JPH01194374A - ガスレーザ発振装置 - Google Patents
ガスレーザ発振装置Info
- Publication number
- JPH01194374A JPH01194374A JP1721788A JP1721788A JPH01194374A JP H01194374 A JPH01194374 A JP H01194374A JP 1721788 A JP1721788 A JP 1721788A JP 1721788 A JP1721788 A JP 1721788A JP H01194374 A JPH01194374 A JP H01194374A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cathode
- anode
- discharge
- pin
- peaking capacitor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
- H01S3/097—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser
- H01S3/0971—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser transversely excited
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的〕
（産業上の利用分野）
この発明はレーザガス媒質が封入された放電管内に主放
電を発生する主放電電極を設け、この主放電電極の近傍
ｔこ予備電離放電を発生するピン電極を設けたガスレー
ザ発振装置に関する。
電を発生する主放電電極を設け、この主放電電極の近傍
ｔこ予備電離放電を発生するピン電極を設けたガスレー
ザ発振装置に関する。
（従来の技術）
レーザガス圧が大気圧に近い、あるいは大気圧以上で動
作するＴＥＡＣＯ２レーザ、エキシマレーザ、等のパル
スレーザではレーザガス媒質を励起する場合に例えば複
数本の棒状の電極により予備Ｔｒｉ離放雷放電生し、主
放電を制御することが行われている。
作するＴＥＡＣＯ２レーザ、エキシマレーザ、等のパル
スレーザではレーザガス媒質を励起する場合に例えば複
数本の棒状の電極により予備Ｔｒｉ離放雷放電生し、主
放電を制御することが行われている。
このようなガスレーザ発振装置を第３図および第４図を
参照して説明する。図中に示される放電管１には所定圧
力でレーザガス媒質としてのＣＯ２−Ｎ２−Ｈｅ混合ガ
スあるいはエキシマレーザガスとしてのＸｅ−ＨＣｌ−
Ｈｅ等の混合ガスが封入されている。
参照して説明する。図中に示される放電管１には所定圧
力でレーザガス媒質としてのＣＯ２−Ｎ２−Ｈｅ混合ガ
スあるいはエキシマレーザガスとしてのＸｅ−ＨＣｌ−
Ｈｅ等の混合ガスが封入されている。
そして、この放電管１の長手方向には主放電を発生する
陰ｔ！！２と陽極３とが所定距離離されて対向されてい
る。この陰極２および陽極３はそれぞれ対向された支持
板体４．５の対向面に支持されており、これら陰極２お
よび陽極３の近傍の長手方向側部には複数対のピン電極
６・・・、７・・・がそれぞれ配設されている。このう
ち上記陰極２側に設けられたピン電極６・・・は上記支
持板体４を厚さ方向に貫通し絶縁された状態に設けられ
ており、この支持板体４の、に側に突出されたピン電極
６・・・の先端にはピーキングコンデンサ８・・・が設
けられている。そしてこのピーキングコンデンサ８・・
・には、上記陰極２から延出された配線および高電圧電
源９とが接続されている。
陰ｔ！！２と陽極３とが所定距離離されて対向されてい
る。この陰極２および陽極３はそれぞれ対向された支持
板体４．５の対向面に支持されており、これら陰極２お
よび陽極３の近傍の長手方向側部には複数対のピン電極
６・・・、７・・・がそれぞれ配設されている。このう
ち上記陰極２側に設けられたピン電極６・・・は上記支
持板体４を厚さ方向に貫通し絶縁された状態に設けられ
ており、この支持板体４の、に側に突出されたピン電極
６・・・の先端にはピーキングコンデンサ８・・・が設
けられている。そしてこのピーキングコンデンサ８・・
