JPH01189503A - パターン検出方法及びその装置 - Google Patents
パターン検出方法及びその装置Info
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- JPH01189503A JPH01189503A JP63012505A JP1250588A JPH01189503A JP H01189503 A JPH01189503 A JP H01189503A JP 63012505 A JP63012505 A JP 63012505A JP 1250588 A JP1250588 A JP 1250588A JP H01189503 A JPH01189503 A JP H01189503A
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- Japan
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- pattern
- light
- filter
- pattern detection
- lens
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
- G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はレーザ等指向性の高い照明光を用い。
パターンを検出する方法及び装置に係り、特に。
指向性が高いために生ずる諸問題を解決し、高精度かつ
高い信号対雑音比でパターンを検出するのに好適な方法
およびその！ｆｌに関する。
高い信号対雑音比でパターンを検出するのに好適な方法
およびその！ｆｌに関する。
縮小投影形半導体露光装置のＴＴ Ｌ （Ｔｈｒｏｕｇ
ｈＴｈｅ Ｌｅｎｓ ）アライメント系に代表される比
較的スペクトル幅の狭い照明光が結像系の色収差上必要
なパターン検出では照明にレーザな用いると有利である
。これはパターン検出光の強度が十分得られ、小形で安
価な固体撮像素子でも十分検出できろためである。しか
るに一般にレーザ光は指向性が高い（空間的にコヒーレ
ント）ため、被検物の検出対象領域に均一な照度で、し
かもこの領域内で場所に依らず同一の照明指向性を持た
せて照明りようとすると、一方向からの照明しかできな
い〇このよプな指向性の高い照明によりパターンを検出
すると次に示す２つの問題が発生する。
ｈＴｈｅ Ｌｅｎｓ ）アライメント系に代表される比
較的スペクトル幅の狭い照明光が結像系の色収差上必要
なパターン検出では照明にレーザな用いると有利である
。これはパターン検出光の強度が十分得られ、小形で安
価な固体撮像素子でも十分検出できろためである。しか
るに一般にレーザ光は指向性が高い（空間的にコヒーレ
ント）ため、被検物の検出対象領域に均一な照度で、し
かもこの領域内で場所に依らず同一の照明指向性を持た
せて照明りようとすると、一方向からの照明しかできな
い〇このよプな指向性の高い照明によりパターンを検出
すると次に示す２つの問題が発生する。
第１の課題は被検物の表面が粒状の場合に発生する。こ
れは既に公知のスペックルノイズとなり像質を劣化させ
高い信号対雑音比が得られない。
れは既に公知のスペックルノイズとなり像質を劣化させ
高い信号対雑音比が得られない。
第２の課題は指向性の高い光を被検物パターンに行うと
、その反射光は正反射方向からの回折角度成分が被検物
パターンの空間周波数を表わすため、検ＬｔＩ光学系の
瞳の外周に相当する（或いは検出光学系の開口数ＮＡに
相当する）空間周波数で急峻に高周波成分がカットされ
る。このよプなシャープカットな空間フィルタが入ると
、検出される波形にはこのカットされた空間周波数に相
当する振動が雑音的に発生し、元のパターン形状を崩す
ことになる。
、その反射光は正反射方向からの回折角度成分が被検物
パターンの空間周波数を表わすため、検ＬｔＩ光学系の
瞳の外周に相当する（或いは検出光学系の開口数ＮＡに
相当する）空間周波数で急峻に高周波成分がカットされ
