JPH01191490A - 狭帯域エキシマレーザの起動方法 - Google Patents
狭帯域エキシマレーザの起動方法Info
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- JPH01191490A JPH01191490A JP63016401A JP1640188A JPH01191490A JP H01191490 A JPH01191490 A JP H01191490A JP 63016401 A JP63016401 A JP 63016401A JP 1640188 A JP1640188 A JP 1640188A JP H01191490 A JPH01191490 A JP H01191490A
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- laser
- power
- control
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
- H01S3/13—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude
- H01S3/131—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by controlling the active medium, e.g. by controlling the processes or apparatus for excitation
- H01S3/134—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by controlling the active medium, e.g. by controlling the processes or apparatus for excitation in gas lasers
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
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- H01S3/136—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by controlling devices placed within the cavity
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- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lasers (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は縮小投影露光装置の光源として用いる狭帯域
エキシマレーザの起動方法に関し、特に波長選択素子の
１ＩｔｌＪ１１１の後パワーロック制御を行なうにした
狭帯域エキシマレーザの起動方法に関する。
エキシマレーザの起動方法に関し、特に波長選択素子の
１ＩｔｌＪ１１１の後パワーロック制御を行なうにした
狭帯域エキシマレーザの起動方法に関する。
（従来の技術）
集積回路等の回路パターンを半導体ウェハ上に露光する
縮小投影露光装置の光源としてエキシマレーザの利用が
注目されている。これはエキシマレーザの波長が匂い（
ＫｒＦレーザの波長は約２４８、４ｎｌ ）ことから光
露光の限界を０．５μｍ以下に延ばせる可能性があるこ
と、同じ解像度なら従来用いていた水銀ランプのｑ線や
ｉ線に比較して焦点深度が深いこと、レンズの開口数（
ＮＡ）が小さくてすみ、露光領域を大きくできること、
大きなパワーが得られること等の多くの優れた利点が期
待できるからである。
縮小投影露光装置の光源としてエキシマレーザの利用が
注目されている。これはエキシマレーザの波長が匂い（
ＫｒＦレーザの波長は約２４８、４ｎｌ ）ことから光
露光の限界を０．５μｍ以下に延ばせる可能性があるこ
と、同じ解像度なら従来用いていた水銀ランプのｑ線や
ｉ線に比較して焦点深度が深いこと、レンズの開口数（
ＮＡ）が小さくてすみ、露光領域を大きくできること、
大きなパワーが得られること等の多くの優れた利点が期
待できるからである。
ところでエキシマレーザはその波長が２４８．３５ｎｍ
と矧いため、この波長を透過する材料が石英、ＣａＦ
およびＭｃ＋Ｆ２等しかなく、しかも均一性および加
工′ＩＲ度等の点でレンズ素材として石英しか用いるこ
とができない。そこで色収差補正をした、縮小投影レン