・には、上記陰極２から延出された配線および高電圧電
源９とが接続されている。
また、これら陰極２側のピン電極６・・・に対向される
上記陽極３側の支持板体５には陽極３側のピン電極７・
・・が配設されている。これらピン電極７・・・の基端
は上記支持板体５に接続され、先端は上記陰極２側のピ
ン電極６・・・の先端に所定の隙間をもって対向されて
いる。
上記陽極３側の支持板体５には陽極３側のピン電極７・
・・が配設されている。これらピン電極７・・・の基端
は上記支持板体５に接続され、先端は上記陰極２側のピ
ン電極６・・・の先端に所定の隙間をもって対向されて
いる。
そして、上記陽極３側の支持板体５は、上記高電圧電源
９が接続されており、また、高電圧電源９と陽極３側の
支持板体５とを接続する配線の中途部はアースされてい
る。
９が接続されており、また、高電圧電源９と陽極３側の
支持板体５とを接続する配線の中途部はアースされてい
る。
そして、」二記放電管１の内側にはレーザガス媒質を冷
却する熱交換器１０および放電管１内のし一ザガス媒質
を循環するファン１１とが設けられている。そして、１
−記陰極２および陽極３の縁部とピン電極６・・・、７
・・・との距離は寸法ａをもって離されている。また、
上記陰極２および陽極３を挾んで対向されるピン電極６
・・・、７・・・間の距離は寸法すをもって離されてい
る。
却する熱交換器１０および放電管１内のし一ザガス媒質
を循環するファン１１とが設けられている。そして、１
−記陰極２および陽極３の縁部とピン電極６・・・、７
・・・との距離は寸法ａをもって離されている。また、
上記陰極２および陽極３を挾んで対向されるピン電極６
・・・、７・・・間の距離は寸法すをもって離されてい
る。
このように構成されたガスレーザ発振装置は、レーザ光
を発振する際に次のような工程を経て発振される。まず
、高電圧電源９により上記陰極２と陽極３とに高電圧が
印加される。この高電圧の印加により上記ピーキングコ
ンデンサ８・・・が充電され、このピーキングコンデン
サ８・・・の容量を越えると上記ピン電極６・・・、７
・・・の間で予備電離放電が発生される。この予備電離
放電によってＵＶ光（紫外線）が発光され、このＵＶ光
が上記陰極２および陽極３の間に主放電を引起こす。
を発振する際に次のような工程を経て発振される。まず
、高電圧電源９により上記陰極２と陽極３とに高電圧が
印加される。この高電圧の印加により上記ピーキングコ
ンデンサ８・・・が充電され、このピーキングコンデン
サ８・・・の容量を越えると上記ピン電極６・・・、７
・・・の間で予備電離放電が発生される。この予備電離
放電によってＵＶ光（紫外線）が発光され、このＵＶ光
が上記陰極２および陽極３の間に主放電を引起こす。
こうして発生された陰極２と陽極３との間の主放電によ
り上記レーザガス媒質が励起され、レーザ光が発光され
る。上記ガスレーザ発振装置はこのようなレーザ光の発
光工程をファン１１を回転し、レーザガスを循環するこ
とにより繰返すように構成されており、発光されたレー
ザ光は放電管１を挟んで対峙する図示しない一対の共振
器ミラー間で連続的に反射を繰返し、出力を増大するよ
うになっている。
り上記レーザガス媒質が励起され、レーザ光が発光され
る。上記ガスレーザ発振装置はこのようなレーザ光の発
光工程をファン１１を回転し、レーザガスを循環するこ
とにより繰返すように構成されており、発光されたレー
ザ光は放電管１を挟んで対峙する図示しない一対の共振
器ミラー間で連続的に反射を繰返し、出力を増大するよ
うになっている。
上述のようにレーザ光を発振するガスレーザ発振装置は
、レーザ光出力を高めるため陰極２および陽極３に対し
てピン電極６・・・、７・・・をできるだけ近付けるこ
とが考えられる。つまり寸法ａを小さくすることが望ま
しい、しかしながら、あまり近接した状態に設けるとピ
ン電極６・・・、７・・・がアース電位であるのに対し
陰極２は高圧電位であり、第３図中に破線で示す矢印方
向の異常放電が発生し、主放電が発生しなくなるという
事情があった。
、レーザ光出力を高めるため陰極２および陽極３に対し
てピン電極６・・・、７・・・をできるだけ近付けるこ
とが考えられる。つまり寸法ａを小さくすることが望ま
しい、しかしながら、あまり近接した状態に設けるとピ