る。このよプなシャープカットな空間フィルタが入ると
、検出される波形にはこのカットされた空間周波数に相
当する振動が雑音的に発生し、元のパターン形状を崩す
ことになる。
本発明者等は上記問題に対する解決法として特開昭６０
−１５６５１２号公報に記載されている揺動落射照明方
法が知られている。この公開特許は上記第１の課題に対
し積極的に解決したものであるが、同時に第２の課題も
解決している。それは揺動することにより入射角が変り
、結像光学系の瞳との正反射光位置が変るため、入射角
に応じて瞳でカットされる空間周波数が変化する。その
結果揺動照明で得られる像の和を取ることにより、シャ
ープカットな空間フィルタではなくなり忠実な波形が得
られることになる。
−１５６５１２号公報に記載されている揺動落射照明方
法が知られている。この公開特許は上記第１の課題に対
し積極的に解決したものであるが、同時に第２の課題も
解決している。それは揺動することにより入射角が変り
、結像光学系の瞳との正反射光位置が変るため、入射角
に応じて瞳でカットされる空間周波数が変化する。その
結果揺動照明で得られる像の和を取ることにより、シャ
ープカットな空間フィルタではなくなり忠実な波形が得
られることになる。
上記従来技術は前述の第１の課題の解決を主目的として
いるため、第２の課題を満たすには正反射光が１上の広
い範囲に亘ジ変化するように大きな揺動範囲で照明しな
ければならない。即ち狭い範囲で揺動したり（従って照
明入射角の変化が小さい）、固定の入射角で照明すると
第２の課題が発生する。この未解決な第２の課題は前記
の公開特許の中で示されている各種揺動照明のモードの
中で、２つの異なる方向から照射する場合、それぞれの
入射角度での照射に対し、空間周波数がシャープカット
されろため特に問題となる。この現象を図示したものが
第６図である。入射角ｏ０では瞳外周のＡ−Ａ’間の空
間周波数までの像が得られ第７図（ａｔのようなカット
オフ周波数＃０が乗った検出波形が得られる。他方入射
＃０では瞳外周Ｂ−Ｂ １間の空間周波数までの像が得
られ、第７図１ｂ＋のようなカットオフ周波数ａＪｏが
乗った検出波形が得られる。この結果Ｏ０と０°の２傾
角揺動照明により得られる波形は第７図（ｃｌのように
なり％２つのカットオフ周波数＃０と−。な含んだ波形
となり、パターンに忠実な波形とならない。このよ５な
忠実でない波形が得られても、元々のパターンが対称な
パターンであれば、得られる波形も対称となり、第７図
１ｂ＋の波形の対称中心を求めれば、元々のパターンの
中心と一致する。しかし、元々のパターンがレジスト塗
布むら等により非対称となり、ウーハ上のパターンの位
置を高精度に検出することができないという課題を有す
る。
いるため、第２の課題を満たすには正反射光が１上の広
い範囲に亘ジ変化するように大きな揺動範囲で照明しな
ければならない。即ち狭い範囲で揺動したり（従って照
明入射角の変化が小さい）、固定の入射角で照明すると
第２の課題が発生する。この未解決な第２の課題は前記
の公開特許の中で示されている各種揺動照明のモードの
中で、２つの異なる方向から照射する場合、それぞれの
入射角度での照射に対し、空間周波数がシャープカット
されろため特に問題となる。この現象を図示したものが
第６図である。入射角ｏ０では瞳外周のＡ−Ａ’間の空
間周波数までの像が得られ第７図（ａｔのようなカット
オフ周波数＃０が乗った検出波形が得られる。他方入射
＃０では瞳外周Ｂ−Ｂ １間の空間周波数までの像が得
られ、第７図１ｂ＋のようなカットオフ周波数ａＪｏが
乗った検出波形が得られる。この結果Ｏ０と０°の２傾
角揺動照明により得られる波形は第７図（ｃｌのように
なり％２つのカットオフ周波数＃０と−。な含んだ波形
となり、パターンに忠実な波形とならない。このよ５な
忠実でない波形が得られても、元々のパターンが対称な
パターンであれば、得られる波形も対称となり、第７図
１ｂ＋の波形の対称中心を求めれば、元々のパターンの
中心と一致する。しかし、元々のパターンがレジスト塗
布むら等により非対称となり、ウーハ上のパターンの位