ズの設計は困難である。このため、エキシマレーザを縮
小投影露光装置の光源として用いるにはこの色収差が無
視しうる程度までの狭帯域化が必要となる。
と矧いため、この波長を透過する材料が石英、ＣａＦ
およびＭｃ＋Ｆ２等しかなく、しかも均一性および加
工′ＩＲ度等の点でレンズ素材として石英しか用いるこ
とができない。そこで色収差補正をした、縮小投影レン
ズの設計は困難である。このため、エキシマレーザを縮
小投影露光装置の光源として用いるにはこの色収差が無
視しうる程度までの狭帯域化が必要となる。
エキシマレーザの狭帯域化のために、発明者等は、エキ
シマレーザのりアミラーとレーザチャンバとの間に複数
の波長選択素子を配設し、この複数の波長選択素子の選
択中心波長を制御するとともにこの複数の波長選択素子
の透過中心波長を重ね合せる波長制御を実行するという
構成を提案している。
シマレーザのりアミラーとレーザチャンバとの間に複数
の波長選択素子を配設し、この複数の波長選択素子の選
択中心波長を制御するとともにこの複数の波長選択素子
の透過中心波長を重ね合せる波長制御を実行するという
構成を提案している。
この波長制御は、具体的には、出力レーザ光の中心波長
のパワーをモニタし、このモニタしたパワーが最大とな
るように複数の波長選択素子の波長選択特性を制御する
のである。
のパワーをモニタし、このモニタしたパワーが最大とな
るように複数の波長選択素子の波長選択特性を制御する
のである。
ところでエキシマレーザはパルス発振するガスレーザで
あるため、各パルスエネルギーにはある程度バラツキが
ある。従ってレーザパワーの変化をモニタする場合、複
数のレーザ出力パルスをサンプリングし、平均化してレ
ーザパワーを評価することがおこなわれており、上記波
長制御におけるレーザパワーのモニタも複数のレーザ出
力パルスをサンプリングし、これを平均化することによ
り行なわれる。
あるため、各パルスエネルギーにはある程度バラツキが
ある。従ってレーザパワーの変化をモニタする場合、複
数のレーザ出力パルスをサンプリングし、平均化してレ
ーザパワーを評価することがおこなわれており、上記波
長制御におけるレーザパワーのモニタも複数のレーザ出
力パルスをサンプリングし、これを平均化することによ
り行なわれる。
〔発明が解決しようとする課題）
このような狭帯域エキシマレーザの場合、−般に起動時
には、エタロンの重ね合せ状態は不良であり、したがっ
てレーザパワーが極めて低く、場合によってはレーザ発
振がおこなわれなかったり、レーザ発振されたとしても
パワーモニタのレザーパワー検出限界より低いパワーで
しか発振せず、レーザパワーを検出できないこともある
。
には、エタロンの重ね合せ状態は不良であり、したがっ
てレーザパワーが極めて低く、場合によってはレーザ発
振がおこなわれなかったり、レーザ発振されたとしても
パワーモニタのレザーパワー検出限界より低いパワーで
しか発振せず、レーザパワーを検出できないこともある
。
したがって、エタロンの重ね合せ状態や発振波長が不良
な状態でパワーロック制御をおこなっても、安定した出
力を得るのに時間がかかったり、暴走して制御不能状態
になることもあった。
な状態でパワーロック制御をおこなっても、安定した出
力を得るのに時間がかかったり、暴走して制御不能状態
になることもあった。
この発明の目的は、狭帯域エキシマレーザの起動時、波
長選択素子の波長制御を速やかにおこない、短時間のう
ちに波長制御を終了させ、さらに短時間で安定した出力
パワーが得られるようにした狭帯域エキシマレーザの起
動方法を提供することにある。
長選択素子の波長制御を速やかにおこない、短時間のう
ちに波長制御を終了させ、さらに短時間で安定した出力
パワーが得られるようにした狭帯域エキシマレーザの起
動方法を提供することにある。
この発明では、レーザ起動時、波長制御系による出力レ
ーザの波長制御を行ない、その後パワー制御系によりレ
ーザの出力パワーを所望の定常時のパワーに固定するパ
ワーロック制御を行なうようにしたことを特徴とする。
ーザの波長制御を行ない、その後パワー制御系によりレ
ーザの出力パワーを所望の定常時のパワーに固定するパ
ワーロック制御を行なうようにしたことを特徴とする。
波長制御が確実に終了した後にパワーロック制御を行う
ので、辺時間でパワーロック制御が終了する。
ので、辺時間でパワーロック制御が終了する。
第１図は、この発明の一実施例をブロック図で示したも
のである。この実施例ではレーザチャンバ１０７とリア
ミラー１０６との間にエタロン１０１．１０２を配設す
ることによって狭帯域化をおこなっている。
のである。この実施例ではレーザチャンバ１０７とリア
