JPH01186739A - Ｘ線発生装置用電子銃 - Google Patents
Ｘ線発生装置用電子銃Info
- Publication number
- JPH01186739A JPH01186739A JP63007729A JP772988A JPH01186739A JP H01186739 A JPH01186739 A JP H01186739A JP 63007729 A JP63007729 A JP 63007729A JP 772988 A JP772988 A JP 772988A JP H01186739 A JPH01186739 A JP H01186739A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cathode
- ring
- electron gun
- metal target
- shape
- Prior art date
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- Granted
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概 要〕
半導体回路の高集積化に必要なＸ線露光装置のＸ線発生
装置用電子銃に関し、 Ｘ線の特性向上を目的とし、 ■溝形の回転ターゲットをＸ線源とするＸ線発生装置の
電子銃を、対向した２個の円弧状カソードブロック間に
、該カソードブロックと同電位の円弧状のダミー電極を
リング状に配置してなるリングカソードと、引出し電極
、フォーカス電極およびグリッドとで構成し、上記リン
グカソードのカソードブロック内壁から射出する電子ビ
ームが、上記回転ターゲットのＶ溝部分を照射して構成
する。
装置用電子銃に関し、 Ｘ線の特性向上を目的とし、 ■溝形の回転ターゲットをＸ線源とするＸ線発生装置の
電子銃を、対向した２個の円弧状カソードブロック間に
、該カソードブロックと同電位の円弧状のダミー電極を
リング状に配置してなるリングカソードと、引出し電極
、フォーカス電極およびグリッドとで構成し、上記リン
グカソードのカソードブロック内壁から射出する電子ビ
ームが、上記回転ターゲットのＶ溝部分を照射して構成
する。
本発明は半導体回路の高集積化に必要なＸ線露光装置に
係り、特に発生するＸ線の特性向上を図ったＸ線発生装
置用電子銃に関する。
係り、特に発生するＸ線の特性向上を図ったＸ線発生装
置用電子銃に関する。
第３図は従来の電子銃を用いたＸ線発生装置を示す図で
あり、（Ａ）は全体の構成断面図、（Ｂ）は電子ビーム
の発生および照射状況の説明図である。
あり、（Ａ）は全体の構成断面図、（Ｂ）は電子ビーム
の発生および照射状況の説明図である。
第３図（Ａ） 、 （Ｂ）で、従来の電子銃１は、断面
が四角状で半円弧状のタングステン（−）系の材料より
なる２個のカソードブロック２ａを対向させてリング状
に配置したリングカソード２と引出し電極３、フォーカ
ス電極４およびグリッド５によって構成している。
が四角状で半円弧状のタングステン（−）系の材料より
なる２個のカソードブロック２ａを対向させてリング状
に配置したリングカソード２と引出し電極３、フォーカ
ス電極４およびグリッド５によって構成している。
また６はＸ線取り出し窓６ａを備えた真空チャンバであ
り、周囲にＶ溝が形成された厚肉円板状の１４（Ｃｕ）
若しくは銅合金にアルミニウム（Ａ／）やモリブデン（
ＭＯ）等をコーティングした金属ターゲット７は上記真
空チャンバ６の側壁を貫通して外部操作部と連結し図示
Ａ方向に回転する回転軸７ａの先端に固定されている。
り、周囲にＶ溝が形成された厚肉円板状の１４（Ｃｕ）
若しくは銅合金にアルミニウム（Ａ／）やモリブデン（
ＭＯ）等をコーティングした金属ターゲット７は上記真
空チャンバ６の側壁を貫通して外部操作部と連結し図示
Ａ方向に回転する回転軸７ａの先端に固定されている。
ここで上記真空チャンバ６の内部圧力を所要圧力に減圧
した状態で上記電子銃１の各素子に所要の電気的負荷を
付与すると、正の電位を持つ引き出し電極３によってリ
ングカソード２の内壁２ｂから電子が引き出される。こ
の引き出された電子は負の電位を持つフォーカス電極４
によって金属ターゲット７の方向に偏向させられ更にグ
リッド５で集束されて電子ビーム８となり、常時Ａ方向
に回転している上記金属ターゲット７のＶ溝部分を衝撃
照射する。
した状態で上記電子銃１の各素子に所要の電気的負荷を
付与すると、正の電位を持つ引き出し電極３によってリ
ングカソード２の内壁２ｂから電子が引き出される。こ
の引き出された電子は負の電位を持つフォーカス電極４
によって金属ターゲット７の方向に偏向させられ更にグ
リッド５で集束されて電子ビーム８となり、常時Ａ方向
に回転している上記金属ターゲット７のＶ溝部分を衝撃
照射する。
この電子ビーム８の衝撃によって上記金属ターゲット７
から発生するＸ線９がＸ線取り出し窓６ａから図示Ｂ方
向に射出し、紙面下方の図示されていない所要の被照射
物表面を照射する構成となっている。
から発生するＸ線９がＸ線取り出し窓６ａから図示Ｂ方
向に射出し、紙面下方の図示されていない所要の被照射
物表面を照射する構成となっている。
なお金属ターゲット７の局部的な温度上昇による溶融を
避けるため、上記金属ターゲット７の■溝先端部７ｂの
みはビームが照射しないようにカソード形状および各電
極の電気的制御を行っている。
避けるため、上記金属ターゲット７の■溝先端部７ｂの
みはビームが照射しないようにカソード形状および各電
極の電気的制御を行っている。
また図（Ｂ）で、リングカソード′２は上述の如く２個
の半円弧状のカソードブロック２ａを間隙２ｃを保って
対向させてリング状に配置したものである。
の半円弧状のカソードブロック２ａを間隙２ｃを保って
対向させてリング状に配置したものである。
ここで図（Ａ）で説明した如く電子銃１に所定の電気的
負荷を与えると、カソードブロック２ａそれぞれの内壁
２ｂから電子が引きだされる。この場合引き出される電
子は上記２ｂ面からのみ射出する。
負荷を与えると、カソードブロック２ａそれぞれの内壁
２ｂから電子が引きだされる。この場合引き出される電
子は上記２ｂ面からのみ射出する。
この結果酸リングカソード２ひいては電子銃１から金属
ターゲット７に向かう電子ビーム８の断面形状は、円内
拡大図■の如くスリン）８ａを持つ円形のリング状を呈
する。
ターゲット７に向かう電子ビーム８の断面形状は、円内
拡大図■の如くスリン）８ａを持つ円形のリング状を呈
する。
そこで該電子ビーム８のスリット８ａが■溝先端部７ｂ
と合致するように上記リングカソード２ひいては電子銃
１を配設し、■溝の先端部７ｂへの電子ビーム８の照射
をなくして該部分での局部的温度上昇を避けている。
と合致するように上記リングカソード２ひいては電子銃
１を配設し、■溝の先端部７ｂへの電子ビーム８の照射
をなくして該部分での局部的温度上昇を避けている。
一方、一般に円柱体にその直径方向から断面が円形のビ
ームを照射すると、該円柱体の表面では楕円形の照射域
となる。
ームを照射すると、該円柱体の表面では楕円形の照射域
となる。
しかし上記の場合では、円形リング状のビームを円板の
周囲に形成したＶ溝部分に斜め照射するため、金属ター
ゲット７のＶ溝部分での照射部分を展開図的に紙面下側
からみるとＶ溝方向に伸ばされた紡錘形に照射される。
周囲に形成したＶ溝部分に斜め照射するため、金属ター
ゲット７のＶ溝部分での照射部分を展開図的に紙面下側
からみるとＶ溝方向に伸ばされた紡錘形に照射される。
この状態を示したのが円内拡大図■であり、この場合の
電子ビーム照射部分を８ｂで示している。
電子ビーム照射部分を８ｂで示している。
更に、リングカソード２を２個の独立したカソードブロ
ック２ａで構成しているためカソード近傍における電界
分布が不均衡となってビーム形状に歪を生ずる欠点があ
る。
ック２ａで構成しているためカソード近傍における電界
分布が不均衡となってビーム形状に歪を生ずる欠点があ
る。
従来の構成になるＸ線発生装置用電子銃では発生するＸ
線のビーム形状に歪が生じ、正確な露光作業が阻害され
ると云う問題があった。
線のビーム形状に歪が生じ、正確な露光作業が阻害され
ると云う問題があった。
上記問題点は、■溝形の回転ターゲットをＸ線源とする
Ｘ線発生装置の電子銃を、 対向した２個の円弧状カソードブロック間に、該カソー
ドブロックと同電位の円弧状のダミー電極をリング状に
配置してなるリングカソードと、引出し電極、フォーカ
ス電極およびグリッドとで構成し、 上記リングカソードのカソードブロック内壁から射出す
る電子ビームが、上記回転ターゲットのＶ溝部分を照射
するＸ線発生装置用電子銃によって解決される。
Ｘ線発生装置の電子銃を、 対向した２個の円弧状カソードブロック間に、該カソー
ドブロックと同電位の円弧状のダミー電極をリング状に
配置してなるリングカソードと、引出し電極、フォーカ
ス電極およびグリッドとで構成し、 上記リングカソードのカソードブロック内壁から射出す
る電子ビームが、上記回転ターゲットのＶ溝部分を照射
するＸ線発生装置用電子銃によって解決される。
一般に金属ターゲットから発生するＸ線ビームの断面形
状は少なくともその外形は円に近いことが望ましい。
状は少なくともその外形は円に近いことが望ましい。
本発明になる電子銃では、対向した２個の円弧状カソー
ドブロック間に該カソードブロックと同電位で且つ電子
が射出されないダミー電極を配置してリングカソードを
形成し、該リングカソードを該ダミー電極部分が金属タ
ーゲットのＶ溝に合致するごとく配設している。
ドブロック間に該カソードブロックと同電位で且つ電子
が射出されないダミー電極を配置してリングカソードを
形成し、該リングカソードを該ダミー電極部分が金属タ
ーゲットのＶ溝に合致するごとく配設している。
かかる電子銃からは、安定し且つ金属ターゲットのＶ溝
方向がカットされた偏平なリング状ビームが射出される
。
方向がカットされた偏平なリング状ビームが射出される
。
従って金属ターゲット上の電子ビーム照射形状を円形リ
ング状に近づけることが可能となり、発生するＸ線のビ
ーム形状の歪を除去することができる。
ング状に近づけることが可能となり、発生するＸ線のビ
ーム形状の歪を除去することができる。
第１図は本発明になるＸ線発生装置用電子銃の構成例を
示した図であり、第２図は電子ビームの発生および照射
状況を説明する図である。
示した図であり、第２図は電子ビームの発生および照射
状況を説明する図である。
図で電子銃１０は、第３図の電子銃１のリング力 。
ソード２のみを、断面が数ｆｆ１１１角の四角状でほぼ
６０＋ｗｍ程度の外径を有するタングステン（−）系の
材料よりなるリング状のカソードブロックｌｌａを周囲
に沿ってほぼ四等分し、図示１１ｃで示す如く対向する
２箇所の領域表面に例えばモリブデン・ルテニウム（Ｍ
ｏ−Ｒｕ）を０．１ｍｍ程度の厚さに塗布した後全体を
熱処理して形成したリングカソード１１におきかえて構
成したものである。
６０＋ｗｍ程度の外径を有するタングステン（−）系の
材料よりなるリング状のカソードブロックｌｌａを周囲
に沿ってほぼ四等分し、図示１１ｃで示す如く対向する
２箇所の領域表面に例えばモリブデン・ルテニウム（Ｍ
ｏ−Ｒｕ）を０．１ｍｍ程度の厚さに塗布した後全体を
熱処理して形成したリングカソード１１におきかえて構
成したものである。
なお、３が引出し電極、４がフォーカス電極、５がグリ
ッドなることは第３図の場合と同様である。
ッドなることは第３図の場合と同様である。
この場合上記カソード１１は、モリブデン・ルテニウム
（Ｍｏ−Ｒｕ）被膜が形成された部分１１ｃが電子の射
出しないダミー電極を構成している。
（Ｍｏ−Ｒｕ）被膜が形成された部分１１ｃが電子の射
出しないダミー電極を構成している。
第２図で、１１は第１図記載のリングカソードであり、
ｌｌａはリング状のカソードブロック、１１ｂは内壁、
１１ｃはダミー電極である。
ｌｌａはリング状のカソードブロック、１１ｂは内壁、
１１ｃはダミー電極である。
そこで第３図記載と同様の条件のもとに、電子銃１０ひ
いてはリングカソード１１に所定の電気的負荷を与える
と、該カソードブロックｌｌａの内壁１１ｂ面から電子
が引き出され、図示の電子ビーム１２となって金属ター
ゲット７のＶ溝部分を衝撃照射することは前述の通りで
ある。
いてはリングカソード１１に所定の電気的負荷を与える
と、該カソードブロックｌｌａの内壁１１ｂ面から電子
が引き出され、図示の電子ビーム１２となって金属ター
ゲット７のＶ溝部分を衝撃照射することは前述の通りで
ある。
なおこの場合の電子は上記１１ｂ面からのみ射出し、ダ
ミー電極部分１１ｃからは射出されない。
ミー電極部分１１ｃからは射出されない。
従って該リングカソード１１すなわち電子銃１０から金
属ターゲット７に向かう電子ビーム１２の断面形状は、
円内拡大図■の如く隙間１２ａを持つ偏平なリング状を
呈する。
属ターゲット７に向かう電子ビーム１２の断面形状は、
円内拡大図■の如く隙間１２ａを持つ偏平なリング状を
呈する。
そこで該電子ビーム１２の隙間１２ａをＶ溝先端部７ｂ
と合致する方向に電子銃１０を配設することにより、■
溝の先端部７ｂへの電子ビーム１２の照射をなくし該部
分での温度上昇を避けている。
と合致する方向に電子銃１０を配設することにより、■
溝の先端部７ｂへの電子ビーム１２の照射をなくし該部
分での温度上昇を避けている。
一方、かかる断面を有する電子ビームが金属ターゲット
７のＶ溝部分に照射されると、照射部分では第３図で説
明した如くｖ溝方向に伸ばされた形になるため円形のリ
ング状に近づく。このときの照射部分を紙面下側から展
開図的に見た場合を示したのが円内拡大図■であり、電
子ビーム照射部を１２ｂで表わしている。
７のＶ溝部分に照射されると、照射部分では第３図で説
明した如くｖ溝方向に伸ばされた形になるため円形のリ
ング状に近づく。このときの照射部分を紙面下側から展
開図的に見た場合を示したのが円内拡大図■であり、電
子ビーム照射部を１２ｂで表わしている。
従って金属ターゲット上の電子ビーム照射形状を円形リ
ング状に近づけで発生するＸ線のビーム形状の歪除去を
可能としている。
ング状に近づけで発生するＸ線のビーム形状の歪除去を
可能としている。
更にリングカソード全体が一体化されているため電界分
布に乱れを生ずることがない。
布に乱れを生ずることがない。
本発明の実施により、ビーム形状として歪がなく特性の
優れたＸ線を発生するＸ線発生装置用電子銃を提供する
ことができる。
優れたＸ線を発生するＸ線発生装置用電子銃を提供する
ことができる。
第１図は本発明になるＸ線発生装置用電子銃の構成例を
示した図、 第２図は電子ビームの発生および照射状況を説明する図
、 第３図は従来の電子銃を用いたＸ線発生装置を示す図、 である。図において、 ３は引出し電極、 ４はフォーカス電極、５はグリッ
ド、 ７は金属ターゲット、７ｂはＶ溝先端部、１０は電子銃
、 １１はリングカソード、Ｉｌａはカソードブロック１１
ｂは内壁、 ｌｌｃはダミー電極、１２は電子ビ
ーム、 １２ａは隙間、１２ｂは電子ビーム照射部、 をそれぞれ表わす。