置を高精度に検出することができないという課題を有す
る。
本発明の目的は上述の課題を解決し、指向性の高いレー
ザ光等で被検物を検出しても、カットオフ周波数が重畳
しない、原パターンに忠実な、高い信号対雑音比の検出
信号を得るパターン検出方法およびその装置を提供する
ことにある。
ザ光等で被検物を検出しても、カットオフ周波数が重畳
しない、原パターンに忠実な、高い信号対雑音比の検出
信号を得るパターン検出方法およびその装置を提供する
ことにある。
上記目的は指向性の高い照明光で被検物を照射して得ら
れる反射光中の正反射光（第６図で２１と２１′）の位
置を中心にして、パターン検出方向即ち第６図のＸ方向
に実効的に透過率が変化するフィルタを挿入し、当該フ
ィルタを透過した光を用いてパターン検出手段１３に被
検物の像として結像させ、パターンを検出することによ
り達成される。
れる反射光中の正反射光（第６図で２１と２１′）の位
置を中心にして、パターン検出方向即ち第６図のＸ方向
に実効的に透過率が変化するフィルタを挿入し、当該フ
ィルタを透過した光を用いてパターン検出手段１３に被
検物の像として結像させ、パターンを検出することによ
り達成される。
上記フィルタはパターン検出方向に透過率が変化するた
め、第６図の瞳１０の外周Ａ−Ａ’９Ｂ−８１で透過率
が１００チから０％に急激に変化することはなくなる。
め、第６図の瞳１０の外周Ａ−Ａ’９Ｂ−８１で透過率
が１００チから０％に急激に変化することはなくなる。
このため明確なカットオフ周波数が検出波形に表われる
ことがなくなり、検出波形は滑らかになり、元のパター
ンのエツジ情報部近傍のみが急激に変化する忠実な波形
となる。このため検出信号の信号対雑音比が向上し正確
なパターン検出、或いは位置検出が可能となる。
ことがなくなり、検出波形は滑らかになり、元のパター
ンのエツジ情報部近傍のみが急激に変化する忠実な波形
となる。このため検出信号の信号対雑音比が向上し正確
なパターン検出、或いは位置検出が可能となる。
以下本発明の実施例を８ｇ１図ｆａｔ、ｔｂｌを用いて
説明する。レーザ光源１５を出射したレーザ光はレンズ
１５１により、ビームスプリッタ１１を通り、対物レン
ズ１の瞳１０上に絞られ、ウエノ・３上の被検物６０に
照射される。被検物３０で反射したレーザ光は対物レン
ズ１及びリレーレンズ１２によυ撮像装置１５に被検物
３０の像を形成する。
説明する。レーザ光源１５を出射したレーザ光はレンズ
１５１により、ビームスプリッタ１１を通り、対物レン
ズ１の瞳１０上に絞られ、ウエノ・３上の被検物６０に
照射される。被検物３０で反射したレーザ光は対物レン
ズ１及びリレーレンズ１２によυ撮像装置１５に被検物
３０の像を形成する。
リレーレンズ１２は瞳１０を空間フィルタ１４に結像す
る。アナログ空間フィルタ１４は第１図１ｂ＋に示すご
とく領域１４０及び１４２ではレーザ光をそれぞれほぼ
１００チ及び０チ（Ｒ元）透過する。領域１４１では第
１図［ｂｌのグラフに示すごとく場所により透過率Ｔが
変化する。このようにすることにより、被検物で反射し
た光は特定の空間周波数で急峻にカットされることがな
くなり、撮像装置１３で検出される被検物６０のパター
ン像は特定のカットオフ空間周波数が重畳しない、滑ら
かな、原パターンに忠実な像となる。
る。アナログ空間フィルタ１４は第１図１ｂ＋に示すご
とく領域１４０及び１４２ではレーザ光をそれぞれほぼ
１００チ及び０チ（Ｒ元）透過する。領域１４１では第
１図［ｂｌのグラフに示すごとく場所により透過率Ｔが
変化する。このようにすることにより、被検物で反射し
た光は特定の空間周波数で急峻にカットされることがな
くなり、撮像装置１３で検出される被検物６０のパター
ン像は特定のカットオフ空間周波数が重畳しない、滑ら
かな、原パターンに忠実な像となる。
ｆ４ｒＪ２図は本発明の実施例図であり、縮小露光装置
のアライメント検出系に適用したものである。
のアライメント検出系に適用したものである。
本実施例では被検物３０１は第１図１ｂ＋に示すよ５に
周期的に配列したドツトマークからなり、このマークの
Ｘ方向の位置を検出するものである。１は縮小レンズ、
５は回路パターン５１が描画されたマスク（レチクル）
、６は露光照明系である。レーザ光１５０はミラー１５
２及びハーフミラ−１１で反射後、レンズ１２１ｆ！：
通り、ミラー１１及びレチクル５上のクロム面（非透過
パターン面）５２で反射し、縮小レンズ１を通り、被検
物であるアライメントマーク３０’ｆ！：照明する元７
１となる。
周期的に配列したドツトマークからなり、このマークの
Ｘ方向の位置を検出するものである。１は縮小レンズ、
５は回路パターン５１が描画されたマスク（レチクル）
、６は露光照明系である。レーザ光１５０はミラー１５
２及びハーフミラ−１１で反射後、レンズ１２１ｆ！：
通り、ミラー１１及びレチクル５上のクロム面（非透過
パターン面）５２で反射し、縮小レンズ１を通り、被検
物であるアライメントマーク３０’ｆ！：照明する元７
１となる。
アライメントマ゛−り３０１は上記照明光によジ全体が
照明されており、このマーク３０１かも正反射光７１１
と回折光７１１が再び縮小レンズに向う。照明光路を逆
に辿り、ハーフミラ−１１で透過した後レンズ１２２に
より撮像手段１３により検出される。光路中に挿入され
たアナログ空間フィルタ１４は第２図（ｃｌに示すごと
（Ａ−Ａ’線上では透過率のグラフにＴＡＡ ’で示す
ごとく、光を遮光する。他方Ｂ−Ｂ’線上では第１図１
ｂ＋の実施例同様に、領域１４０及び１４２ではそれぞ
れ透過率がは−ぼ１００チ及び０嗟になりておジ、領域
１４１では場所により透過率が変化する。アライメント
マーク５０’で反射した光のうち、正反射光７１１はＡ
−Ａ’上に来、回折光（＋１次の回折光）はＢ−Ｂｌに
来るため、回折光のみが検出され、マーク部分のみが明
るくなり、マークのない部分は暗くなる。しかもマーク
のエツジ部分での明暗の急激な変化に伴ない従来発生し
ていたカットオフ周波数の重畳のない原信号に忠実な波
形が得られる０ ５１ｃＢ図は第２図ｔａｌのアナログ空間フィルタ１４
と同一の機能を有する実施例であり、２値的透過率？：
有する微細パターンから成る空間フィルタである。即ち
中間調領域１４１では第３図（ｂｌ 、（ｃｌ、（ｄｌ
に示すごとく、２値的（透過率がほぼ１００チと０％の
２値からなる）パターンが微細に描かれており、実効的
にこの部分でＸ方向の位置変化に応じて透過率が変化す
る。従って実効的に１４１の領域ではＸ方向の場所によ
り透過率が０から１００−の間で変化し、上記の実施例
同様の効果が得られる。
照明されており、このマーク３０１かも正反射光７１１
と回折光７１１が再び縮小レンズに向う。照明光路を逆
に辿り、ハーフミラ−１１で透過した後レンズ１２２に
より撮像手段１３により検出される。光路中に挿入され
たアナログ空間フィルタ１４は第２図（ｃｌに示すごと
（Ａ−Ａ’線上では透過率のグラフにＴＡＡ ’で示す
ごとく、光を遮光する。他方Ｂ−Ｂ’線上では第１図１
ｂ＋の実施例同様に、領域１４０及び１４２ではそれぞ
れ透過率がは−ぼ１００チ及び０嗟になりておジ、領域
１４１では場所により透過率が変化する。アライメント
マーク５０’で反射した光のうち、正反射光７１１はＡ
−Ａ’上に来、回折光（＋１次の回折光）はＢ−Ｂｌに
来るため、回折光のみが検出され、マーク部分のみが明
るくなり、マークのない部分は暗くなる。しかもマーク
のエツジ部分での明暗の急激な変化に伴ない従来発生し
ていたカットオフ周波数の重畳のない原信号に忠実な波
形が得られる０ ５１ｃＢ図は第２図ｔａｌのアナログ空間フィルタ１４
と同一の機能を有する実施例であり、２値的透過率？：
有する微細パターンから成る空間フィルタである。即ち
中間調領域１４１では第３図（ｂｌ 、（ｃｌ、（ｄｌ
に示すごとく、２値的（透過率がほぼ１００チと０％の
２値からなる）パターンが微細に描かれており、実効的
にこの部分でＸ方向の位置変化に応じて透過率が変化す
る。従って実効的に１４１の領域ではＸ方向の場所によ
り透過率が０から１００−の間で変化し、上記の実施例
同様の効果が得られる。
Ｎ４図は本発明の実施例であり、第２図と同一部品番号
は同一物な表わす。レーザ光１５０はガルバノミラ−１
５５により微小に偏向され、アライメントマーク３０’
に一定入射角０．とθ、を中心に４＃の角度変化範囲で
偏向された、揺動照明光が照射される。アライメントマ
ーク３０１にｅ−Ｑ。
は同一物な表わす。レーザ光１５０はガルバノミラ−１
５５により微小に偏向され、アライメントマーク３０’
に一定入射角０．とθ、を中心に４＃の角度変化範囲で
偏向された、揺動照明光が照射される。アライメントマ
ーク３０１にｅ−Ｑ。
＃−０，０角度を中心にΔθの範囲で照明され正反射し
た光は第４図［Ｃ）の空間フィルタ１４の１４０１と１
４０２に入射するが、揺動角４＃の変化に伴ないカット
オフされる空間周波数が変化するため、揺動照明中に画
像蓄積形撮像手段１３１で得られろ検出信号は実効的に
異なるカットオフ周波数で切られた画像の和となり、原
パターンに忠実な滑らかな波形が得られる。なお第４図
ｔｄｌはガルバノミラ−１５５の偏向による、被検物マ
ーク３０１への照明の入射角の時間変化を示したグラフ
である。
た光は第４図［Ｃ）の空間フィルタ１４の１４０１と１
４０２に入射するが、揺動角４＃の変化に伴ないカット
オフされる空間周波数が変化するため、揺動照明中に画
像蓄積形撮像手段１３１で得られろ検出信号は実効的に
異なるカットオフ周波数で切られた画像の和となり、原
パターンに忠実な滑らかな波形が得られる。なお第４図
ｔｄｌはガルバノミラ−１５５の偏向による、被検物マ
ーク３０１への照明の入射角の時間変化を示したグラフ
である。
第５図は本発明の実施例であり、以下の点を除き第４図
の実施例と同一の光学系を用いる。空間フィルタ７１＋
は第５図ｉｂｌに示すごとく中間調領域１４１は２箇所
あり、検出方向に場所によりグラフに示す通り００〜１
００チまで透過率が非線形に変化する。この領域の中間
は１００％、他は０チの透過率である。＠５図（ａｔに
示すようにウェハ上のマーク３０’はドツト状の一定ピ
ッチのパターンであり、これに垂直入射光７１と傾角入
射光７２のレーザが第５図の実施例同様ガルバノミラ−
１５５の偏向により照射される。それぞれの入射光に対
するマークからの一次回折光７１１及び７２＃は上記空
間フィルタの中間調領域１４１に入射し、ここを通過す
る光により形成される像が画像蓄積形撮像手段１３’で
得られる。
の実施例と同一の光学系を用いる。空間フィルタ７１＋
は第５図ｉｂｌに示すごとく中間調領域１４１は２箇所
あり、検出方向に場所によりグラフに示す通り００〜１
００チまで透過率が非線形に変化する。この領域の中間
は１００％、他は０チの透過率である。＠５図（ａｔに
示すようにウェハ上のマーク３０’はドツト状の一定ピ
ッチのパターンであり、これに垂直入射光７１と傾角入
射光７２のレーザが第５図の実施例同様ガルバノミラ−
１５５の偏向により照射される。それぞれの入射光に対
するマークからの一次回折光７１１及び７２＃は上記空
間フィルタの中間調領域１４１に入射し、ここを通過す
る光により形成される像が画像蓄積形撮像手段１３’で
得られる。
本発明の実施例として、ｇ４図、第５図で示される入射
光として、波長の異なる２つの波長、或いは３つ以上の
波長を用いる。このよ５にすると被検物として例えばレ
ジストが塗布されたウェハのマークを検出する際、レジ
ストの塗布むらにより生じる多重干渉検出パターンの非
対称性が改善され、レジスト塗布むらの影響を受けにく
い高精度の検出が可能となる。
光として、波長の異なる２つの波長、或いは３つ以上の
波長を用いる。このよ５にすると被検物として例えばレ
ジストが塗布されたウェハのマークを検出する際、レジ
ストの塗布むらにより生じる多重干渉検出パターンの非
対称性が改善され、レジスト塗布むらの影響を受けにく
い高精度の検出が可能となる。
本発明の実施例として被検物に照射するレーザ光は対物
レンズ或いは縮小レンズを通す必要は必らずしもない。
レンズ或いは縮小レンズを通す必要は必らずしもない。
透過形の被検物の場合は背後からの照明を行なってもよ
いし、反射形のドツト状の被検物に対し、レンズの外か
ら斜めに照射し１回折光な上記レンズで受光しても良い
。
いし、反射形のドツト状の被検物に対し、レンズの外か
ら斜めに照射し１回折光な上記レンズで受光しても良い
。
以上説明したように本発明によれば指向性の高いレーザ
光等の光により被検物パターンを検出しても、滑らかな
原パターンに忠実な検出波形が得られ、パターン位置の
検出精度、或いはパターンの認識の精度を大幅に向上す
ることが可能となジ、性能向上に効果な発揮する。
光等の光により被検物パターンを検出しても、滑らかな
原パターンに忠実な検出波形が得られ、パターン位置の
検出精度、或いはパターンの認識の精度を大幅に向上す
ることが可能となジ、性能向上に効果な発揮する。
第１図は本発明のパターン検出方法実施する装置の一実
施例を示す図、第２図は本発明をステッパのアライメン
ト検出に適用した場合の一実施例を示す図、第３図は２
階調から成る空間フィルタを示す図、第４図は正反射光
検出に適用した場合を示した図、第５図は回折光検出に
適用した場合を示した図、第６図・は従来のレーザ光に
よる検出法を示す図、第７図は第６図に示す装置によっ
て得られる検出信号被形を示した図である。 １・・・対物レンズ（又は縮小レンズ〕、３・・・被検
物、。 ３０・・・マーク（パターン）、１５・・・レーザ光源
、１２．１４．１２１．１２２・・・レンズ、１３・・
・撮像装置、１４・・・空間フィルタ。 第 １０ （α） 塙 ２図 躬 ３ 図 （失） （’Ｑ’） （Ｃ）（ｄ”） 躬４０ （久） 躬５０ ￥ど 四 −−０互
施例を示す図、第２図は本発明をステッパのアライメン
ト検出に適用した場合の一実施例を示す図、第３図は２
階調から成る空間フィルタを示す図、第４図は正反射光
検出に適用した場合を示した図、第５図は回折光検出に
適用した場合を示した図、第６図・は従来のレーザ光に
よる検出法を示す図、第７図は第６図に示す装置によっ
て得られる検出信号被形を示した図である。 １・・・対物レンズ（又は縮小レンズ〕、３・・・被検
物、。 ３０・・・マーク（パターン）、１５・・・レーザ光源
、１２．１４．１２１．１２２・・・レンズ、１３・・
・撮像装置、１４・・・空間フィルタ。 第 １０ （α） 塙 ２図 躬 ３ 図 （失） （’Ｑ’） （Ｃ）（ｄ”） 躬４０ （久） 躬５０ ￥ど 四 −−０互
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、指向性の高い照明光を被検物に照射し、その反射光
を検出し、被検物の少なくとも一方向の位置を検出する
パターン検出方法において、パターン検出手段に到る途
中の光路に、被検物からの正反射光の位置を中心又は中
心線にして、パターン検出方向に実効的に透過率が中間
調を有するごとく変化するフィルタを挿入し、当該フィ
ルタを透過した光を用いてパターン検出手段上に被検物
の像として結像せしめ、パターンを検出することを特徴
とするパターン検出方法。 ２、上記フィルタは概ね被検物反射光のフーリエ変換位
置に配置することを特徴とする請求項１記載のパターン
検出方法。 ３、指向性の高い光源と、当該光源より出射した光を被
検物に照射する手段と、被検物からの反射もしくは透過
した光を受け結像する手段と、被検物からの正反射光の
位置を中心又は中心線にしてパターン検出方向に実効的
に透過率が中間調を有するごとく変化するフィルタと、
当該フィルタを透過した光を被検物の像として撮像する
手段とから成るパターン検出装置。 ４、上記フィルタは概ね被検物反射光のフーリエ変換位
置に配置することを特徴とする請求項３記載のパターン
検出装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63012505A JPH01189503A (ja) | 1988-01-25 | 1988-01-25 | パターン検出方法及びその装置 |
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