ミラー１０６との間にエタロン１０１．１０２を配設す
ることによって狭帯域化をおこなっている。
この実施例の装置はレーザチャンバ１０７内のレーザ媒
質ガスの成分制御およびレーザ媒質の励起強度制御、す
なわち放電電圧制御によってレーザ出力パワーをコント
ロールするパワー制御系２００と、レーザ出力中心波長
を制御する中心波長制御およびエタロン１０１と１０２
との透過中心波長の重ね合せを行なう重ね合せ制御を実
行する波長制御系３００とを有している。
質ガスの成分制御およびレーザ媒質の励起強度制御、す
なわち放電電圧制御によってレーザ出力パワーをコント
ロールするパワー制御系２００と、レーザ出力中心波長
を制御する中心波長制御およびエタロン１０１と１０２
との透過中心波長の重ね合せを行なう重ね合せ制御を実
行する波長制御系３００とを有している。
まず、定常状態におけるパワー制御系２００と波長制御
系３００の動作について説明する。エキシマレーザに用
いるレーザ媒質ガスは時間経過とともにそのレーザ媒質
としての性質が徐々に劣化し、レーザパワーが低下する
。そこで励起強度制御系２００ではレーザ媒質の成分副
葬、すなわちガス交換を行なうとともにレーザ媒質の励
起強度すなわち放電電圧を制御することによってレーザ
出力を一定に保つ出力制御がおこなわれている。
系３００の動作について説明する。エキシマレーザに用
いるレーザ媒質ガスは時間経過とともにそのレーザ媒質
としての性質が徐々に劣化し、レーザパワーが低下する
。そこで励起強度制御系２００ではレーザ媒質の成分副
葬、すなわちガス交換を行なうとともにレーザ媒質の励
起強度すなわち放電電圧を制御することによってレーザ
出力を一定に保つ出力制御がおこなわれている。
すなわち第１図に示すように発振されたレーザ光の一部
をビームスプリッタ１０４で分岐させパワーモニタ２０
２に入射し、ＣＰＵ２０３はこのパワーモニタの出力に
もとづきレーザ電源２０４を介して、レーザ媒質の励起
強度を変化させたり、あるいはガスコントローラ２０５
を介してレーザ媒質ガスの部分的交換を実施するなどし
て、レーザ出力を一定に保つ出力制御をおこなう。
をビームスプリッタ１０４で分岐させパワーモニタ２０
２に入射し、ＣＰＵ２０３はこのパワーモニタの出力に
もとづきレーザ電源２０４を介して、レーザ媒質の励起
強度を変化させたり、あるいはガスコントローラ２０５
を介してレーザ媒質ガスの部分的交換を実施するなどし
て、レーザ出力を一定に保つ出力制御をおこなう。
ここでＣＰＵ２０３はレーザ媒質ガス全量交換時からの
経過時間および通算レーザ発振パルス数を計数しており
、この経過時間および通算レーザ発振パルス数をデータ
としてレーザ媒質ガスの劣化具合を判断するとともに所
望のレーザパワーｐａを得るために必要なレーザ媒質ガ
スの励起強度すなわち放電電圧Ｖａを算出し、この算出
値にもとづきレーザ電源２０４を制御する。
経過時間および通算レーザ発振パルス数を計数しており
、この経過時間および通算レーザ発振パルス数をデータ
としてレーザ媒質ガスの劣化具合を判断するとともに所
望のレーザパワーｐａを得るために必要なレーザ媒質ガ
スの励起強度すなわち放電電圧Ｖａを算出し、この算出
値にもとづきレーザ電源２０４を制御する。
また、発振されたレーザ光の一部はビームスプリッタ１
０３でサンプル光として分岐され、発振中心波長および
中心波長パワー検知器３０１に加えられる。発振中心波
長及び中心波長パワー検知器３０１はこのサンプル光か
らエキシマレーザ１０の発振中心波長λと中心波長のパ
ワーＰλを検出する。ここで中心波長のパワーＰλの検
出は予め設定された所定数のレーザ出力パルスをサンプ
リングし、これを平均化することによって行われる。
０３でサンプル光として分岐され、発振中心波長および
中心波長パワー検知器３０１に加えられる。発振中心波
長及び中心波長パワー検知器３０１はこのサンプル光か
らエキシマレーザ１０の発振中心波長λと中心波長のパ
ワーＰλを検出する。ここで中心波長のパワーＰλの検
出は予め設定された所定数のレーザ出力パルスをサンプ
リングし、これを平均化することによって行われる。
発振中心波長及び中心波長パワー検知器３０１で検出さ
れたサンプル光の中心波長λおよび中心波長パワーＰλ
は波長コントローラを構成する中央処理装置（ＣＰＩＪ
）３０２に入力される。
れたサンプル光の中心波長λおよび中心波長パワーＰλ
は波長コントローラを構成する中央処理装置（ＣＰＩＪ
）３０２に入力される。
ＣＰＵ３０２はドライバ３０３，３０４を介してエタロ
ン１０１，１０２の波長選択特性（透過中心波長および
選択中心波長）を制御し、サンプル光、すなわちエキシ