示した図、 第２図は電子ビームの発生および照射状況を説明する図
、 第３図は従来の電子銃を用いたＸ線発生装置を示す図、 である。図において、 ３は引出し電極、 ４はフォーカス電極、５はグリッ
ド、 ７は金属ターゲット、７ｂはＶ溝先端部、１０は電子銃
、 １１はリングカソード、Ｉｌａはカソードブロック１１
ｂは内壁、 ｌｌｃはダミー電極、１２は電子ビ
ーム、 １２ａは隙間、１２ｂは電子ビーム照射部、 をそれぞれ表わす。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 Ｖ溝形の回転ターゲットをＸ線源とするＸ線発生装置
の電子銃を、 対向した２個の円弧状カソードブロック間に、該カソー
ドブロックと同電位の円弧状のダミー電極をリング状に
配置してなるリングカソード（１１）と、引出し電極（
３）、フォーカス電極（４）およびグリッド（５）とで
構成し、 上記リングカソード（１１）のカソードブロック内壁か
ら射出する電子ビーム（１２）が、上記回転ターゲット
のＶ溝部分を照射することを特徴とするＸ線発生装置用
電子銃。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63007729A JP2699369B2 (ja) | 1988-01-18 | 1988-01-18 | Ｘ線発生装置用電子銃 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63007729A JP2699369B2 (ja) | 1988-01-18 | 1988-01-18 | Ｘ線発生装置用電子銃 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01186739A true JPH01186739A (ja) | 1989-07-26 |
| JP2699369B2 JP2699369B2 (ja) | 1998-01-19 |
Family
ID=11673800
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63007729A Expired - Lifetime JP2699369B2 (ja) | 1988-01-18 | 1988-01-18 | Ｘ線発生装置用電子銃 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2699369B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009141378A (ja) * | 2003-12-04 | 2009-06-25 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置、照明システム、およびｅｕｖ放射線の投影ビームを供給する方法 |
| US7653178B2 (en) | 2004-08-20 | 2010-01-26 | Satoshi Ohsawa | X-ray generating method, and X-ray generating apparatus |
| EP3675148A1 (en) * | 2018-12-31 | 2020-07-01 | Malvern Panalytical B.V. | X-ray tube |
| CN114566412A (zh) * | 2021-11-12 | 2022-05-31 | 浙江先导精密机械有限公司 | 一种电子枪阴极块加工方法及装置 |
-
1988
- 1988-01-18 JP JP63007729A patent/JP2699369B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009141378A (ja) * | 2003-12-04 | 2009-06-25 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置、照明システム、およびｅｕｖ放射線の投影ビームを供給する方法 |
| US7653178B2 (en) | 2004-08-20 | 2010-01-26 | Satoshi Ohsawa | X-ray generating method, and X-ray generating apparatus |
| EP3675148A1 (en) * | 2018-12-31 | 2020-07-01 | Malvern Panalytical B.V. | X-ray tube |
| CN114566412A (zh) * | 2021-11-12 | 2022-05-31 | 浙江先导精密机械有限公司 | 一种电子枪阴极块加工方法及装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2699369B2 (ja) | 1998-01-19 |
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