ン電極６・・・、７・・・がアース電位であるのに対し
陰極２は高圧電位であり、第３図中に破線で示す矢印方
向の異常放電が発生し、主放電が発生しなくなるという
事情があった。
（発明が解決しようとする課題）
所定圧力でレーザガス媒質が封入された放電管内に、陰
極および陽極が設けられ、これら陰極および陽極の近傍
に予備電離放電を発生するピン電極対が設けられたガス
レーザ発振装置は、上記陰極および陽極にピン電極対を
近接して設けると、陰極と一方のピン電極の間で放電が
発生し、陰極および陽極の間で主放電が発生しなくなる
という事情があった。
極および陽極が設けられ、これら陰極および陽極の近傍
に予備電離放電を発生するピン電極対が設けられたガス
レーザ発振装置は、上記陰極および陽極にピン電極対を
近接して設けると、陰極と一方のピン電極の間で放電が
発生し、陰極および陽極の間で主放電が発生しなくなる
という事情があった。
この発明は上記事情に着目してなされたものであり、陰
極および陽極からなる主放電電極にピン電極対を近接し
て設けても異常放電を発生することを防止できるガスレ
ーザ発振装置を提供することを目的とする。
極および陽極からなる主放電電極にピン電極対を近接し
て設けても異常放電を発生することを防止できるガスレ
ーザ発振装置を提供することを目的とする。
（３居を解決するための手段及び作用）この発明はレー
ザガス媒質が封入された放電管内に主放電を発生する陰
極および陽極を対峙して設け、これら陰極および陽極に
予備電離放電を発生するピン電極対を設け、上記一対の
ピン電極のうち第１のピーキングコンデンサの一端を上
記陰極に接続し他端をピン電極の一方に接続し、第２の
ピーキングコンデンサの一端を上記陽極に接続し他端を
上記ピン電極の他方に接続したことにより、上記陰極と
ピン電極間の電圧差を従来よりも小さくして、陰極およ
び陽極にピン電極対を近接して設けたことによる異常放
電の発生を防止できるガスレーザ発振装置にある。
ザガス媒質が封入された放電管内に主放電を発生する陰
極および陽極を対峙して設け、これら陰極および陽極に
予備電離放電を発生するピン電極対を設け、上記一対の
ピン電極のうち第１のピーキングコンデンサの一端を上
記陰極に接続し他端をピン電極の一方に接続し、第２の
ピーキングコンデンサの一端を上記陽極に接続し他端を
上記ピン電極の他方に接続したことにより、上記陰極と
ピン電極間の電圧差を従来よりも小さくして、陰極およ
び陽極にピン電極対を近接して設けたことによる異常放
電の発生を防止できるガスレーザ発振装置にある。
（実施例）
この発明における一実施例を第１図および第２図を参照
して説明する。図中に示される放電管１には所定圧力で
レーザガス媒質としてのＣＯ２−Ｎ２−Ｈｅ混合ガスあ
るいはＸｅ−ＭＣｌ−Ｈｅの混合ガス等が封入されてい
る。
して説明する。図中に示される放電管１には所定圧力で
レーザガス媒質としてのＣＯ２−Ｎ２−Ｈｅ混合ガスあ
るいはＸｅ−ＭＣｌ−Ｈｅの混合ガス等が封入されてい
る。
そして、この放電管１の長手方向には主放電を発生する
陰極２と陽極３とが所定距離離されて対向されている。
陰極２と陽極３とが所定距離離されて対向されている。
この陰極２および陽極３はそれぞれ対向された支持板体
４．５の対向面に支持されており、これら陰極２および
陽極３の近傍の長手方向側部には複数対のピン電極６・
・・、７・・・がそれぞれ配設されている。このうち上
記陰極２側に設けられたピン電極６・・・は上記支持板
体４を厚さ方向に貫通し絶縁された状態に設けられてお
り、この支持板体４の上側に突出°されたピン電極６・
・・の先端には第１のピーキングコンデンサ８・・・が
設けられている。そしてこの第１のピーキングコンデン
サ８・・・には、上記陰極２から延出された配線および
高電圧電源９とが接続されている。
４．５の対向面に支持されており、これら陰極２および
陽極３の近傍の長手方向側部には複数対のピン電極６・
・・、７・・・がそれぞれ配設されている。このうち上
記陰極２側に設けられたピン電極６・・・は上記支持板
体４を厚さ方向に貫通し絶縁された状態に設けられてお
り、この支持板体４の上側に突出°されたピン電極６・
・・の先端には第１のピーキングコンデンサ８・・・が
設けられている。そしてこの第１のピーキングコンデン
サ８・・・には、上記陰極２から延出された配線および
高電圧電源９とが接続されている。
また、これら陰極２側のピン電極６・・・に対向される
上記陽極３側の支持板体５には陽極３側のピン電極７・
・・が配設されている。これらピン電極７・・・の基端
は上記支持板体５を貫通した状態で配設され、先端は上
記陰極２側のピン電極６・・・の先端に所定の隙間をも
って対向されている。
上記陽極３側の支持板体５には陽極３側のピン電極７・
・・が配設されている。これらピン電極７・・・の基端
は上記支持板体５を貫通した状態で配設され、先端は上
記陰極２側のピン電極６・・・の先端に所定の隙間をも
って対向されている。
そして、上記ピン電極７・・・の基端部には上記第１の
ピーキングコンデンサ８・・・と同一の容量をもつ第２
のピーキングコンデンサ１２・・・の一端が接続されて
いる。そして、この第２のピーキングコンデンサ１２・
・・の他端側は高電圧電源９に接続されており、また、
その中途部から延出された配線は上記陽極３に支持板体
５を貫通した状態で接続されている。また、高電圧電源
９と陽極３とを接続する配線の中途部はアースされてい
る。
ピーキングコンデンサ８・・・と同一の容量をもつ第２
のピーキングコンデンサ１２・・・の一端が接続されて
いる。そして、この第２のピーキングコンデンサ１２・
・・の他端側は高電圧電源９に接続されており、また、
その中途部から延出された配線は上記陽極３に支持板体
５を貫通した状態で接続されている。また、高電圧電源
９と陽極３とを接続する配線の中途部はアースされてい
る。
そして、上記放電管１の内側にはレーザガス媒質を冷却
する熱交換器１０および放電管１内のレーザガス媒質を
循環するファン１１とが設けられている。
する熱交換器１０および放電管１内のレーザガス媒質を
循環するファン１１とが設けられている。
また、上記陰極２および陽極３の縁部とピン電極６・・
・、７・・・との距離は寸法Ｃで示されており、この寸
法Ｃは第４図中に示された寸法ａの１／２以下にできる
。ＵＶ光の発光源としてのピン電極６・・・、７・・・
からの距離「とその点に発生する電子密度ｎ （ｒ）と
の関係は ｎ （ｒ）＝ＮＯｅｘｐ （−ａｒｐ＞ ／ｒ２・・・
・・・（１） で表わされる。ここで、Ｎｌ）：光源で発生される電子
の密度、α：光の吸収係数、ｐ：レーザガス圧である。
・、７・・・との距離は寸法Ｃで示されており、この寸
法Ｃは第４図中に示された寸法ａの１／２以下にできる
。ＵＶ光の発光源としてのピン電極６・・・、７・・・
からの距離「とその点に発生する電子密度ｎ （ｒ）と
の関係は ｎ （ｒ）＝ＮＯｅｘｐ （−ａｒｐ＞ ／ｒ２・・・
・・・（１） で表わされる。ここで、Ｎｌ）：光源で発生される電子
の密度、α：光の吸収係数、ｐ：レーザガス圧である。
上述の如くこの考案によるガスレーザ発振装置は、主電
極２．３とピン電極６・・・、７・・・との距離Ｃが従
来構造のものａに比較して Ｃ≦ａ ／ ２となるため
、発生される電子密度は（１）の式に従えば、従来装置
の６．５倍以上となり、従来に比較して著しく強い予備
電離を行なうことができる。
極２．３とピン電極６・・・、７・・・との距離Ｃが従
来構造のものａに比較して Ｃ≦ａ ／ ２となるため
、発生される電子密度は（１）の式に従えば、従来装置
の６．５倍以上となり、従来に比較して著しく強い予備
電離を行なうことができる。
また、レーザ装置を１秒間１００〜２００回で繰返し動
作させる場合の最大繰返し数は通常第２図中に示される
幅ｄで決まる。つまり、次の放電が起きるまでにこの間
のレーザガスを放出して新たなレーザガスと入替えるこ
とが必要であり、この実施例における装置ではこの幅ｄ
が従来装置のａｂの２／３程度にできるので、同一のフ
ァン１を使用しても最大繰返し数は従来の１．５倍程度
に上げることができる。
作させる場合の最大繰返し数は通常第２図中に示される
幅ｄで決まる。つまり、次の放電が起きるまでにこの間
のレーザガスを放出して新たなレーザガスと入替えるこ
とが必要であり、この実施例における装置ではこの幅ｄ
が従来装置のａｂの２／３程度にできるので、同一のフ
ァン１を使用しても最大繰返し数は従来の１．５倍程度
に上げることができる。
このように構成されたガスレーザ発振装置は、レーザ光
を発振する際に次のような工程を経て発振される。まず
、高電圧電源９により上記陰極２と陽極３とに高電圧が
印加される。この高電圧の印加により上記第１および第
２のピーキングコンデンサ８・・・、１２・・・が充電
され、これら第１および第２のピーキングコンデンサ８
・・・、１２・・・の容量を越えると上記ピン電極６・
・・、７・・・の間で予備電離放電が発生される。
を発振する際に次のような工程を経て発振される。まず
、高電圧電源９により上記陰極２と陽極３とに高電圧が
印加される。この高電圧の印加により上記第１および第
２のピーキングコンデンサ８・・・、１２・・・が充電
され、これら第１および第２のピーキングコンデンサ８
・・・、１２・・・の容量を越えると上記ピン電極６・
・・、７・・・の間で予備電離放電が発生される。
ここで、ピーキングコンデンサ８・・・、１２・・・は
高圧側とアース側との間に直列に接続されているため、
ピン電極６・・・、７・・・の間の電位差は従来構造の
１／２となり、陰極２とピン電極対６・・・、７・・・
との間の電位差も従来構造のものの１／２となる。
高圧側とアース側との間に直列に接続されているため、
ピン電極６・・・、７・・・の間の電位差は従来構造の
１／２となり、陰極２とピン電極対６・・・、７・・・
との間の電位差も従来構造のものの１／２となる。
上述の如く予備電離放電が発生されることによってＵＶ
光（紫外線）が発光され、このＵＶ光が上記陰極２およ
び陽極３の間に主放電を引起こす。
光（紫外線）が発光され、このＵＶ光が上記陰極２およ
び陽極３の間に主放電を引起こす。
こうして発生された陰極２と陽極３との間の主放電によ
り上記レーザガス媒質が励起され、レーザ光が発光され
る。上記ガスレーザ発振装置はこのようにしてレーザ光
の発光工程を繰返すように構成されており、発光された
レーザ光は放電管１を挟んで対峙する図示しない一対の
共振器ミラー間で連続的に反射を繰返し、出力を増大す
るようになっている。上述のように構成されることによ
り異常放電の発生を防止し、従来構造に比較して高繰返
しができ品質が高く出力の大きなレーザ光を発振するこ
とができる。
り上記レーザガス媒質が励起され、レーザ光が発光され
る。上記ガスレーザ発振装置はこのようにしてレーザ光
の発光工程を繰返すように構成されており、発光された
レーザ光は放電管１を挟んで対峙する図示しない一対の
共振器ミラー間で連続的に反射を繰返し、出力を増大す
るようになっている。上述のように構成されることによ
り異常放電の発生を防止し、従来構造に比較して高繰返
しができ品質が高く出力の大きなレーザ光を発振するこ
とができる。
なお、この発明は上記一実施例に限定されるものではな
い。例えば第１のピーキングコンデンサ８・・・と第２
のピーキングコンデンサ１２・・・との容量を同一にし
ているが、これに限定されず、異なる容量のものでもよ
い。この場合コンデンサの容量比と分圧比は反比例する
ので、第１のピーキングコンデンサ８・・・の容量を大
きくすると陽極３側のピン電極７・・・と陽極３との間
で異常放電を発生しやすくなり、また、第２のピーキン
グコンデンサ１２・・・の容量を大きくすると陰極２側
のピン電極６・・・と陰極２との間で異常放電を発生し
やすくなる。したがって第１のピーキングコンデンサ８
・・・と第２のピーキングコンデンサ１２・・・の容量
を同じにしたときより、ピン電極６・・・、７・・・と
陰極２、陽極３との距離Ｃを大きくする必要がある。
い。例えば第１のピーキングコンデンサ８・・・と第２
のピーキングコンデンサ１２・・・との容量を同一にし
ているが、これに限定されず、異なる容量のものでもよ
い。この場合コンデンサの容量比と分圧比は反比例する
ので、第１のピーキングコンデンサ８・・・の容量を大
きくすると陽極３側のピン電極７・・・と陽極３との間
で異常放電を発生しやすくなり、また、第２のピーキン
グコンデンサ１２・・・の容量を大きくすると陰極２側
のピン電極６・・・と陰極２との間で異常放電を発生し
やすくなる。したがって第１のピーキングコンデンサ８
・・・と第２のピーキングコンデンサ１２・・・の容量
を同じにしたときより、ピン電極６・・・、７・・・と
陰極２、陽極３との距離Ｃを大きくする必要がある。
しかしながら、分圧された分だけ従来構造より距離Ｃを
小さくすることができる。
小さくすることができる。
以上説明したように、この発明によれば陰極および陽極
によって形成された主電極近傍に設けられたピン電極対
の基端側に第１および第２のピーキングコンデンサをそ
れぞれ設けることにより、従来構造に比較してピン電極
間の電位差を小さくし、且つ主電極とピン電極間の電位
差も小さくでき、これにより、主電極とピン電極の間の
距離を小さくすることができ品質が高く出力の大きなレ
ーザ光を発振できるガスレーザ発振装置を提供できる。
によって形成された主電極近傍に設けられたピン電極対
の基端側に第１および第２のピーキングコンデンサをそ
れぞれ設けることにより、従来構造に比較してピン電極
間の電位差を小さくし、且つ主電極とピン電極間の電位
差も小さくでき、これにより、主電極とピン電極の間の
距離を小さくすることができ品質が高く出力の大きなレ
ーザ光を発振できるガスレーザ発振装置を提供できる。
第１図゛および第２図はこの発明における一実施例であ
り、第１図はガスレーザ発振装置の正断面図、第２図は
要部の正断面図、第３図および第４図は従来例であり、
第３図はガスレーザ発振装置の正断面図、第４図は要部
の正断面図である。 １・・・放電管、２・・・陰極、３・・・陽極、６・・
・、７・・・ピン電極、８・・・第１のピーキングコン
デンサ、１２・・・第２のピーキングコンデンサ。 出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦第１図 第２図
り、第１図はガスレーザ発振装置の正断面図、第２図は
要部の正断面図、第３図および第４図は従来例であり、
第３図はガスレーザ発振装置の正断面図、第４図は要部
の正断面図である。 １・・・放電管、２・・・陰極、３・・・陽極、６・・
・、７・・・ピン電極、８・・・第１のピーキングコン
デンサ、１２・・・第２のピーキングコンデンサ。 出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦第１図 第２図
Claims (1)
- レーザガス媒質が所定圧力で封入された放電管と、こ
の放電管内に対峙して設けられ主放電を発生する陰極お
よび陽極と、これら陰極および陽極の近傍に設けられ予
備電離放電を発生する複数のピン電極対とを具備するガ
スレーザ発振装置において、一端を上記陰極に接続し他
端を上記ピン電極の一方に接続した第１のピーキングコ
ンデンサと、一端を上記陽極に接続し他端を上記ピン電
極の他方に接続した第２のピーキングコンデンサとを備
えたことを特徴とするガスレーザ発振装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1721788A JPH01194374A (ja) | 1988-01-29 | 1988-01-29 | ガスレーザ発振装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1721788A JPH01194374A (ja) | 1988-01-29 | 1988-01-29 | ガスレーザ発振装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01194374A true JPH01194374A (ja) | 1989-08-04 |
Family
ID=11937773
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1721788A Pending JPH01194374A (ja) | 1988-01-29 | 1988-01-29 | ガスレーザ発振装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01194374A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2801686A1 (fr) * | 1999-11-19 | 2001-06-01 | Ddi Corp | Processeur de signal optique |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS622678A (ja) * | 1985-06-28 | 1987-01-08 | Toshiba Corp | ガスレ−ザ発振装置 |
| JPS6317579A (ja) * | 1986-07-10 | 1988-01-25 | Nikon Corp | エキシマレ−ザ装置 |
-
1988
- 1988-01-29 JP JP1721788A patent/JPH01194374A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS622678A (ja) * | 1985-06-28 | 1987-01-08 | Toshiba Corp | ガスレ−ザ発振装置 |
| JPS6317579A (ja) * | 1986-07-10 | 1988-01-25 | Nikon Corp | エキシマレ−ザ装置 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2801686A1 (fr) * | 1999-11-19 | 2001-06-01 | Ddi Corp | Processeur de signal optique |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5875207A (en) | Discharge arrangement for pulsed gas lasers | |
| US4143337A (en) | Method of pumping | |
| US3986139A (en) | Radioactively preionized electrical discharge laser | |
| US4412333A (en) | Three-electrode low pressure discharge apparatus and method for uniform ionization of gaseous media | |
| US3935547A (en) | High pressure gas laser using uniform field electrode configuration with irradiation by corona discharge | |
| JP2592821B2 (ja) | ガスレーザ装置 | |
| JP2772147B2 (ja) | パルスレーザ電極 | |
| JPS62243379A (ja) | 気体パルス・レ−ザ装置 | |
| JP2734191B2 (ja) | レーザ装置 | |
| JP2685930B2 (ja) | ガスレーザ装置 | |
| JP2666149B2 (ja) | 放電励起ガスレーザ装置の紫外線予備電離電極 | |
| JP2680441B2 (ja) | ガスレーザ装置 | |
| JPS63241972A (ja) | ガスレ−ザ装置 | |
| JPH0730177A (ja) | パルスレーザ発振装置 | |
| JP3432854B2 (ja) | パルスガスレーザ発振装置 | |
| JPS61201489A (ja) | ガスレ−ザ発振装置 | |
| JPH0528514B2 (ja) | ||
| JPH01241880A (ja) | レーザ装置 | |
| JPS63228776A (ja) | ガスレ−ザ装置 | |
| JP3190084B2 (ja) | ガスレーザ装置 | |
| McLellan | Three-electrode low pressure discharge apparatus and method for uniform ionization of gaseous media | |
| JPS622678A (ja) | ガスレ−ザ発振装置 | |
| JPH0196974A (ja) | ガスレーザ発振装置 | |
| Ren et al. | New kind of efficient preionic long life time TEA CO2 laser | |
| JPH07162061A (ja) | ガスレ−ザ装置 |