マレーザの出力光の中心波長が予め設定された所望の波
長に一致しく中心波長制′ｉ！Ｊ）、かつ中心波長パワ
ーが最大となるようにする（＠ね合せ制御）。ここでド
ライバ３０３゜３０４によるエタロン１０１，１０２の
波長選択特性の制御はエタロン４の温度の制御、角度の
制御のエアギャップ内の圧力の制御、ギャップ間隔の制
御等によって行なう。
ン１０１，１０２の波長選択特性（透過中心波長および
選択中心波長）を制御し、サンプル光、すなわちエキシ
マレーザの出力光の中心波長が予め設定された所望の波
長に一致しく中心波長制′ｉ！Ｊ）、かつ中心波長パワ
ーが最大となるようにする（＠ね合せ制御）。ここでド
ライバ３０３゜３０４によるエタロン１０１，１０２の
波長選択特性の制御はエタロン４の温度の制御、角度の
制御のエアギャップ内の圧力の制御、ギャップ間隔の制
御等によって行なう。
中心波長制御は、具体的にはエタロン１０１゜１０２の
うち少なくともフリースベクトラルレンジの小さい方の
エタロンの角度等を制御して該エタロンの透過波長をシ
フトさせ、これにより出力中心波長すなわち発振中心波
長及び中心波長パワー検知器３０１で所望の波長となる
ように制御する。また重ね合せ制御は、上述したフリー
スベクトラルレンジの小さい方のエタロン以外のエタロ
ン、すなわち、フリースベクトラルレンジの大きい方の
エタロンの透過中心波長を所定単位波長づつシフトし、
エタロン１０１，１０２の透過中心波長が重なり、発振
中心波長及び中心波長パワー検知器３０１で検出された
中心波長パワーが最大となるように制御する。
うち少なくともフリースベクトラルレンジの小さい方の
エタロンの角度等を制御して該エタロンの透過波長をシ
フトさせ、これにより出力中心波長すなわち発振中心波
長及び中心波長パワー検知器３０１で所望の波長となる
ように制御する。また重ね合せ制御は、上述したフリー
スベクトラルレンジの小さい方のエタロン以外のエタロ
ン、すなわち、フリースベクトラルレンジの大きい方の
エタロンの透過中心波長を所定単位波長づつシフトし、
エタロン１０１，１０２の透過中心波長が重なり、発振
中心波長及び中心波長パワー検知器３０１で検出された
中心波長パワーが最大となるように制御する。
この重ね合せ制御の動作を第２図（ａ）、 （ｂ）、
（ｃ）により更に説明する。第２図（ａ）に示すように
、重ね合せに不具合が発生すると２個のエタロンのうち
フリースベタ１−ラルレンジ（に！、下ＦＳＲと記す）
の小さなエタロンによる中心透過帯１１と隣接透過帯１
３が、ＦＳＲの大きなエタロンによる中心透過帯１４と
重なり、中心波長成分１５の他にサイドピークと呼ばれ
る隣接発振線１２が現われる。また第２図（ｂ）に示す
ように中心波長成分の強度、換言すれば、狭帯域化され
たレーザ光のパワーの低下をまねくこともある。
（ｃ）により更に説明する。第２図（ａ）に示すように
、重ね合せに不具合が発生すると２個のエタロンのうち
フリースベタ１−ラルレンジ（に！、下ＦＳＲと記す）
の小さなエタロンによる中心透過帯１１と隣接透過帯１
３が、ＦＳＲの大きなエタロンによる中心透過帯１４と
重なり、中心波長成分１５の他にサイドピークと呼ばれ
る隣接発振線１２が現われる。また第２図（ｂ）に示す
ように中心波長成分の強度、換言すれば、狭帯域化され
たレーザ光のパワーの低下をまねくこともある。
重ね合せ制御においては、第２図（Ｃ）に示すように中
心波長成分の強度を最大にすべくエタロン１０１．１０
２の角度等を調整をする重ね合せ制御が実施される。
心波長成分の強度を最大にすべくエタロン１０１．１０
２の角度等を調整をする重ね合せ制御が実施される。
次に、この発明にかかわるレーザの起動時における制御
について説明する。
について説明する。
第３図は、第１図に示した構成をとる狭帯域エキシマレ
ーザの起動時における制御の一実施例を示したものであ
る。レーザ起動時にはエタロン１０１．１０２の重ね合
せ状態は良好とはいえず、この状態のレーザ光はそのま
ま図示しない露光装置の光源として用いることはできな
い。そこでレーザ起動時にはレーザパワーが安定するま
で第１図に示すシャッタ１０７を閉じ、露光装置へ出力
されるレーザ光を遮断する（ステップ４０１）。
ーザの起動時における制御の一実施例を示したものであ
る。レーザ起動時にはエタロン１０１．１０２の重ね合
せ状態は良好とはいえず、この状態のレーザ光はそのま
ま図示しない露光装置の光源として用いることはできな
い。そこでレーザ起動時にはレーザパワーが安定するま
で第１図に示すシャッタ１０７を閉じ、露光装置へ出力
されるレーザ光を遮断する（ステップ４０１）。
次に起動時の励起強度、すなわち放電電圧の設定を行な
