学式、表等があります▼（１） 但し、Ｒ＿１は、−ＣＯ＿２Ｈ、−ＣＯ＿２Ｒ＿９（こ
こでＲ＿９は芳香環を含まない一価の有機基）および ▲数式、化学式、表等があります▼から選ばれた一種。 Ｒ＿２、 Ｒ＿３、Ｒ＿４は、−Ｈ、−ＯＨ、および ▲数式、化学式、表等があります▼から選ばれた一種で
あり、 一般式（１）中には少なくとも１個のα−ジアゾアセト
酢酸エステル基がある。 ２、一般式（１）中のＲ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿３、Ｒ＿４
が、それぞれ、（−ＣＯ＿２ＣＨ＿３、▲数式、化学式
、表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります
▼ ）（−Ｏ−Ｃ−Ｃ−Ｃ−ＣＨ＿３、▲数式、化学式、表
等があります▼、−ＯＨ、▲数式、化学式、表等があり
ます▼）（−ＣＯ＿２ＣＨ＿３、−ＯＨ、▲数式、化学
式、表等があります▼、▲数式、化学式、表等がありま
す▼）（−ＣＯ＿２ＣＨ＿３、−ＯＨ、−ＯＨ、▲数式
、化学式、表等があります▼）（−ＣＯ＿２ＣＨ＿２Ｃ
Ｈ＿２ＣＨ＿３、▲数式、化学式、表等があります▼、
▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼） （−ＣＯ＿２ＣＨ＿３、−Ｈ、−Ｈ、▲数式、化学式、
表等があります▼）であることを特徴とする特許請求の
範囲第１項記載の新規なα−ジアゾアセト酢酸エステル
。 ５、出発原料がコール酸、デオキシコールあるいはリト
コール酸であり、下記一般式（２）で示されることを特
徴とする新規なα−ジアゾアセト酢酸エステルの前駆体
。 ▲数式、化学式、表等があります▼（２） 但し、Ｒ＿５は、−ＣＯ＿２Ｈ、−ＣＯ＿２Ｒ＿９およ
び▲数式、化学式、表等があります▼から選ばれた一種
。Ｒ＿６、Ｒ＿７、Ｒ＿８は、−Ｈ、−ＯＨおよび▲数
式、化学式、表等があります▼から 選ばれた一種である。 ４、一般式（２）中のＲ＿５、Ｒ＿６、Ｒ＿７、Ｒ＿８
が、それぞれ、（−ＣＯ＿２ＣＨ＿３、▲数式、化学式
、表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります
▼ 、▲数式、化学式、表等があります▼）（−ＣＯ＿２Ｃ
Ｈ＿３、▲数式、化学式、表等があります▼ 、−ＯＨ、▲数式、化学式、表等があります▼）（−Ｃ
Ｏ＿２ＣＨ＿３、−ＯＨ、▲数式、化学式、表等があり
ます▼、▲数式、化学式、表等があります▼） （−ＣＯ＿２ＣＨ＿３、−ＯＨ、−ＯＨ、▲数式、化学
式、表等があります▼）（−ＣＯ＿２ＣＨ＿２ＣＨ＿２
ＣＨ＿３、▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式
、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、表等が
あります▼）（−ＣＯ＿２ＣＨ＿３、 −Ｈ、−Ｈ、▲数式、化学式、表等があります▼） であることを特徴とする特許請求の範囲第３項記載の新
規なα−ジアゾアセト酢酸エステルの前駆体。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31400187A JPH0730110B2 (ja) | 1987-12-14 | 1987-12-14 | 新規なα―ジアゾアセト酢酸エステル |
| US07/247,882 US5158855A (en) | 1987-09-24 | 1988-09-22 | α-diazoacetoacetates and photosensitive resin compositions containing the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31400187A JPH0730110B2 (ja) | 1987-12-14 | 1987-12-14 | 新規なα―ジアゾアセト酢酸エステル |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01157997A true JPH01157997A (ja) | 1989-06-21 |
| JPH0730110B2 JPH0730110B2 (ja) | 1995-04-05 |
Family
ID=18048021
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31400187A Expired - Lifetime JPH0730110B2 (ja) | 1987-09-24 | 1987-12-14 | 新規なα―ジアゾアセト酢酸エステル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0730110B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6132936A (en) * | 1997-12-31 | 2000-10-17 | Hyundai Electronics Industries Co., Ltd. | Monomer and polymer for photoresist, and photoresist using the same |
-
1987
- 1987-12-14 JP JP31400187A patent/JPH0730110B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6132936A (en) * | 1997-12-31 | 2000-10-17 | Hyundai Electronics Industries Co., Ltd. | Monomer and polymer for photoresist, and photoresist using the same |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0730110B2 (ja) | 1995-04-05 |
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