JPH01176079A - 無電解めっき法 - Google Patents
無電解めっき法Info
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- JPH01176079A JPH01176079A JP33421587A JP33421587A JPH01176079A JP H01176079 A JPH01176079 A JP H01176079A JP 33421587 A JP33421587 A JP 33421587A JP 33421587 A JP33421587 A JP 33421587A JP H01176079 A JPH01176079 A JP H01176079A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/18—Pretreatment of the material to be coated
- C23C18/20—Pretreatment of the material to be coated of organic surfaces, e.g. resins
- C23C18/28—Sensitising or activating
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、無電解めっき法に関する。
(従来の技術)
ガラスやプラスチックなどの絶縁物上への無電解めっき
は一般に無電解めっき用触媒の絶縁物上への吸着を向上
させるためのコンディショニング処理、次に塩化パラジ
ウム及び塩化スズ(II)を含む水溶液を使用しためっ
き用触媒の絶縁物上への吸着処理、次にめっき触媒の活
性促進処理を行った後、無電解めっき液に浸漬してめっ
きが行われる。
は一般に無電解めっき用触媒の絶縁物上への吸着を向上
させるためのコンディショニング処理、次に塩化パラジ
ウム及び塩化スズ(II)を含む水溶液を使用しためっ
き用触媒の絶縁物上への吸着処理、次にめっき触媒の活
性促進処理を行った後、無電解めっき液に浸漬してめっ
きが行われる。
従来、この活性促進処理としては、特開昭50−819
27に示される硫酸及び塩酸の混酸あるいはこれら混酸
に更に酒石酸を添加した密着促進剤を使用する方法、又
、特開昭51−8127に示されるNaOHとエチレン
ジアミン四錯酸の水溶液を使用する方法等が提案されて
いる。
27に示される硫酸及び塩酸の混酸あるいはこれら混酸
に更に酒石酸を添加した密着促進剤を使用する方法、又
、特開昭51−8127に示されるNaOHとエチレン
ジアミン四錯酸の水溶液を使用する方法等が提案されて
いる。
(発明が解決しようとする問題点)
現在、プリント配線板の製造において、無電解めっきは
、スルーホールのめっきを行うために重要な技術である
。
、スルーホールのめっきを行うために重要な技術である
。
高い信頼性が要求されるプリント配線基板は、ガラス繊
維などの無機酸化物繊維で強化した基板が使用される。
維などの無機酸化物繊維で強化した基板が使用される。
このような基板のスルーホール壁には、絶縁樹脂と無機
酸化物繊維の2種類の材料が露出する。
酸化物繊維の2種類の材料が露出する。
上述した従来の技術で、無機酸化物繊維強化基板のスル
ーホールを無電解銅めっきした場合、無機酸化物繊維上
には無電解鋼めっきの析出が不十分である。
ーホールを無電解銅めっきした場合、無機酸化物繊維上
には無電解鋼めっきの析出が不十分である。
スルーホール壁面への無電解銅めっきの析出が不十分で
ある場合は、無電解銅めっきの後で行う電気めっきで完
全なめっき皮膜が形成されずピンホールなどができる。
ある場合は、無電解銅めっきの後で行う電気めっきで完
全なめっき皮膜が形成されずピンホールなどができる。
ピンホールのあるスルーホールは、プリント配線板への
部品実装時に使用する溶隔半田が、スルーホールに完全
に入らないので、プリント配線板への部品の装着が不完
全になるという問題がある。
部品実装時に使用する溶隔半田が、スルーホールに完全
に入らないので、プリント配線板への部品の装着が不完
全になるという問題がある。
本発明は、めっき析出が良好な無電解めっき法を提供す
るものである。
るものである。
(問題点を解決するための手段)
本発明は、被めっき体上に、塩化パラジウム及び塩化ス
ズ(II)を含む水溶液を使用してめっき触媒を吸着さ
せ、次に炭酸アルカリ、炭酸水素アルカリの中より選ば
れる少なくとも一種を含む活性促進処理液に浸漬等の処
理をした後、無電解めっきを行うものである。
ズ(II)を含む水溶液を使用してめっき触媒を吸着さ
せ、次に炭酸アルカリ、炭酸水素アルカリの中より選ば
れる少なくとも一種を含む活性促進処理液に浸漬等の処
理をした後、無電解めっきを行うものである。
本発明において、炭酸アルカリは炭酸リチウム、炭酸ナ
トリウム、炭酸カリウム、炭酸アンモニウム等が使用さ
れる。
トリウム、炭酸カリウム、炭酸アンモニウム等が使用さ
れる。
又、炭酸水素アルカリは、炭酸水素リチウム、炭酸水素
ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素アンモニウム
等が使用される。
ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素アンモニウム
等が使用される。
これらの物質を含む水溶液の濃度は
0.01M#以上であり、一般に0.1M/12〜3M
/1の間に最適濃度がある。
/1の間に最適濃度がある。
これらの物質は一種類でも良いが、二種類以上を加えて
も構わない、処理は、被めっき体を浸漬するスプレー吹
付等で行われる。無電解めっき法は、プリント配線板の
製造等で使用される通常のものが使用される。
も構わない、処理は、被めっき体を浸漬するスプレー吹
付等で行われる。無電解めっき法は、プリント配線板の
製造等で使用される通常のものが使用される。
実施例1
日立化成工業側型ガラス繊維強化エポキシ銅張積層板(
商品名:MCL E−67、板厚1.6m)に直径0
.9 nのスルーホールをドリルによってあけた。この
テスト基板を日立化成工業■製りリーナーコンディショ
ナーCLC−201(50℃に保持)に5分間浸漬した
0次に、3分間水洗して、日立化成工業■製H3−20
2Bに10分間浸漬し、めっき触媒を吸着処理した0次
に炭酸ナトリウム0.5M/lの水溶液に5分間浸漬し
た0次に3分間水洗し、日立化成工業■製下地用無電解
銅めっき法CUST−201に20分間浸漬してめっき
を行った。
商品名:MCL E−67、板厚1.6m)に直径0
.9 nのスルーホールをドリルによってあけた。この
テスト基板を日立化成工業■製りリーナーコンディショ
ナーCLC−201(50℃に保持)に5分間浸漬した
0次に、3分間水洗して、日立化成工業■製H3−20
2Bに10分間浸漬し、めっき触媒を吸着処理した0次
に炭酸ナトリウム0.5M/lの水溶液に5分間浸漬し
た0次に3分間水洗し、日立化成工業■製下地用無電解
銅めっき法CUST−201に20分間浸漬してめっき
を行った。
めっき終了後、スルーホール壁面のめっき状態を光学顕
微鏡で観測した結果、ガラス繊維表面、エポキシ表面の
いずれもめっきが良好に析出していた。
微鏡で観測した結果、ガラス繊維表面、エポキシ表面の
いずれもめっきが良好に析出していた。
実施例2
実施例1において、炭酸ナトリウムの代わりに炭酸リチ
ウム0.1M/lを使用した。その他の条件は実施例1
と同様に行った。めっき終了後、スルーホール壁面のめ
っき状態を光学顕微鏡で観測した結果、ガラス繊維表面
、エポキシ表面のいずれもめっきが良好に析出していた
。
ウム0.1M/lを使用した。その他の条件は実施例1
と同様に行った。めっき終了後、スルーホール壁面のめ
っき状態を光学顕微鏡で観測した結果、ガラス繊維表面
、エポキシ表面のいずれもめっきが良好に析出していた
。
(発明の効果ン
本発明の触媒活性促進処理液を使用すれば、無機酸化物
表面にも均一に無電解銅めっきが析出する。
表面にも均一に無電解銅めっきが析出する。
Claims (1)
- 1、被めっき体を、塩化パラジウム及び塩化スズ(II)
を含む水溶液のめっき触媒で処理した後、炭酸アルカリ
、炭酸水素アルカリの中より選ばれる少なくとも一種を
含む水溶液の活性促進処理液で処理、無電解めっきを行
うことを特徴とする無電解めっき法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33421587A JPH01176079A (ja) | 1987-12-29 | 1987-12-29 | 無電解めっき法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33421587A JPH01176079A (ja) | 1987-12-29 | 1987-12-29 | 無電解めっき法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01176079A true JPH01176079A (ja) | 1989-07-12 |
Family
ID=18274832
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33421587A Pending JPH01176079A (ja) | 1987-12-29 | 1987-12-29 | 無電解めっき法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01176079A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0658075A1 (en) * | 1993-12-06 | 1995-06-14 | ENTHONE-OMI, Inc. | Method for manufacture of printed circuit boards |
| US7622205B2 (en) | 2004-04-16 | 2009-11-24 | Fuji Electric Device Technology Co. Ltd. | Disk substrate for a perpendicular magnetic recording medium and a perpendicular magnetic recording medium using the substrate |
| JP2011180364A (ja) * | 2010-03-01 | 2011-09-15 | Ricoh Co Ltd | 現像剤担持体の製造方法、現像剤担持体、現像装置及び画像形成装置 |
| US8039045B2 (en) | 2004-07-27 | 2011-10-18 | Fuji Electric Co., Ltd. | Method of manufacturing a disk substrate for a magnetic recording medium |
-
1987
- 1987-12-29 JP JP33421587A patent/JPH01176079A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0658075A1 (en) * | 1993-12-06 | 1995-06-14 | ENTHONE-OMI, Inc. | Method for manufacture of printed circuit boards |
| US7622205B2 (en) | 2004-04-16 | 2009-11-24 | Fuji Electric Device Technology Co. Ltd. | Disk substrate for a perpendicular magnetic recording medium and a perpendicular magnetic recording medium using the substrate |
| US8039045B2 (en) | 2004-07-27 | 2011-10-18 | Fuji Electric Co., Ltd. | Method of manufacturing a disk substrate for a magnetic recording medium |
| JP2011180364A (ja) * | 2010-03-01 | 2011-09-15 | Ricoh Co Ltd | 現像剤担持体の製造方法、現像剤担持体、現像装置及び画像形成装置 |
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