う（ステップ４０２）。ここで、起動時の励起強度は、
起動時における重ね合せ制御を迅速に行なわせるために
、所望のレーザパワーＰａを得るために必要なレーザ媒
質の励起強度より高く設定される。すなわち、所望のレ
ーザパワーＰａを得るために必要なレーザ媒質の励起強
度、すなわち放電電圧をＶａとしたとき起動時の放電電
圧は値■ａに応じて、このＶａより大きい値Ｖｓに設定
される。この値ＶＳは値Ｖａと許容最大電圧■、との間
の任意の値をとり得るが、これを許容最大電圧■、に設
定してもよい。
う（ステップ４０２）。ここで、起動時の励起強度は、
起動時における重ね合せ制御を迅速に行なわせるために
、所望のレーザパワーＰａを得るために必要なレーザ媒
質の励起強度より高く設定される。すなわち、所望のレ
ーザパワーＰａを得るために必要なレーザ媒質の励起強
度、すなわち放電電圧をＶａとしたとき起動時の放電電
圧は値■ａに応じて、このＶａより大きい値Ｖｓに設定
される。この値ＶＳは値Ｖａと許容最大電圧■、との間
の任意の値をとり得るが、これを許容最大電圧■、に設
定してもよい。
なお、ここで起動時の発振繰返し周波数も定常時の繰返
し周波数よりも高く設定してもよい。これも起動時にお
ける重ね合せ制御を迅速に行なわせるためである。すな
わち、定常時における所望の繰返し周波数をｌ”ａとす
ると起動時の繰返し周波数をＦａとすると起動時の繰返
し周波数はこのＦａに応じτ、この値Ｆａより大きな値
Ｆｓに設定される。この値Ｆｓは値Ｆａと許容最大繰返
し周波数Ｆ、（定格出力が維持できる最大周波数）との
間の任意の値をとり得るが、この実施例ではこれを許容
最大繰返し周波数Ｆ、に設定してもよい。
し周波数よりも高く設定してもよい。これも起動時にお
ける重ね合せ制御を迅速に行なわせるためである。すな
わち、定常時における所望の繰返し周波数をｌ”ａとす
ると起動時の繰返し周波数をＦａとすると起動時の繰返
し周波数はこのＦａに応じτ、この値Ｆａより大きな値
Ｆｓに設定される。この値Ｆｓは値Ｆａと許容最大繰返
し周波数Ｆ、（定格出力が維持できる最大周波数）との
間の任意の値をとり得るが、この実施例ではこれを許容
最大繰返し周波数Ｆ、に設定してもよい。
続いて、この装置の発振が開始される（ステップ４０３
）。発振が開始されると、まず波長制御が実行される。
）。発振が開始されると、まず波長制御が実行される。
（ステップ４０４）。この波長制御は重ね合せ制御から
開始され、この重ね合せ制御はエタロン１０１．１０２
のうちスペクトラルレンジの大きの方のエタロンの透過
中心波長を所定単位波長づつ順次シフトし、このときの
レーザ出力パワー、すなわち発振中心波長及び中心波長
パワー検知器３０１による検知パワーが最大となるよう
に制御する。ここで重ね合せ制御の迅速化をはかるため
にエタロンの中心波長の単位シフト量は定常状態の重ね
合せ制御おける単位シフト但より大きく設定されている
。また中心波長パワーは前述したように所定数のレーザ
出力パルスをサンプリングし、これを平均化することに
より検出しているが、レーザ起動時においては、重ね合
せ制御の迅速化のために上記サンプリングパルス数を定
常時のサンプリングパルス数より少なく設定し、レーザ
出力パワーの検出が素速く行なわれるようにしている。
開始され、この重ね合せ制御はエタロン１０１．１０２
のうちスペクトラルレンジの大きの方のエタロンの透過
中心波長を所定単位波長づつ順次シフトし、このときの
レーザ出力パワー、すなわち発振中心波長及び中心波長
パワー検知器３０１による検知パワーが最大となるよう
に制御する。ここで重ね合せ制御の迅速化をはかるため
にエタロンの中心波長の単位シフト量は定常状態の重ね
合せ制御おける単位シフト但より大きく設定されている
。また中心波長パワーは前述したように所定数のレーザ
出力パルスをサンプリングし、これを平均化することに
より検出しているが、レーザ起動時においては、重ね合
せ制御の迅速化のために上記サンプリングパルス数を定
常時のサンプリングパルス数より少なく設定し、レーザ
出力パワーの検出が素速く行なわれるようにしている。
このように、レーザ起動時エタロン等波長選択素子の重
ね合せ状態が不良でありパワーモニタ検出限界以下のパ
ワーしかもたないレーザパルスが多数あっても効果的に
は所定のサンプリングパルス数サンプリングするに要す
る時間が矧くなり、重ね合せ制御が迅速におこなわれる
。
ね合せ状態が不良でありパワーモニタ検出限界以下のパ
ワーしかもたないレーザパルスが多数あっても効果的に
は所定のサンプリングパルス数サンプリングするに要す
る時間が矧くなり、重ね合せ制御が迅速におこなわれる
