JPH0117275B2 - - Google Patents
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- JPH0117275B2 JPH0117275B2 JP57084690A JP8469082A JPH0117275B2 JP H0117275 B2 JPH0117275 B2 JP H0117275B2 JP 57084690 A JP57084690 A JP 57084690A JP 8469082 A JP8469082 A JP 8469082A JP H0117275 B2 JPH0117275 B2 JP H0117275B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- absorbing
- waves
- electromagnetic waves
- mirror
- modes
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/05—Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
- H01S3/08—Construction or shape of optical resonators or components thereof
- H01S3/08059—Constructional details of the reflector, e.g. shape
- H01S3/08068—Holes; Stepped surface; Special cross-section
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01C—MEASURING DISTANCES, LEVELS OR BEARINGS; SURVEYING; NAVIGATION; GYROSCOPIC INSTRUMENTS; PHOTOGRAMMETRY OR VIDEOGRAMMETRY
- G01C19/00—Gyroscopes; Turn-sensitive devices using vibrating masses; Turn-sensitive devices without moving masses; Measuring angular rate using gyroscopic effects
- G01C19/58—Turn-sensitive devices without moving masses
- G01C19/64—Gyrometers using the Sagnac effect, i.e. rotation-induced shifts between counter-rotating electromagnetic beams
- G01C19/66—Ring laser gyrometers
- G01C19/667—Ring laser gyrometers using a multioscillator ring laser
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Radar, Positioning & Navigation (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Remote Sensing (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Gyroscopes (AREA)
- Lasers (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、光学装置に関し、更に詳細には、リ
ング・レーザ・ジヤイロスコープのマルチモード
共振空洞内の高次横モードの抑制方法及び装置に
関する。
ング・レーザ・ジヤイロスコープのマルチモード
共振空洞内の高次横モードの抑制方法及び装置に
関する。
これまでに提案された最も有効なリング・レー
ザ・ジヤイロスコープの1つは夫々反対方向に伝
搬する2つの対の4波を使用している。この例
が、米国特許第3741657号、第3854819号及び第
4006989号に示される。これらのレーザ装置では、
夫々4つの波の円偏波が使用される。時計方向に
伝搬する波又はビームの対は、反時計方向に伝搬
する波と同様に、左回り円偏波(LCP)と右回
り円偏波(RCP)を含んでいる。4周波又は多
周波リング・レーザ・ジヤイロは、従来の、即ち
2周波レーザ・ジヤイロスコープに存在していた
周波数ロツク(又はロツク・イン)問題を回避す
る装置を与えている。このロツク・イン現象は共
振空洞内で反対方向に伝搬する2つの波が少し異
なる周波数を有するとき発生し、単一周波定在波
に結合してしまうものである。しかし、夫々反対
方向に回転する周波数が充分離れていると、互い
引き合うことは生じない。4周波を使用する方法
は、単一の安定共振空洞内で共通の光学路を共有
して動作し、同じ受動バイアス素子によつて反対
方向に静的にバイアスされる2つの独立したレー
ザ・ジヤイロであると言うことができる。これら
2つのジヤイロの差動出力では、バイアスはキヤ
ンセルされ、回転によつて生じる信号が加算され
て、バイアスの変動による問題を回避すると共
に、単一の2周波ジヤイロの2倍の感度を得るこ
とができる。バイアスは変動することがないの
で、ジヤイロはロツク・インを受けることがな
い。従つて、装置の性能を制限する変動により誘
起される誤差がない。この理由で、4周波ジヤイ
ロは、本質的にノイズが低く、迅速位置更新又は
高分解能を必要とする装置に適している。
ザ・ジヤイロスコープの1つは夫々反対方向に伝
搬する2つの対の4波を使用している。この例
が、米国特許第3741657号、第3854819号及び第
4006989号に示される。これらのレーザ装置では、
夫々4つの波の円偏波が使用される。時計方向に
伝搬する波又はビームの対は、反時計方向に伝搬
する波と同様に、左回り円偏波(LCP)と右回
り円偏波(RCP)を含んでいる。4周波又は多
周波リング・レーザ・ジヤイロは、従来の、即ち
2周波レーザ・ジヤイロスコープに存在していた
周波数ロツク(又はロツク・イン)問題を回避す
る装置を与えている。このロツク・イン現象は共
振空洞内で反対方向に伝搬する2つの波が少し異
なる周波数を有するとき発生し、単一周波定在波
に結合してしまうものである。しかし、夫々反対
方向に回転する周波数が充分離れていると、互い
引き合うことは生じない。4周波を使用する方法
は、単一の安定共振空洞内で共通の光学路を共有
して動作し、同じ受動バイアス素子によつて反対
方向に静的にバイアスされる2つの独立したレー
ザ・ジヤイロであると言うことができる。これら
2つのジヤイロの差動出力では、バイアスはキヤ
ンセルされ、回転によつて生じる信号が加算され
て、バイアスの変動による問題を回避すると共
に、単一の2周波ジヤイロの2倍の感度を得るこ
とができる。バイアスは変動することがないの
で、ジヤイロはロツク・インを受けることがな
い。従つて、装置の性能を制限する変動により誘
起される誤差がない。この理由で、4周波ジヤイ
ロは、本質的にノイズが低く、迅速位置更新又は
高分解能を必要とする装置に適している。
4つの異なつた周波数は、通常2つの異なつた
光学効果を使用して発生される。第1には、共振
波を2つの方向に円偏波する方向に無関係な偏波
を生じさせるためクリスタル偏波回転子が使用さ
れる。偏波回転はRCP及びLCP波に対し少し異
なる回転媒体の屈折率のためである。それとは別
に、クリスタル回転子を使用しないで円偏波だけ
を本質的に維持する非平面リング路を使用するこ
とができる。非平面電磁波リング共振器は米国特
許第4110045号に示される。第2に、フアラデイ
回転子が非相反偏波回転を供給するために使用さ
れ、反時計方向(ccw)伝搬波に対してと、時計
方向(cw)伝搬波に対する屈折率が少し異なつ
ている。これによつて、cw及びccwRCP波が少
し異なつた周波数で発振され、cw及びccwLCP
波は同様ではあるが反対方向に分離される。この
ように、レーザ・ジヤイロは一回転方向にバイア
スされた右円偏波と反対方向にバイアスされた左
円偏波とによつて動作し、バイアスは2つの出力
を差し引くことによつてキヤンセルされる。
光学効果を使用して発生される。第1には、共振
波を2つの方向に円偏波する方向に無関係な偏波
を生じさせるためクリスタル偏波回転子が使用さ
れる。偏波回転はRCP及びLCP波に対し少し異
なる回転媒体の屈折率のためである。それとは別
に、クリスタル回転子を使用しないで円偏波だけ
を本質的に維持する非平面リング路を使用するこ
とができる。非平面電磁波リング共振器は米国特
許第4110045号に示される。第2に、フアラデイ
回転子が非相反偏波回転を供給するために使用さ
れ、反時計方向(ccw)伝搬波に対してと、時計
方向(cw)伝搬波に対する屈折率が少し異なつ
ている。これによつて、cw及びccwRCP波が少
し異なつた周波数で発振され、cw及びccwLCP
波は同様ではあるが反対方向に分離される。この
ように、レーザ・ジヤイロは一回転方向にバイア
スされた右円偏波と反対方向にバイアスされた左
円偏波とによつて動作し、バイアスは2つの出力
を差し引くことによつてキヤンセルされる。
リング・レーザ・ジヤイロスコープの共振空洞
において、多数の共振モードがあり、その多くは
不所望で抑制しなければならないものである。従
来、不所望モードの抑制は、ジヤイロ・ブロツク
空洞に狭い空間間隙(開口)、望ましくは3つの
ミラー空洞に球面状ミラーを対向させて、設ける
ことによつて行なわれていた。他の方法として、
共振空洞内にフアラデイ回転子組立の一部として
中心に孔を有する銅円板を挿入していた。更に別
の方法として、レーザ・ジヤイロ・ブロツクの組
立過程から生じる共振空洞壁の不完全さに依存す
るものもあつた。これら従来のモード弁別又は抑
制方法の主な欠点は、開口が調節できないことで
ある。これによつて一旦組立てられたジヤイロ・
ブロツクは微調節ができず、更に、遮断されされ
た光に散乱は高回転角速度でロツク幅を増加さ
せ、ジヤイロ・バイアスを変動させてしまう。こ
の変動がリング・レーザ・ジヤイロの性能を低下
させてしまうのである。
において、多数の共振モードがあり、その多くは
不所望で抑制しなければならないものである。従
来、不所望モードの抑制は、ジヤイロ・ブロツク
空洞に狭い空間間隙(開口)、望ましくは3つの
ミラー空洞に球面状ミラーを対向させて、設ける
ことによつて行なわれていた。他の方法として、
共振空洞内にフアラデイ回転子組立の一部として
中心に孔を有する銅円板を挿入していた。更に別
の方法として、レーザ・ジヤイロ・ブロツクの組
立過程から生じる共振空洞壁の不完全さに依存す
るものもあつた。これら従来のモード弁別又は抑
制方法の主な欠点は、開口が調節できないことで
ある。これによつて一旦組立てられたジヤイロ・
ブロツクは微調節ができず、更に、遮断されされ
た光に散乱は高回転角速度でロツク幅を増加さ
せ、ジヤイロ・バイアスを変動させてしまう。こ
の変動がリング・レーザ・ジヤイロの性能を低下
させてしまうのである。
本発明は、複数の電磁波を発生させる装置と光
学系の光路内に設けた絶縁材装置とを有し、電磁
波の位相及び振幅特性を変化させる、光学装置を
開示する。絶縁材装置は、電子ビームによつて処
理される1又はそれ以上の領域を有する絶縁材料
から成り、前記波に対する位相及び振幅特性を変
化させる。絶縁材料は複数の層から成り、その
各々が異なつた屈折率を有し、複数の層はシリカ
ガラス(fused silica)基板上に重ねられた二酸
化シリコンと二酸化チタンの交互層から成る。絶
縁材装置は不所望な共振モードを抑制するための
吸収材料を堆積した絶縁材料から構成することも
できる。この吸収材料の厚さはミラーの中心から
の距離の関数として増加し、不所望なエネルギー
損失を増加する。
学系の光路内に設けた絶縁材装置とを有し、電磁
波の位相及び振幅特性を変化させる、光学装置を
開示する。絶縁材装置は、電子ビームによつて処
理される1又はそれ以上の領域を有する絶縁材料
から成り、前記波に対する位相及び振幅特性を変
化させる。絶縁材料は複数の層から成り、その
各々が異なつた屈折率を有し、複数の層はシリカ
ガラス(fused silica)基板上に重ねられた二酸
化シリコンと二酸化チタンの交互層から成る。絶
縁材装置は不所望な共振モードを抑制するための
吸収材料を堆積した絶縁材料から構成することも
できる。この吸収材料の厚さはミラーの中心から
の距離の関数として増加し、不所望なエネルギー
損失を増加する。
本発明は、更に、閉路内の不所望な共振モード
を抑制するモード弁別装置と閉路内に複数の逆方
向に伝搬する電磁波を発生する装置と、方向依存
位相シフトを前記波に対し与えて逆方向に伝搬す
る波の周波数を分離する装置と、前記波の伝搬中
前記モード弁別装置を調節する装置を開示する。
を抑制するモード弁別装置と閉路内に複数の逆方
向に伝搬する電磁波を発生する装置と、方向依存
位相シフトを前記波に対し与えて逆方向に伝搬す
る波の周波数を分離する装置と、前記波の伝搬中
前記モード弁別装置を調節する装置を開示する。
本発明は、また、夫々が異なる周波数の複数の
反対方向に伝搬する電磁波に対するゲイン媒体を
有する閉路と、前記閉路内で逆方向に伝搬する第
1と第2の偏波方向の対で円偏波を発生する装置
と、前記波に対し方向依存位相シフトを与え各対
の逆方向に伝搬する波の周波数分離を行う装置
と、前記閉路内の不所望な共振モードを抑制する
装置と、を有する多周波リング・レーザ・ジヤイ
ロスコープを開示する。逆方向に伝搬する円偏波
発生装置は非平面閉路から成る。レーザ・ゲイン
媒体は、1又はそれ以上のアノードとカソードか
ら成る電極によつて電気的に励起されるヘリウム
とネオンの混合から構成される。フアラデイ回転
子は電磁波に対し方向依存位相シフトを与え、閉
路はフアラデイ回転子から反射された電磁波を吸
収する装置を有する。
反対方向に伝搬する電磁波に対するゲイン媒体を
有する閉路と、前記閉路内で逆方向に伝搬する第
1と第2の偏波方向の対で円偏波を発生する装置
と、前記波に対し方向依存位相シフトを与え各対
の逆方向に伝搬する波の周波数分離を行う装置
と、前記閉路内の不所望な共振モードを抑制する
装置と、を有する多周波リング・レーザ・ジヤイ
ロスコープを開示する。逆方向に伝搬する円偏波
発生装置は非平面閉路から成る。レーザ・ゲイン
媒体は、1又はそれ以上のアノードとカソードか
ら成る電極によつて電気的に励起されるヘリウム
とネオンの混合から構成される。フアラデイ回転
子は電磁波に対し方向依存位相シフトを与え、閉
路はフアラデイ回転子から反射された電磁波を吸
収する装置を有する。
本発明は、また、夫々異なる周波数の反対方向
に伝搬する複数の電磁波のためのゲイン媒体を有
する閉路と、第1及び第2偏波方向の対として閉
路内に逆方向に伝搬する円偏波を発生する装置
と、前記波に対し方向依存位相シフトを与え前記
対の各々逆方向に伝搬する波を周波数分離する装
置と、閉路の周りに電磁波を方向付ける反射装置
と、前記反射装置の少なくとも1つが調節可能で
あることと、前記閉路内の不所望な共振モードを
抑制する弁別装置と、を有するレーザ・ジヤイロ
スコープを開示する。
に伝搬する複数の電磁波のためのゲイン媒体を有
する閉路と、第1及び第2偏波方向の対として閉
路内に逆方向に伝搬する円偏波を発生する装置
と、前記波に対し方向依存位相シフトを与え前記
対の各々逆方向に伝搬する波を周波数分離する装
置と、閉路の周りに電磁波を方向付ける反射装置
と、前記反射装置の少なくとも1つが調節可能で
あることと、前記閉路内の不所望な共振モードを
抑制する弁別装置と、を有するレーザ・ジヤイロ
スコープを開示する。
リング・レーザ・ジヤイロスコープのモード弁
別の1実施例において、モード抑制装置は位相感
知遮光器から成る。この遮光器は、電子ビームに
よつて部分的に処理される絶縁ミラーから成り、
前記絶縁ミラーの処理した部分から反射された電
磁波の一部の位相及び振幅を変化させる。絶縁ミ
ラーは、シリカガラス基板上に配置された二酸化
シリコンと二酸化チタンを含む屈折率が高い絶縁
材と低い絶縁材とを交互に重ねた複数の層から成
る。
別の1実施例において、モード抑制装置は位相感
知遮光器から成る。この遮光器は、電子ビームに
よつて部分的に処理される絶縁ミラーから成り、
前記絶縁ミラーの処理した部分から反射された電
磁波の一部の位相及び振幅を変化させる。絶縁ミ
ラーは、シリカガラス基板上に配置された二酸化
シリコンと二酸化チタンを含む屈折率が高い絶縁
材と低い絶縁材とを交互に重ねた複数の層から成
る。
リング・レーザ・ジヤイロスコープのモード弁
別の他の実施例では、モード抑制装置は吸収性遮
光器から成る。この遮光器はミラーの一部に吸収
材を堆積した絶縁ミラーから成る。このミラー
は、シリカガラス上に配置した二酸化シリコンと
二酸化チタンの交互層から成る。このミラーの表
面に配置された吸収材の厚さは、ミラーの中心か
らの距離に従つて増加し、不所望な共振モードに
対し区別した損失を与える。光吸収ガラスは遮光
器として適した吸収材料の1つである。
別の他の実施例では、モード抑制装置は吸収性遮
光器から成る。この遮光器はミラーの一部に吸収
材を堆積した絶縁ミラーから成る。このミラー
は、シリカガラス上に配置した二酸化シリコンと
二酸化チタンの交互層から成る。このミラーの表
面に配置された吸収材の厚さは、ミラーの中心か
らの距離に従つて増加し、不所望な共振モードに
対し区別した損失を与える。光吸収ガラスは遮光
器として適した吸収材料の1つである。
本発明は、更に、閉路内に各々の波が異なる周
波数の逆方向に伝搬する複数の電磁波を伝搬さ
せ、前記波の各々の通路の少なくとも一部に共通
のゲイン媒体で波を増幅し、前記閉路の波に対し
相反偏波分散装置と非相反偏波分散装置を配置
し、不所望な共振モードを抑制するため前記閉路
内の複数の反射器の少なくとも1つに弁別装置を
設ける、ステツプから構成される、レーザ・ジヤ
イロスコープ内の不所望共振モードを抑制する方
法を開示する。不所望な共振モードを抑制するた
めの弁別装置を設けるステツプは、位相感知遮光
器又は吸収性遮光器のいずれかで行うことができ
る。
波数の逆方向に伝搬する複数の電磁波を伝搬さ
せ、前記波の各々の通路の少なくとも一部に共通
のゲイン媒体で波を増幅し、前記閉路の波に対し
相反偏波分散装置と非相反偏波分散装置を配置
し、不所望な共振モードを抑制するため前記閉路
内の複数の反射器の少なくとも1つに弁別装置を
設ける、ステツプから構成される、レーザ・ジヤ
イロスコープ内の不所望共振モードを抑制する方
法を開示する。不所望な共振モードを抑制するた
めの弁別装置を設けるステツプは、位相感知遮光
器又は吸収性遮光器のいずれかで行うことができ
る。
本発明を以下実施例に従つて詳細に説明する。
第1図を参照すると、リング・レーザ・ジヤイ
ロ・ブロツク10が示される。ジヤイロ・ブロツ
ク10の内部には、電磁波の伝搬のための閉路を
提供する非平面共振空洞16と、閉路の周りに電
磁波を方向付ける4個の絶縁ミラー(又は反射
器)13,30,32及び38と、伝搬する波の
非相反性(非可逆性)偏波回転を与えるフアラデ
イ回転子組立28と、アノード14及び36と、
カソード34と、2つの能動アイソトープがネオ
ン20及びネオン22であるヘリウム―ネオン・
ガス混合体を有する光学空洞16内のレーザ・ゲ
イン媒体39と、が含まれる。ガス状のゲイン媒
体39は、アノード14及び36とカソード34
との間に発生される放電電流によつて電気的に励
起され、それは光学空洞16内で発光レーザ・ゲ
イン媒体又は共振レーザ波を持続させるプラズマ
となる。ジヤイロ・ブロツク10は、ガラス―セ
ラミツク材等の低い熱膨張係数の材料から成り、
レーザ・ジヤイロスコープ・システムの温度変化
の影響を最少限にすることが望ましい。市販され
ている適当な材料としては、例えばOwens―
Illinois CompanyのCer―Vit(商標)材C―101
やSchott Optical CompanyのZerodur(商標)が
ある。
ロ・ブロツク10が示される。ジヤイロ・ブロツ
ク10の内部には、電磁波の伝搬のための閉路を
提供する非平面共振空洞16と、閉路の周りに電
磁波を方向付ける4個の絶縁ミラー(又は反射
器)13,30,32及び38と、伝搬する波の
非相反性(非可逆性)偏波回転を与えるフアラデ
イ回転子組立28と、アノード14及び36と、
カソード34と、2つの能動アイソトープがネオ
ン20及びネオン22であるヘリウム―ネオン・
ガス混合体を有する光学空洞16内のレーザ・ゲ
イン媒体39と、が含まれる。ガス状のゲイン媒
体39は、アノード14及び36とカソード34
との間に発生される放電電流によつて電気的に励
起され、それは光学空洞16内で発光レーザ・ゲ
イン媒体又は共振レーザ波を持続させるプラズマ
となる。ジヤイロ・ブロツク10は、ガラス―セ
ラミツク材等の低い熱膨張係数の材料から成り、
レーザ・ジヤイロスコープ・システムの温度変化
の影響を最少限にすることが望ましい。市販され
ている適当な材料としては、例えばOwens―
Illinois CompanyのCer―Vit(商標)材C―101
やSchott Optical CompanyのZerodur(商標)が
ある。
非平面リングは、本質的にクリスタル回転子を
使用しないで円偏波だけを維持する。リング路1
6内に反射器13,30,32及び38を置く
と、電磁波の共振周波数を変化させる位相変化を
起こす。この結果、第2図に示すように、左回り
円偏波(f1及びf2)が右回り円偏波(f3及びf4)
の共振周波数と異なつた共振周波数を有すること
になる。この非平面電磁波リング共振器は米国特
許第4110045号に記載されている。
使用しないで円偏波だけを維持する。リング路1
6内に反射器13,30,32及び38を置く
と、電磁波の共振周波数を変化させる位相変化を
起こす。この結果、第2図に示すように、左回り
円偏波(f1及びf2)が右回り円偏波(f3及びf4)
の共振周波数と異なつた共振周波数を有すること
になる。この非平面電磁波リング共振器は米国特
許第4110045号に記載されている。
反射器13は、空洞路長制御装置の一部として
反射器を内へそして外へ移動させる圧電素子12
に取り付けられている。反射器30は、レーザ閉
路内の電磁波を単独で反射するために使用されて
いる。反射器32は、レーザ閉路16内の所望電
磁波を反射することに加えて、この閉路内に不所
望な共振モードを抑制するという本発明の遮光装
置33を有する。反射器38は部分的に反射しそ
の表面に当る波の少量を通過させ、回転情報を与
えるため結合及び処理される。
反射器を内へそして外へ移動させる圧電素子12
に取り付けられている。反射器30は、レーザ閉
路内の電磁波を単独で反射するために使用されて
いる。反射器32は、レーザ閉路16内の所望電
磁波を反射することに加えて、この閉路内に不所
望な共振モードを抑制するという本発明の遮光装
置33を有する。反射器38は部分的に反射しそ
の表面に当る波の少量を通過させ、回転情報を与
えるため結合及び処理される。
フアラデイ回転子組立28は、非平面リング・
レーザ路16の反射器30及び32間の部分に示
される。この非相反性(非可逆性)の磁気―光学
デバイスは、時計方向に伝搬するどちらの円偏波
に対しても、反時計方向に伝搬する同種の周波に
対してと異なつた位相遅延バイアスを与える。反
射器13,30,32及び38とフアラデイ回転
子28との組合せによつて、リング共振器は第2
図に示す発振周波数の波を維持する。しかし、フ
アラデイ回転子と同じ結果を達成できる他の手段
がある。例えば米国特許第4229106号に開示され
るゼーマン効果を利用したものである。
レーザ路16の反射器30及び32間の部分に示
される。この非相反性(非可逆性)の磁気―光学
デバイスは、時計方向に伝搬するどちらの円偏波
に対しても、反時計方向に伝搬する同種の周波に
対してと異なつた位相遅延バイアスを与える。反
射器13,30,32及び38とフアラデイ回転
子28との組合せによつて、リング共振器は第2
図に示す発振周波数の波を維持する。しかし、フ
アラデイ回転子と同じ結果を達成できる他の手段
がある。例えば米国特許第4229106号に開示され
るゼーマン効果を利用したものである。
フアラデイ回転子組立28から反射された電磁
波を吸収するため光子吸収器24及び26が配置
される。
波を吸収するため光子吸収器24及び26が配置
される。
レーザ・ジヤイロスコープ・ブロツク10に加
えて、第1図にはレーザ・ジヤイロスコープ電子
装置及び光学系が示される。高電圧電源50は、
負の高電圧をカソード34に、正の高電圧を圧電
駆動器52に供給する。放電制御電子装置54
は、アノードからカソードに流れる電流を調整す
る。別のジヤイロ・ブロツクは、そのブロツク内
の光学的損失に従つて夫々異なつたカソード電流
値を必要とするのである。
えて、第1図にはレーザ・ジヤイロスコープ電子
装置及び光学系が示される。高電圧電源50は、
負の高電圧をカソード34に、正の高電圧を圧電
駆動器52に供給する。放電制御電子装置54
は、アノードからカソードに流れる電流を調整す
る。別のジヤイロ・ブロツクは、そのブロツク内
の光学的損失に従つて夫々異なつたカソード電流
値を必要とするのである。
路長制御装置は、ジヤイロ空洞16内の堅固な
最適光路長を維持するフイードバツク回路網であ
る。この回路網は、検出・前置増幅器56、路長
制御器58、及び高電圧圧電駆動器52から成
る。光学路長は圧電変換器(PZT)12に取り
付けられる反射器13によつて制御される。高電
圧駆動器52は0〜400ボルトの範囲の電圧で
PZT12を作動させる。安定した動作点又はモ
ードは、路長がレーザ波長の半分に等しいときに
生じるので、変換器のダイナミツク・レンジの中
心に最も近いモードは通常不変動作点として選定
されることになる。検出・前置増幅器56は出力
光学系35から受けたAC信号及びDC信号を分離
する。DC信号は路長制御に使用される。AC信号
はジヤイロ出力を表わす正弦波で信号処理器60
に送られ、そこで入力電圧波形の各サイクルに対
して1つのパルスが発生される2つのデイジタ
ル・パルス列(f1―f2及びf3―f4)に変換される。
路長制御の更に詳細は米国特許第4108553号に開
示されている。
最適光路長を維持するフイードバツク回路網であ
る。この回路網は、検出・前置増幅器56、路長
制御器58、及び高電圧圧電駆動器52から成
る。光学路長は圧電変換器(PZT)12に取り
付けられる反射器13によつて制御される。高電
圧駆動器52は0〜400ボルトの範囲の電圧で
PZT12を作動させる。安定した動作点又はモ
ードは、路長がレーザ波長の半分に等しいときに
生じるので、変換器のダイナミツク・レンジの中
心に最も近いモードは通常不変動作点として選定
されることになる。検出・前置増幅器56は出力
光学系35から受けたAC信号及びDC信号を分離
する。DC信号は路長制御に使用される。AC信号
はジヤイロ出力を表わす正弦波で信号処理器60
に送られ、そこで入力電圧波形の各サイクルに対
して1つのパルスが発生される2つのデイジタ
ル・パルス列(f1―f2及びf3―f4)に変換される。
路長制御の更に詳細は米国特許第4108553号に開
示されている。
出力光学系35は、レーザ空洞内を伝搬する各
ビームの一部を引き出して、第2図に示すように
同じ円偏波方向の電磁波対間の周波数差を表わす
2つの出力信号f1―f2―とf3―f4を発生する。出
力反射器38は一方側には伝搬被覆を、他方側に
はビーム分割被覆を有する。両被覆はTiO2及び
SiO2の交互層を使用する標準のものである。ビ
ーム分割被覆は入射する強度の半分を伝送し残り
の半分を反射する。逆反射プリズム37は2つの
ビームをヘテロダインするのに使用されている。
この直角プリズムは石英ガラスから作られ反射面
には銀がかぶせてある。絶縁被覆は銀と石英ガラ
スとの間に使用され、反射するときの位相誤差を
最小にしている。シート偏波器をつけた4分の1
波板(図示せず)が各ビームに存在する4つの周
波数を分離するのに使用される。逆反射プリズム
と4分の1波板との間にはウエツジ(図示せず)
が使用され、その接触面からの反射がジヤイロ空
洞に逆戻りして夫々逆方向に回転するビームと混
合するのを防止している。ホトダイオード・カバ
ー・ガラス(一方側に耐反射被覆を有する)とホ
トダイオード・パツケージ(図示せず)が出力光
学系35を完成させる。光学セメントが各接触面
に使用され、反射を最小限に抑えて接着させる。
この出力光学系については米国特許第4141651号
に詳細に述べられている。
ビームの一部を引き出して、第2図に示すように
同じ円偏波方向の電磁波対間の周波数差を表わす
2つの出力信号f1―f2―とf3―f4を発生する。出
力反射器38は一方側には伝搬被覆を、他方側に
はビーム分割被覆を有する。両被覆はTiO2及び
SiO2の交互層を使用する標準のものである。ビ
ーム分割被覆は入射する強度の半分を伝送し残り
の半分を反射する。逆反射プリズム37は2つの
ビームをヘテロダインするのに使用されている。
この直角プリズムは石英ガラスから作られ反射面
には銀がかぶせてある。絶縁被覆は銀と石英ガラ
スとの間に使用され、反射するときの位相誤差を
最小にしている。シート偏波器をつけた4分の1
波板(図示せず)が各ビームに存在する4つの周
波数を分離するのに使用される。逆反射プリズム
と4分の1波板との間にはウエツジ(図示せず)
が使用され、その接触面からの反射がジヤイロ空
洞に逆戻りして夫々逆方向に回転するビームと混
合するのを防止している。ホトダイオード・カバ
ー・ガラス(一方側に耐反射被覆を有する)とホ
トダイオード・パツケージ(図示せず)が出力光
学系35を完成させる。光学セメントが各接触面
に使用され、反射を最小限に抑えて接着させる。
この出力光学系については米国特許第4141651号
に詳細に述べられている。
次に第3A図を参照すると、反射器32が示さ
れ、これは、走査マイクロスコーポ又は他の装置
からの電子ビームが当たる特別の領域を有する絶
縁ミラー31から成る位相感知遮光装置として機
能する。この電子ビーム処理領域33は、その屈
折率の変化によつて伝搬する電磁波のある部分に
対して位相シフトを与え小さい振幅低下をもたら
している。第3B図に示すように、絶縁ミラー3
1は、シリカガラスSiO2基板66上に、二酸化
シリコン(SiO2)層62と二酸化チタン(TiO2)
層64を交互に重ねて成る。処理領域33は
SiO2及びTiO2の交互層の大部分に伸びている。
この位相感知遮光によつて、夫々逆方向に回転す
る電磁波に対して光散乱なしに共振モード弁別を
行うことができる。これは電磁波振幅の低下は少
量であるが、それ自体による不所望なモードの抑
制効果は充分ではない。しかし、閉路16内の不
所望な夫々逆方向に回転する波高次モードの位相
を変化させることも行うので、充分なロスを与え
てそれらがレーザ光を発するのを防止している。
れ、これは、走査マイクロスコーポ又は他の装置
からの電子ビームが当たる特別の領域を有する絶
縁ミラー31から成る位相感知遮光装置として機
能する。この電子ビーム処理領域33は、その屈
折率の変化によつて伝搬する電磁波のある部分に
対して位相シフトを与え小さい振幅低下をもたら
している。第3B図に示すように、絶縁ミラー3
1は、シリカガラスSiO2基板66上に、二酸化
シリコン(SiO2)層62と二酸化チタン(TiO2)
層64を交互に重ねて成る。処理領域33は
SiO2及びTiO2の交互層の大部分に伸びている。
この位相感知遮光によつて、夫々逆方向に回転す
る電磁波に対して光散乱なしに共振モード弁別を
行うことができる。これは電磁波振幅の低下は少
量であるが、それ自体による不所望なモードの抑
制効果は充分ではない。しかし、閉路16内の不
所望な夫々逆方向に回転する波高次モードの位相
を変化させることも行うので、充分なロスを与え
てそれらがレーザ光を発するのを防止している。
電磁波の位相シフトをもたらす処理領域を長さ
約4ミリメートル、幅0.5ミリメートルにするた
め、反射器又は絶縁ミラー31への照射を、例え
ばCambridge Scientific Instrument Ltd.(英国、
ケンブリツジ)製のビデオ表示ユニツト(VPU)
付走査電子マイクロスコープ(SEM)、Model
S―4Stereoscanのような電子ビーム装置を使用
することによつて行うことができる。SEM制御
は電子ビーム処理中次のように調節される。
約4ミリメートル、幅0.5ミリメートルにするた
め、反射器又は絶縁ミラー31への照射を、例え
ばCambridge Scientific Instrument Ltd.(英国、
ケンブリツジ)製のビデオ表示ユニツト(VPU)
付走査電子マイクロスコープ(SEM)、Model
S―4Stereoscanのような電子ビーム装置を使用
することによつて行うことができる。SEM制御
は電子ビーム処理中次のように調節される。
加速電圧(EB)=30Kv
標本電流(IS)=2×10-8A
最終開口直径=700マイクロメートル
倍率=20×
モード=単一線反復スキヤン
傾斜(tilt)=零
SEMによる絶縁ミラー処理の手順は次の通り
である。
である。
1 絶縁ミラーを500オングストロームの銅で被
覆する。
覆する。
2 標本を零傾斜角にし加工距離表示を記録する
ようにSEMを調節する。
ようにSEMを調節する。
3 ステツプ2で決定した加工距離で回転角零に
SEMのビデオ表示ユニツト(VPU)をセツト
する。
SEMのビデオ表示ユニツト(VPU)をセツト
する。
4 絶縁ミラーの所望領域が電子ビームに当るよ
うに配置する。
うに配置する。
5 40ミリメートルの距離で加工されるように電
子ビームの焦点を合せる。
子ビームの焦点を合せる。
6 40ミリメートルの距離で回転角零にVPUを
セツトする。
セツトする。
7 モードをライン・スキヤンにセツトする。
8 絶縁ミラーを電子ビームに4時間露出する。
9 過硫酸アンモニア等の適当なエツチング剤で
絶縁ミラーから銅をはがす。
絶縁ミラーから銅をはがす。
第5A―5D図を参照すると、エルミートーガ
ウス(Hermite―Gaussian)関数が示され、基
本及び高次の軸からそれた共振モードの一次元強
度分布を表わしている。同焦点フアブリー・ペロ
ー(Fabrey―Perot)型共振器又は同じ大きさ及
び反射率の球面及び平面反射器を有するリング・
レーザ共振器等の共振器構造内にこれらのモード
が存在することは、A.G.Fox及びTingye Li著の
「Resonant Mode in a Maser
Interferometer」やG.D.Boyd及びJ.P.Gordon著
の「Confocal Mutimode Resonator for
Millimeter Through Optical Wavelength
Masers」(夫々、Bell Sytem Technical
Journalの1961年3月Vol.40の453〜488頁及び489
〜508頁に記載)に詳細に述べられている。モー
ドは、2つの反射器をはね返りながら空間的分布
及び位相(振幅は除く)を再生する場分布として
表わされる。回折や反射による損失のため、再生
パターンは、もしゲイン媒体がないと共振器を
次々と旋回するうち強度が低下してしまう。前述
の記事の中には、共振器の同じ大きさのミラー間
に再生される一組のモードが示されている。有限
開口による回折損失の影響が含まれるとき、モー
ドは独特なものになり、各モードは夫々独自の減
衰速度及びQを有する。ヘリウム―ネオン放電に
よつて与えられる利得が含まれるときの定常状態
は損失よりも大きいゲインを有するすべてのモー
ドが発振しレーザ光を発する。前記モードの損失
は回折損失と不完全なミラーによる損失を含む。
ウス(Hermite―Gaussian)関数が示され、基
本及び高次の軸からそれた共振モードの一次元強
度分布を表わしている。同焦点フアブリー・ペロ
ー(Fabrey―Perot)型共振器又は同じ大きさ及
び反射率の球面及び平面反射器を有するリング・
レーザ共振器等の共振器構造内にこれらのモード
が存在することは、A.G.Fox及びTingye Li著の
「Resonant Mode in a Maser
Interferometer」やG.D.Boyd及びJ.P.Gordon著
の「Confocal Mutimode Resonator for
Millimeter Through Optical Wavelength
Masers」(夫々、Bell Sytem Technical
Journalの1961年3月Vol.40の453〜488頁及び489
〜508頁に記載)に詳細に述べられている。モー
ドは、2つの反射器をはね返りながら空間的分布
及び位相(振幅は除く)を再生する場分布として
表わされる。回折や反射による損失のため、再生
パターンは、もしゲイン媒体がないと共振器を
次々と旋回するうち強度が低下してしまう。前述
の記事の中には、共振器の同じ大きさのミラー間
に再生される一組のモードが示されている。有限
開口による回折損失の影響が含まれるとき、モー
ドは独特なものになり、各モードは夫々独自の減
衰速度及びQを有する。ヘリウム―ネオン放電に
よつて与えられる利得が含まれるときの定常状態
は損失よりも大きいゲインを有するすべてのモー
ドが発振しレーザ光を発する。前記モードの損失
は回折損失と不完全なミラーによる損失を含む。
回折損失が低い場合には、モードの固有関数が
第5A―5D図に示すように、次のエルミートー
ガウス関数によつて良好な近似をもつて与えら
れ、これは無限開口の無損失の場合にのみ正確で
ある。
第5A―5D図に示すように、次のエルミートー
ガウス関数によつて良好な近似をもつて与えら
れ、これは無限開口の無損失の場合にのみ正確で
ある。
UL=(π1/2L!2L)-1/2HL(ξ)e-〓2/2
ここでUL=L次のエルミート−ガウス多項式
である。
である。
第5A−5D図の曲線は低次の横電気モードの
強度分布を示し、これは全モードにおいて一定の
全ビーム・パワーを表わすように正規化されてい
る(∫∞ -∞U2 L(ξ)dξ=1)。高次モードは、低次
モ
ードよりも、「尾」(ビーム中心より非常に離れた
部分)の部分により多くのエネルギーを含んでい
る。遮光モード弁別は高次モードに対し充分なエ
ネルギー損失を与え、それがレーザ発光するのを
防止するが、基本モードに対してはレーザ発光を
防止するだけの損失を与えない。
強度分布を示し、これは全モードにおいて一定の
全ビーム・パワーを表わすように正規化されてい
る(∫∞ -∞U2 L(ξ)dξ=1)。高次モードは、低次
モ
ードよりも、「尾」(ビーム中心より非常に離れた
部分)の部分により多くのエネルギーを含んでい
る。遮光モード弁別は高次モードに対し充分なエ
ネルギー損失を与え、それがレーザ発光するのを
防止するが、基本モードに対してはレーザ発光を
防止するだけの損失を与えない。
第4A及び4B図を参照すると、別の吸収性遮
光器70が示される。これは、絶縁ミラー72上
に吸収材料74を被着させることによつて作られ
る。吸収材料、例えばスパツタされた吸光ガラス
がシリカガラスSiO2基板76の上に積層された
SiO2とTiO2の約20の交互層の上に被着される。
吸収材74の厚さは、エネルギー吸収によつて散
乱効果を最小にして高次モード抑制を達成するた
めに、ミラーの中心からの距離に対し直線的又は
二次関数的に変化する。しかし、この型の遮光器
では、吸収材の最初の部分(ミラー72の中心に
最も近い部分)とミラー72の表面との間にある
分離接触面75が常に存在し、入射光エネルギー
のある量の不所望な散乱を発生させる。
光器70が示される。これは、絶縁ミラー72上
に吸収材料74を被着させることによつて作られ
る。吸収材料、例えばスパツタされた吸光ガラス
がシリカガラスSiO2基板76の上に積層された
SiO2とTiO2の約20の交互層の上に被着される。
吸収材74の厚さは、エネルギー吸収によつて散
乱効果を最小にして高次モード抑制を達成するた
めに、ミラーの中心からの距離に対し直線的又は
二次関数的に変化する。しかし、この型の遮光器
では、吸収材の最初の部分(ミラー72の中心に
最も近い部分)とミラー72の表面との間にある
分離接触面75が常に存在し、入射光エネルギー
のある量の不所望な散乱を発生させる。
遮光の発明は、第1図に示すように、ジヤイ
ロ・ブロツク10の組立後及び閉路16内の電磁
波の伝搬中に遮光器を調節することができ、従来
の共振モード抑制方法を非常に改良するものであ
る。この調節は、伝搬波に対し反射器32の位置
を変えることによつて達成される。もし、反射器
の表面が平坦であれば、この調節は信号処理器6
0の出力の基本及び高次モードの損失を監視しな
がら、塔載面上で反射器を単にスライドするだけ
でよい。もし、反射器が球面状であり(図示せ
ず)、吸収性遮光器70から成るときは、吸収材
は半径方向に配置する必要があり、モードの調節
は球面軸に沿つて反射器を回転することによつて
達成される。調節可能な改良に加えて、この遮光
の発明は不所望なモードを抑制するための空洞内
素子の必要性を除去することができる。
ロ・ブロツク10の組立後及び閉路16内の電磁
波の伝搬中に遮光器を調節することができ、従来
の共振モード抑制方法を非常に改良するものであ
る。この調節は、伝搬波に対し反射器32の位置
を変えることによつて達成される。もし、反射器
の表面が平坦であれば、この調節は信号処理器6
0の出力の基本及び高次モードの損失を監視しな
がら、塔載面上で反射器を単にスライドするだけ
でよい。もし、反射器が球面状であり(図示せ
ず)、吸収性遮光器70から成るときは、吸収材
は半径方向に配置する必要があり、モードの調節
は球面軸に沿つて反射器を回転することによつて
達成される。調節可能な改良に加えて、この遮光
の発明は不所望なモードを抑制するための空洞内
素子の必要性を除去することができる。
以上本発明の実施例を説明したが、他の多くの
変更が本発明の範囲内で可能なことは当業者には
明らかである。
変更が本発明の範囲内で可能なことは当業者には
明らかである。
第1図は、本発明の一実施例であるジヤイロ・
ブロツクを斜視図を組込んだリング・レーザ・ジ
ヤイロスコープのブロツク図である。第2図は、
第1図のリング・レーザ・ジヤイロスコープの周
波数に対するゲインの特性を示すグラフで、4つ
の波の周波数の相対位置を示す。第3A図は、第
1図の閉路の内側から見た本発明の位相感知遮光
器を有する反射器の前面図である。第3B図は、
位相感知遮光器の誇張的な側断面図である。第4
A図は、第1図の閉路の内側から見た本発明の吸
収性遮光器を有する反射器の前面図である。第4
B図は、吸収性遮光器の誇張的な側断面図であ
る。第5A図は、基本モードの一次元強度分布を
表わす、エルミート−ガウス関数U0(ξ)の基本
モードを示すグラフである。第5B図は、第1軸
外モードの一次元強度分布を表わすエルミートー
ガウス関数U1(ξ)のグラフである。第5C図
は、第2軸外モードの一次元強度分布を表わすエ
ルミート−ガウス関数U2(ξ)のグラフである。
第5D図は、第3軸外モードの一次元強度分布を
表わすエルミートーガウス関数U3(ξ)のグラフ
である。 符号の説明、10…リング・レーザ・ジヤイ
ロ・ブロツク、12…圧電変換器、13,30,
32,38…反射器、16…非平面共振空洞、2
8…フアラデイ回転子、31…絶縁ミラー。
ブロツクを斜視図を組込んだリング・レーザ・ジ
ヤイロスコープのブロツク図である。第2図は、
第1図のリング・レーザ・ジヤイロスコープの周
波数に対するゲインの特性を示すグラフで、4つ
の波の周波数の相対位置を示す。第3A図は、第
1図の閉路の内側から見た本発明の位相感知遮光
器を有する反射器の前面図である。第3B図は、
位相感知遮光器の誇張的な側断面図である。第4
A図は、第1図の閉路の内側から見た本発明の吸
収性遮光器を有する反射器の前面図である。第4
B図は、吸収性遮光器の誇張的な側断面図であ
る。第5A図は、基本モードの一次元強度分布を
表わす、エルミート−ガウス関数U0(ξ)の基本
モードを示すグラフである。第5B図は、第1軸
外モードの一次元強度分布を表わすエルミートー
ガウス関数U1(ξ)のグラフである。第5C図
は、第2軸外モードの一次元強度分布を表わすエ
ルミート−ガウス関数U2(ξ)のグラフである。
第5D図は、第3軸外モードの一次元強度分布を
表わすエルミートーガウス関数U3(ξ)のグラフ
である。 符号の説明、10…リング・レーザ・ジヤイ
ロ・ブロツク、12…圧電変換器、13,30,
32,38…反射器、16…非平面共振空洞、2
8…フアラデイ回転子、31…絶縁ミラー。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 複数の電磁波を発生する手段を有する光学装
置と、 前記光学装置の光学路内に配置され前記電磁波
の位相及び振幅特性を変化させる絶縁材装置と、 から構成され、前記絶縁材装置が前記電磁波に
対し位相及び振幅特性を変化させるため電子ビー
ムによよつて処理された1又はそれ以上の領域を
有する絶縁材料から成る、光学路内の不所望な共
振モードを抑制する装置。 2 前記絶縁材料が各々異なる屈折率を有する複
数の層から成る特許請求の範囲第1項記載の装
置。 3 前記複数の層がシリカガラス基板上に配置さ
れた二酸化シリコンと二酸化チタンの交互層から
成る特許請求の範囲第2項記載の装置。 4 電磁波リング共振器の1つの軸に沿つて生じ
る基本共振モード及び前記軸からはずれて生じる
高次共振モードを有する電磁波を保持する電磁波
リング共振器と、 前記共振器内に配置され、前記軸から離れて吸
収性材料を有し、前記高次共振モード・エネルギ
ーを吸収する手段と、 から構成され、前記吸収手段が絶縁ミラーから
成りその少なくとも一部上に吸収材料が被着さ
れ、前記吸収材料の厚さが前記ミラーの中心から
の距離の関数として増加し、前記高次共振モード
に対するエネルギー損失を増大させて不所望な共
振モードを抑制する装置。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US06/265,712 US4519708A (en) | 1981-05-20 | 1981-05-20 | Mode discrimination apparatus |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57210681A JPS57210681A (en) | 1982-12-24 |
| JPH0117275B2 true JPH0117275B2 (ja) | 1989-03-29 |
Family
ID=23011589
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57084690A Granted JPS57210681A (en) | 1981-05-20 | 1982-05-19 | Method and device for suppressing undesired resonance mode in laser gyroscope |
Country Status (14)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4519708A (ja) |
| JP (1) | JPS57210681A (ja) |
| AU (2) | AU553685B2 (ja) |
| BE (1) | BE893254A (ja) |
| CA (1) | CA1201190A (ja) |
| CH (1) | CH661154A5 (ja) |
| DE (1) | DE3217916C2 (ja) |
| DK (1) | DK164412C (ja) |
| FR (1) | FR2506451B1 (ja) |
| GB (1) | GB2099178B (ja) |
| IT (1) | IT1147973B (ja) |
| NL (1) | NL185687C (ja) |
| NO (1) | NO164440C (ja) |
| SE (1) | SE451889B (ja) |
Families Citing this family (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2143076A (en) * | 1983-07-05 | 1985-01-30 | Litton Systems Inc | Laser mode control |
| US5357338A (en) * | 1983-07-11 | 1994-10-18 | Litton Systems, Inc. | Path length controller with offset bias for a ring laser gyro |
| US4672625A (en) * | 1984-03-30 | 1987-06-09 | Spectra-Physics, Inc. | Methods and apparatus for maximizing the power output of a gas laser |
| US4559475A (en) * | 1984-07-12 | 1985-12-17 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Quasi-optical harmonic gyrotron and gyroklystron |
| US4742506A (en) * | 1984-07-12 | 1988-05-03 | Sony Corporation | Tracking error detecting apparatus for an optical head with skew error reduction by using an inclined header portion |
| US4821282A (en) * | 1985-12-27 | 1989-04-11 | Honeywell Inc. | Mirror assembly for lasers |
| US4865436A (en) * | 1986-03-25 | 1989-09-12 | Honeywell Inc. | Low cost ring laser angular rate sensor |
| US4865451A (en) * | 1986-12-22 | 1989-09-12 | Ahonen Robert G | Silicon substrate mirror assembly for lasers |
| DE3777816D1 (de) * | 1986-12-22 | 1992-04-30 | Honeywell Inc | Spiegelmontage fuer lasers. |
| US4962506A (en) * | 1988-04-14 | 1990-10-09 | Litton Systems, Inc. | Scatter symmetrization in multi-mode ring laser gyros |
| US5495335A (en) * | 1989-04-05 | 1996-02-27 | Litton Systems, Inc. | Ring laser gyroscope with a non-loss inducing mode suppression mechanism |
| CA2037428C (en) * | 1990-03-05 | 1997-04-01 | Akira Takahashi | Reproducing optical device for a magneto-optical recording medium |
| US5166949A (en) * | 1990-12-20 | 1992-11-24 | Northrop Corporation | Method and apparatus for suppressing off-axis modes in laser and ring laser gyroscopes |
| CA2154726A1 (en) | 1994-07-27 | 1996-01-28 | Robert M. Curran | Laser etching of transverse mode discrimination apertures on ring laser gyro mirrors |
| US5663792A (en) * | 1996-02-09 | 1997-09-02 | Killpatrick; Joseph E. | Transverse mode selected operation for a ring laser |
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