。
この重ね合せ制御に続いて中心波長制御が行なわれる。
中心波長制御はまず所望の中心波長と現在の出力中心波
長、すなわち発振中心波長及び中心波長パワー検知器３
０１で検出された発振中心波長とのずれを検出し、この
ずれを０にすべくエタロン１０１と１０２の透過中心波
長を同時にこのずれに対応する値だけそれぞれシフトす
ることにより行なう。
長、すなわち発振中心波長及び中心波長パワー検知器３
０１で検出された発振中心波長とのずれを検出し、この
ずれを０にすべくエタロン１０１と１０２の透過中心波
長を同時にこのずれに対応する値だけそれぞれシフトす
ることにより行なう。
重ね合せ制御と中心波長制御が終了し、レーザ出力が所
望の波長および所望のパワーになったことが検出される
とくスｉ・ツブ４０５）、レーザ出力パワーを定常時の
パワーに戻し、レーザ出力パワーを定常時のパワーにロ
ックするパワーロック制御が行なわれる（ステップ４０
６）。このパワーロック制御はこの実施例では波長制御
系３００による波長制御〈重ね合せ制御及び中心波長制
御）を停止した状態で実行される。パワーロック制御は
レーザ出力パワーが所望のパワーにロックするまで続け
られ、所望のパワーになると（ステップ４０７）、ステ
ップ４０８に移行し、定常時の波長制御及びパワー制御
が行なわれる。
望の波長および所望のパワーになったことが検出される
とくスｉ・ツブ４０５）、レーザ出力パワーを定常時の
パワーに戻し、レーザ出力パワーを定常時のパワーにロ
ックするパワーロック制御が行なわれる（ステップ４０
６）。このパワーロック制御はこの実施例では波長制御
系３００による波長制御〈重ね合せ制御及び中心波長制
御）を停止した状態で実行される。パワーロック制御は
レーザ出力パワーが所望のパワーにロックするまで続け
られ、所望のパワーになると（ステップ４０７）、ステ
ップ４０８に移行し、定常時の波長制御及びパワー制御
が行なわれる。
続いて、露光準備完了信号を図示しない露光装置に出力
し、起動にあたって閉じたシャッタ１０７を開にする（
ステップ４１１）。
し、起動にあたって閉じたシャッタ１０７を開にする（
ステップ４１１）。
以上の制御は第１図に示したＣＰＵ３０２゜２０３によ
って行なわれる。
って行なわれる。
第４図、パワーロック制御時に波長制御も同時に行なう
ように構成した他の実施例を示したものである。第３図
に示したようにパワーロック制御時に波長制御を停止さ
せる構成をとるとパワーロック制御時にエタロン１０１
．１０２の重ね合せ状態および中心波長がずれることが
あり、この場合パワーロック完了時に所望の線幅、所望
の波長のレーザ出力が得られないことがある。そこで、
この第４図に示す実施例ではステップ４０６′において
パワーロック制御時に波長制御（重ね合せ制御および中
心波長制御＃）も同時に行なうように構成される。
ように構成した他の実施例を示したものである。第３図
に示したようにパワーロック制御時に波長制御を停止さ
せる構成をとるとパワーロック制御時にエタロン１０１
．１０２の重ね合せ状態および中心波長がずれることが
あり、この場合パワーロック完了時に所望の線幅、所望
の波長のレーザ出力が得られないことがある。そこで、
この第４図に示す実施例ではステップ４０６′において
パワーロック制御時に波長制御（重ね合せ制御および中
心波長制御＃）も同時に行なうように構成される。
なお、ステップ４０６′を除く他の構成は第３図に示し
たものと同様である。
たものと同様である。
第５図は、パワーロック制御と波長制御とを交互に行な
うようにした更に他の実施例を示したものである。この
実施例ではステップ４０５で起動時の波長制御の終了が
確認された後、パワーロック制御（ステップ４０６Ａ＞
、波長制ｎ（ステップ４０６Ｂ）がステップ４０７でレ
ーザ出力パワーが所望のパワーとなったと判断されるま
で交互に繰返えされる。このようにパワーロック制御に
続けて波長制ｉａ（！ｉ！ね合せ制御および中心波長制
御）を行なうことによりパワーロック制御によってずれ
たエタロン１０１．１０２の重ね合せ状態および中心透
過波長が常に所望の状態に引き戻され、これによって安
定したパワーロック制御を行なうことができる。
うようにした更に他の実施例を示したものである。この
実施例ではステップ４０５で起動時の波長制御の終了が
確認された後、パワーロック制御（ステップ４０６Ａ＞
、波長制ｎ（ステップ４０６Ｂ）がステップ４０７でレ
ーザ出力パワーが所望のパワーとなったと判断されるま
で交互に繰返えされる。このようにパワーロック制御に
続けて波長制ｉａ（！ｉ！ね合せ制御および中心波長制
御）を行なうことによりパワーロック制御によってずれ
たエタロン１０１．１０２の重ね合せ状態および中心透
過波長が常に所望の状態に引き戻され、これによって安
定したパワーロック制御を行なうことができる。
なお、上記実施例では励起強度を起動時において定常の
値より大きくなるように設定したが、励起強度および繰
返し周波数の両者を定常の値より大きくなるように設定
してもよく、また繰返し周波数のみを定常の値より大き
くなるように設定してもよい。
値より大きくなるように設定したが、励起強度および繰
返し周波数の両者を定常の値より大きくなるように設定
してもよく、また繰返し周波数のみを定常の値より大き
くなるように設定してもよい。
なお、以上の実施例でｔよ、レーザチンヤバとりアミラ
ーの間にフリースペクトラルレンジの小さなエタロンと
フリースベクトラルレンジの大きなエタロンの２枚を配
設して狭帯域発振するように構成しているが１９０２２
枚のかわりに１つのエタロンと１つの回折格子を用いて
も同様に構成することができる。
ーの間にフリースペクトラルレンジの小さなエタロンと
フリースベクトラルレンジの大きなエタロンの２枚を配
設して狭帯域発振するように構成しているが１９０２２
枚のかわりに１つのエタロンと１つの回折格子を用いて
も同様に構成することができる。
〔発明の効果］
以上説明したようにこの発明によれば狭帯域エキシマレ
−、ザの起動時における制御を迅速に完了させることが
でき短時間で安定した出力パワーを得ることができる。
−、ザの起動時における制御を迅速に完了させることが
でき短時間で安定した出力パワーを得ることができる。
第１図はこの発明の一実施例を示すブロック図、第２図
は重ね合せ制御を説明する波形図、第３図はこの実施例
の動作を説明するフローチャート、第４図、第５図はこ
の発明の他の実施例を示すフローチャートである。 １０１．１０２・・・エタロン、２００・・・パワー制
御系、２０３・・・ＣＰＵ、２０４・・・レーザ電源、
２０５・・・ガスコントローラ、３００・・・波長制御
系。
は重ね合せ制御を説明する波形図、第３図はこの実施例
の動作を説明するフローチャート、第４図、第５図はこ
の発明の他の実施例を示すフローチャートである。 １０１．１０２・・・エタロン、２００・・・パワー制
御系、２０３・・・ＣＰＵ、２０４・・・レーザ電源、
２０５・・・ガスコントローラ、３００・・・波長制御
系。
Claims (5)
- （１）レーザガスの制御および放電電圧の制御によりレ
ーザの出力パワーを制御するパワー制御系と、レーザ発
振器の共振器内に配設された波長選択素子の透過波長を
制御することにより出力波長を制御する波長制御系とを
有する狭帯域エキシマレーザの起動方法において、 レーザ起動時、前記波長制御系による出力レーザの波長
制御を行ない、 その後前記パワー制御系によりレーザの出力パワーを所
望の定常時のパワーに固定するパワーロック制御を行な
うようにしたことを特徴とする狭帯域エキシマレーザの
起動方法。 - （２）波長選択素子は、少なくとも２個の波長選択素子
からなり、 波長制御は、前記波長選択素子の透過波長を重ね合せる
重ね合せ制御と、この重ね合せた透過波長を所望の波長
にシフトする中心波長制御とからなる請求項（１）記載
の狭帯域エキシマレーザの起動方法。 - （３）パワーロック制御は波長制御を停止した状態で行
なわれる請求項（１）記載の狭帯域エキシマレーザの起
動方法。 - （４）パワーロック制御は波長制御とともに行なわれる
請求項（１）記載の狭帯域エキシマレーザの起動方法。 - （５）パワーロック制御は波長制御と交互に行なわれる
請求項（１）記載の狭帯域エキシマレーザの起動方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63016401A JP2747585B2 (ja) | 1988-01-27 | 1988-01-27 | 狭帯域エキシマレーザの起動方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63016401A JP2747585B2 (ja) | 1988-01-27 | 1988-01-27 | 狭帯域エキシマレーザの起動方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01191490A true JPH01191490A (ja) | 1989-08-01 |
| JP2747585B2 JP2747585B2 (ja) | 1998-05-06 |
Family
ID=11915224
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63016401A Expired - Lifetime JP2747585B2 (ja) | 1988-01-27 | 1988-01-27 | 狭帯域エキシマレーザの起動方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2747585B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4105471A1 (de) * | 1990-02-21 | 1991-08-29 | Mitsubishi Electric Corp | Laservorrichtung mit steuerung der wellenlaenge der schwingung |
| WO1995018477A1 (en) * | 1993-12-24 | 1995-07-06 | Komatsu Ltd. | Gas supplementation method of excimer laser apparatus |
| WO1995034927A1 (en) * | 1994-06-16 | 1995-12-21 | Komatsu Ltd. | Laser gas controller and charging-discharging device for discharge-excited laser |
| EP1655182A2 (en) | 2004-11-05 | 2006-05-10 | Takata Corporation | Curtain airbag device |
| WO2016002648A1 (ja) * | 2014-07-01 | 2016-01-07 | ギガフォトン株式会社 | レーザ装置、ｅｕｖ光生成システム及びレーザ装置の制御方法 |
| CN107735914A (zh) * | 2015-07-14 | 2018-02-23 | 极光先进雷射株式会社 | 准分子激光装置 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63192232A (ja) * | 1987-02-05 | 1988-08-09 | Nikon Corp | 光量調整装置 |
| JPS63241925A (ja) * | 1987-03-30 | 1988-10-07 | Nikon Corp | 露光装置及び露光方法 |
| JPH01106426A (ja) * | 1987-10-19 | 1989-04-24 | Canon Inc | 露光装置 |
-
1988
- 1988-01-27 JP JP63016401A patent/JP2747585B2/ja not_active Expired - Lifetime
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| JPH01106426A (ja) * | 1987-10-19 | 1989-04-24 | Canon Inc | 露光装置 |
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| WO2016002648A1 (ja) * | 2014-07-01 | 2016-01-07 | ギガフォトン株式会社 | レーザ装置、ｅｕｖ光生成システム及びレーザ装置の制御方法 |
| JPWO2016002648A1 (ja) * | 2014-07-01 | 2017-04-27 | ギガフォトン株式会社 | レーザ装置、ｅｕｖ光生成システム及びレーザ装置の制御方法 |
| US10224686B2 (en) | 2014-07-01 | 2019-03-05 | Gigaphoton Inc. | Laser apparatus, EUV light generation system, and method of controlling laser apparatus |
| CN107735914A (zh) * | 2015-07-14 | 2018-02-23 | 极光先进雷射株式会社 | 准分子激光装置 |
| CN107735914B (zh) * | 2015-07-14 | 2020-06-26 | 极光先进雷射株式会社 | 准分子激光装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2747585B2 (ja) | 1998-05-06 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |