JPH01194936A - 反応装置 - Google Patents
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- JPH01194936A JPH01194936A JP63305131A JP30513188A JPH01194936A JP H01194936 A JPH01194936 A JP H01194936A JP 63305131 A JP63305131 A JP 63305131A JP 30513188 A JP30513188 A JP 30513188A JP H01194936 A JPH01194936 A JP H01194936A
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
- B01J8/08—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with moving particles
- B01J8/085—Feeding reactive fluids
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
- B01J8/08—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with moving particles
- B01J8/12—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with moving particles moved by gravity in a downward flow
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
- C10G—CRACKING HYDROCARBON OILS; PRODUCTION OF LIQUID HYDROCARBON MIXTURES, e.g. BY DESTRUCTIVE HYDROGENATION, OLIGOMERISATION, POLYMERISATION; RECOVERY OF HYDROCARBON OILS FROM OIL-SHALE, OIL-SAND, OR GASES; REFINING MIXTURES MAINLY CONSISTING OF HYDROCARBONS; REFORMING OF NAPHTHA; MINERAL WAXES
- C10G49/00—Treatment of hydrocarbon oils, in the presence of hydrogen or hydrogen-generating compounds, not provided for in a single one of groups C10G45/02, C10G45/32, C10G45/44, C10G45/58 or C10G47/00
- C10G49/10—Treatment of hydrocarbon oils, in the presence of hydrogen or hydrogen-generating compounds, not provided for in a single one of groups C10G45/02, C10G45/32, C10G45/44, C10G45/58 or C10G47/00 with moving solid particles
- C10G49/14—Treatment of hydrocarbon oils, in the presence of hydrogen or hydrogen-generating compounds, not provided for in a single one of groups C10G45/02, C10G45/32, C10G45/44, C10G45/58 or C10G47/00 with moving solid particles according to the "moving-bed" technique
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Devices And Processes Conducted In The Presence Of Fluids And Solid Particles (AREA)
- Production Of Liquid Hydrocarbon Mixture For Refining Petroleum (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本願発明は流体装入物の接触処理（または水素化処理）
装置、さらに詳しくは下記に示すような、固定層または
流動層において炭化水素類の脱金属、脱硫、水素化処理
および転化または水素化転化用の装置に関するものであ
る。
装置、さらに詳しくは下記に示すような、固定層または
流動層において炭化水素類の脱金属、脱硫、水素化処理
および転化または水素化転化用の装置に関するものであ
る。
従来技術およびその問題点
本発明は特に、例えば、重質原油の蒸留品や炭化水素類
の大気圧蒸留や真空蒸留の残渣のような液状装入物゛の
接触処理に応用できるが、これら各処理は一般には水素
および／または、水素リッチな混合ガスの存在において
、固形触媒層上で実施され、この触媒は粒子状で使用さ
れる（押出し触媒、各種形状の粒、球等）。
の大気圧蒸留や真空蒸留の残渣のような液状装入物゛の
接触処理に応用できるが、これら各処理は一般には水素
および／または、水素リッチな混合ガスの存在において
、固形触媒層上で実施され、この触媒は粒子状で使用さ
れる（押出し触媒、各種形状の粒、球等）。
このような接触処理の際、触媒毒の存在や、コークスの
形成や、或種の金属の沈積その他による、在住にして急
速な触媒の不活性化が認められる。
形成や、或種の金属の沈積その他による、在住にして急
速な触媒の不活性化が認められる。
この不活性化のために、触媒層は全部または一部を、頻
繁に取替える必要がある。
繁に取替える必要がある。
本発明の装置においては、反応器外への触媒の排出が漸
進的に行なわれる。この“漸進的゛という用語の意味は
、触媒を、 ・定期的に、例えば、１０日に１／１０あるいはそれ以
上の頻度で排出し、−度に触媒全量の一部しか、例えば
０，５〜１５％しか排出しないでよいことである。必要
であればさらに多くの触媒を排出ることができ、例えば
触媒の全量の１００％まで、すなわち触媒全部を排出る
ことができる。
進的に行なわれる。この“漸進的゛という用語の意味は
、触媒を、 ・定期的に、例えば、１０日に１／１０あるいはそれ以
上の頻度で排出し、−度に触媒全量の一部しか、例えば
０，５〜１５％しか排出しないでよいことである。必要
であればさらに多くの触媒を排出ることができ、例えば
触媒の全量の１００％まで、すなわち触媒全部を排出る
ことができる。
触媒の排出の頻度はもっと迅速にすることもでき（例え
ば分程度または秒程度）、排出量はそれに応じて減らす
。
ば分程度または秒程度）、排出量はそれに応じて減らす
。
・または連続的に排出ることである。
新鮮な触媒は反応器の上部に装入されるが、反応器の下
から上へ流れる混合流体としての、装入物と水素の全体
の注入装置が本発明の対象である。
から上へ流れる混合流体としての、装入物と水素の全体
の注入装置が本発明の対象である。
従って、本発明による各装置は、クラッキング、水素化
クラッキング、水素化リフォーミング、芳香族炭化水素
の製造、パラフィン、ナフテン系または芳香族系の炭化
水素の異性化、水添、水素化処理、脱水素、アルキル化
、トランスアルキル化、水素化脱環化、水素化脱アルキ
ル化の各反応、水素化ビスブレーキング等の処理用の反
応器で、これに注入される装入物および／またはガスが
下から上へ流れるような装置の触媒粒子と接触せねばな
らない装入物の注入に便利である。
クラッキング、水素化リフォーミング、芳香族炭化水素
の製造、パラフィン、ナフテン系または芳香族系の炭化
水素の異性化、水添、水素化処理、脱水素、アルキル化
、トランスアルキル化、水素化脱環化、水素化脱アルキ
ル化の各反応、水素化ビスブレーキング等の処理用の反
応器で、これに注入される装入物および／またはガスが
下から上へ流れるような装置の触媒粒子と接触せねばな
らない装入物の注入に便利である。
一般的には液体とガスの混合・物である流体装入物は、
触媒粒子の入った反応器または閉鎖容器へ、その反応器
または閉鎖容器の下部にある分配装置によって導入され
、かつ、触媒とは向流に下から上に流通され（“１１１
）−ｆ’ｌｏｖ”）、その処理後、反応器（すなわち本
発明のため勝手に“反応器″と称している閉鎖容器）の
上部へ排出される。重力による触媒の流れは、触媒層の
整然たる降下を保証し、一方では流体装入物の上昇流通
によって特に、滞留時間の調節が自由になり、層の排出
の制御が保証される。
触媒粒子の入った反応器または閉鎖容器へ、その反応器
または閉鎖容器の下部にある分配装置によって導入され
、かつ、触媒とは向流に下から上に流通され（“１１１
）−ｆ’ｌｏｖ”）、その処理後、反応器（すなわち本
発明のため勝手に“反応器″と称している閉鎖容器）の
上部へ排出される。重力による触媒の流れは、触媒層の
整然たる降下を保証し、一方では流体装入物の上昇流通
によって特に、滞留時間の調節が自由になり、層の排出
の制御が保証される。
さらに、装入物と触媒の向流流通によって、強力な接触
転化を行なうことができる。これは反応器の頂部に導入
される新鮮な触媒がほとんど転化した装入物（本質的に
転化が困難な化合物を含む）を処理し、一方、反応器の
底部では消耗した。触媒が新しい装入物（転化し易い化
合物が多い）を処理するが、このことによって転化の第
一段階が効果的に実施される。その結果、反応器中で触
媒が組織的に利用されることになり、触媒層の熱輪郭は
並流型の流通の場合よりもより整然となり、しかも、特
に反応器の底部では、温度はより控えめとなり、触媒の
コークス化の危険が少なくなる。
転化を行なうことができる。これは反応器の頂部に導入
される新鮮な触媒がほとんど転化した装入物（本質的に
転化が困難な化合物を含む）を処理し、一方、反応器の
底部では消耗した。触媒が新しい装入物（転化し易い化
合物が多い）を処理するが、このことによって転化の第
一段階が効果的に実施される。その結果、反応器中で触
媒が組織的に利用されることになり、触媒層の熱輪郭は
並流型の流通の場合よりもより整然となり、しかも、特
に反応器の底部では、温度はより控えめとなり、触媒の
コークス化の危険が少なくなる。
流動層における接触転化法は米国特許ＵＳ−Ａ３，８２
６，７３７によって公知である。しかしこの方法は、さ
らに詳しくは触媒と流体装入物の並流流通に適しており
、液体装入物は反応器の底部において触媒排出円錐の底
部に配置してあってかつ煤層を支えている円筒状格子を
通過して排出される。
６，７３７によって公知である。しかしこの方法は、さ
らに詳しくは触媒と流体装入物の並流流通に適しており
、液体装入物は反応器の底部において触媒排出円錐の底
部に配置してあってかつ煤層を支えている円筒状格子を
通過して排出される。
このような方法には反応器の底部を通って排出される液
体装入物によって、格子に対して押しつけられる触媒粒
による格子のクリンカー形成の危険があるという欠点が
ある。そうすれば、結果的には、触媒内の流体の分布が
不規則となり、触媒層の流れが困難となり、この層の或
ゾーンが閉塞するおそれ、ならびに触媒層に阻止された
粒子と自由粒子の間、および触媒の自由粒子と液体装入
物の排出格子の間の摩擦により触媒の侵食が増大するこ
とになるおそれがある。
体装入物によって、格子に対して押しつけられる触媒粒
による格子のクリンカー形成の危険があるという欠点が
ある。そうすれば、結果的には、触媒内の流体の分布が
不規則となり、触媒層の流れが困難となり、この層の或
ゾーンが閉塞するおそれ、ならびに触媒層に阻止された
粒子と自由粒子の間、および触媒の自由粒子と液体装入
物の排出格子の間の摩擦により触媒の侵食が増大するこ
とになるおそれがある。
上記の欠点を克服するために、本出願人による米国特許
ＵＳ−Ａ４，５７１．３２６は、ここでは本発明には一
致しないが、第１図と第２図に例示した２つの装置を提
案した。この技法は触媒層を支える壁の下に液体とガス
を注入し、しかも適当な装置によってガス・液体分布を
保証することにある。
ＵＳ−Ａ４，５７１．３２６は、ここでは本発明には一
致しないが、第１図と第２図に例示した２つの装置を提
案した。この技法は触媒層を支える壁の下に液体とガス
を注入し、しかも適当な装置によってガス・液体分布を
保証することにある。
さらに詳しくは、この成果は下記の空間内へ液体とガス
（一般には水素）で構成された流体装入物を装入するた
めの或方法（一般には閉じた空間の粉砕した固体粒子の
漸進的排出による）によって得られたものであり、一般
に閉ざされた該空間は、かなり長くて本質的に垂直な回
転体形状を呈し、これら固体粒子は閉鎖容器の上部へ装
入され、該閉鎖容器内を上から下へ流された後閉鎖容器
の下部で漸進的に排出され、−方、流体装入物は少なく
とも一部かつ一般的には連続的に該閉鎖容器の下部へ装
入され、そして、該閉鎖容器内を下から上へ流れた後、
その上部で排出され、この方法では固体粒子が反応器の
形状に従属した形をし、かつ、一般に逆円錐形、または
逆角錐形、すなわち頂点が下向ぎの円錐形または角錐形
で、その頂点に固体粒子υト出に適する多きさの孔が開
けられた少なくとも一つの先広がりゾーンの下端を通っ
て漸進的に排出され、該先広がりゾーンの壁は概ね整然
と断続しており、すなわち、少なくとも数ケの開口部が
等間隔に分配されており、それらの各孔の寸法は十分に
小さくて固体粒子が前記壁がらこぼれないようになって
いるが、十分に大きくて流体装入物の上昇流はこれらの
開口部を通過できるようになっている。この方法の特徴
とする点は、流体装入物が、特殊な形の、該壁の下にあ
る少なくとも一つの分配ゾーンを通って該閉鎖容器の下
部へ注入されることにある。
（一般には水素）で構成された流体装入物を装入するた
めの或方法（一般には閉じた空間の粉砕した固体粒子の
漸進的排出による）によって得られたものであり、一般
に閉ざされた該空間は、かなり長くて本質的に垂直な回
転体形状を呈し、これら固体粒子は閉鎖容器の上部へ装
入され、該閉鎖容器内を上から下へ流された後閉鎖容器
の下部で漸進的に排出され、−方、流体装入物は少なく
とも一部かつ一般的には連続的に該閉鎖容器の下部へ装
入され、そして、該閉鎖容器内を下から上へ流れた後、
その上部で排出され、この方法では固体粒子が反応器の
形状に従属した形をし、かつ、一般に逆円錐形、または
逆角錐形、すなわち頂点が下向ぎの円錐形または角錐形
で、その頂点に固体粒子υト出に適する多きさの孔が開
けられた少なくとも一つの先広がりゾーンの下端を通っ
て漸進的に排出され、該先広がりゾーンの壁は概ね整然
と断続しており、すなわち、少なくとも数ケの開口部が
等間隔に分配されており、それらの各孔の寸法は十分に
小さくて固体粒子が前記壁がらこぼれないようになって
いるが、十分に大きくて流体装入物の上昇流はこれらの
開口部を通過できるようになっている。この方法の特徴
とする点は、流体装入物が、特殊な形の、該壁の下にあ
る少なくとも一つの分配ゾーンを通って該閉鎖容器の下
部へ注入されることにある。
第１図に示す第１の機構の技法は（本発明には一致しな
い第１図と第２図の参照番号は米国特許第４，５７１，
３２６号の第６図と第７図に示されたもので、理解を助
けるためのものである）、反応器（１）内で、触媒層（
触媒の排出は管（４）による）を支える格子（５）と管
（７）との間に、略図的に円板によって示した装入物の
分配ゾーン（８）を配置することにあった。孔（２０）
が十分に小さくて流体（分配ゾーン（８）により装入）
の大部分を通過させることができない補助格子（１４）
は、かくて流体のガス相の大部分しか通過させえない。
い第１図と第２図の参照番号は米国特許第４，５７１，
３２６号の第６図と第７図に示されたもので、理解を助
けるためのものである）、反応器（１）内で、触媒層（
触媒の排出は管（４）による）を支える格子（５）と管
（７）との間に、略図的に円板によって示した装入物の
分配ゾーン（８）を配置することにあった。孔（２０）
が十分に小さくて流体（分配ゾーン（８）により装入）
の大部分を通過させることができない補助格子（１４）
は、かくて流体のガス相の大部分しか通過させえない。
連続的な（すなわち、穿孔もなく透かし細工にともなっ
ていない）かつ本質的に垂直な、例えば煙突状の壁また
は障壁（１５）が、一般的には補助格子（１４）の下に
整然と、この格子に支持されて配置され（そしてその下
端は反応器の十分下の方にかつ一般には分配ゾーン（８
）の水準よりは高い位置にある）、シたがって、部屋（
Ｉ８）と煙突（１９）を区画している。
ていない）かつ本質的に垂直な、例えば煙突状の壁また
は障壁（１５）が、一般的には補助格子（１４）の下に
整然と、この格子に支持されて配置され（そしてその下
端は反応器の十分下の方にかつ一般には分配ゾーン（８
）の水準よりは高い位置にある）、シたがって、部屋（
Ｉ８）と煙突（１９）を区画している。
すなわち、流体のガス部分は大部分（矢印（１７））、
貯溜と気液分離のためのゾーン（２２）を通過した後、
部屋（Ｉ８）とオリフィス（２０）を経て、格子（５）
に至る。プレートまたはじゃま板（２１）が煙突（Ｊ９
）の下端の下（かつ、分配ゾーンの水準の上）に配置さ
れていて、分配ゾーン（８）によって注入されかつその
注入進路を矢印（１３）で示す混合流体が部屋（１８）
に溜まり、ゾーン（２２）に液とガスの混合物を作り、
液体の大部分は煙突（１９）を通って吸い込まれるよう
になっている（その経路は矢印（１６）で示す）。した
がって上記の装置は流体装入物の混合と分配の役目を果
たす。
貯溜と気液分離のためのゾーン（２２）を通過した後、
部屋（Ｉ８）とオリフィス（２０）を経て、格子（５）
に至る。プレートまたはじゃま板（２１）が煙突（Ｊ９
）の下端の下（かつ、分配ゾーンの水準の上）に配置さ
れていて、分配ゾーン（８）によって注入されかつその
注入進路を矢印（１３）で示す混合流体が部屋（１８）
に溜まり、ゾーン（２２）に液とガスの混合物を作り、
液体の大部分は煙突（１９）を通って吸い込まれるよう
になっている（その経路は矢印（１６）で示す）。した
がって上記の装置は流体装入物の混合と分配の役目を果
たす。
第１図の機構はこの米国特許第４．５７ｉ。
３２６号ではさらに改良することができた。実際、進路
を矢印（１７）で示したガスは、一つまたは１夏数の漏
斗の壁と反応器（１）の壁によって区画される角度（β
）の方向に向きかつ溜められる傾向があることが注目さ
れた。漏斗の上部の下のガスの移動を防止し、したがっ
て、層の全部分へのガスと液体の分布を改善するために
、ガス相を（該空間の上部のオリフィス付近で）連通し
ていない並行なかつ本質的に垂直か斜めか或いは部分的
に垂直で部分的に斜めの複数の長いゾーンを通して流さ
せる。このためガス状粒子は１本または数本の漏斗の下
で、必然的に、一つの制御された流れを利用することに
なる。
を矢印（１７）で示したガスは、一つまたは１夏数の漏
斗の壁と反応器（１）の壁によって区画される角度（β
）の方向に向きかつ溜められる傾向があることが注目さ
れた。漏斗の上部の下のガスの移動を防止し、したがっ
て、層の全部分へのガスと液体の分布を改善するために
、ガス相を（該空間の上部のオリフィス付近で）連通し
ていない並行なかつ本質的に垂直か斜めか或いは部分的
に垂直で部分的に斜めの複数の長いゾーンを通して流さ
せる。このためガス状粒子は１本または数本の漏斗の下
で、必然的に、一つの制御された流れを利用することに
なる。
第２図に示すのはこの改善である。すなわち、ここには
第１図の付属品がすべて見られ、さらにここには垂直な
障壁（２３）で仕切られた複数の垂直な長いゾーンが示
された。第２図の右部分で、これらの障壁（２３）の下
端はすべて同じ水準にあり、これらの端末は第２図の左
部分では異なった水準にある。それらの障壁（２３）の
長さとそれらの水準を主として左右するものは、分配ゾ
ーンの形状である。
第１図の付属品がすべて見られ、さらにここには垂直な
障壁（２３）で仕切られた複数の垂直な長いゾーンが示
された。第２図の右部分で、これらの障壁（２３）の下
端はすべて同じ水準にあり、これらの端末は第２図の左
部分では異なった水準にある。それらの障壁（２３）の
長さとそれらの水準を主として左右するものは、分配ゾ
ーンの形状である。
問題点の解決手段
本発明による注入装置（第３図参照）は、・本質的に垂
直でかつかなり長い円筒状のｎニをなす反応器（１）、 ・反応器の上部における固体粒子半導体手段（２）、 ・反応器の下部における固体粒子の排出手段であって、
本質的に垂直の少なくとも１つの管（４）から本質的に
構成されたもの、・反応器の下部に配置されかつ頂点を
下に向けて上記固体粒子を支える少なくとも１つの漏斗
または先広がりゾーン（２５）であって、これは上記管
（４）と少なくとも２つの管（２４）とを貫通せしめる
ように穿孔され、上記管（２４）は少なくとも１つの流
体装入物の注入機構の一部をなし、該注入機構は後で定
義されるものであり、 ・反応器の下端部における、漏斗または先広がりゾーン
（２５）の下方への、液体およびガスからなる上記流体
装入物半導入装置（７） （８）、・反応器の上部にお
ｉする反応性流出物の排出手段（１１）を備えた注入装
置であって、該注入装置は、装入物の注入機構が少なく
とも１つ存在すること、該注入装置における該注入機構
の数が少なくとも２であり、各注入機構が下記のものを
具備することを特徴とし： ・漏斗または先広がりゾーン（２５）を貫通する本質的
に垂直の少なくとも１つの脚または管（２４）であって
、下端部が該漏斗または先広がリゾーン（２５）もしく
はその壁の下方（かつ装入物半導体装置（７） （８）
の上方）に配置され、また上端部が該漏斗または先広が
りゾーン（２５）の上方にかつこれに比較的近接して配
置され、 ・管（２４）の上端部を覆うキャップ（２６）であって
、該キャップ（２６）の底縁が、該底縁の周りの大部分
に配置された複数の切欠き部または一連の切欠き部を備
えている、 反応器への炭化水素装入物の注入装置である。
直でかつかなり長い円筒状のｎニをなす反応器（１）、 ・反応器の上部における固体粒子半導体手段（２）、 ・反応器の下部における固体粒子の排出手段であって、
本質的に垂直の少なくとも１つの管（４）から本質的に
構成されたもの、・反応器の下部に配置されかつ頂点を
下に向けて上記固体粒子を支える少なくとも１つの漏斗
または先広がりゾーン（２５）であって、これは上記管
（４）と少なくとも２つの管（２４）とを貫通せしめる
ように穿孔され、上記管（２４）は少なくとも１つの流
体装入物の注入機構の一部をなし、該注入機構は後で定
義されるものであり、 ・反応器の下端部における、漏斗または先広がりゾーン
（２５）の下方への、液体およびガスからなる上記流体
装入物半導入装置（７） （８）、・反応器の上部にお
ｉする反応性流出物の排出手段（１１）を備えた注入装
置であって、該注入装置は、装入物の注入機構が少なく
とも１つ存在すること、該注入装置における該注入機構
の数が少なくとも２であり、各注入機構が下記のものを
具備することを特徴とし： ・漏斗または先広がりゾーン（２５）を貫通する本質的
に垂直の少なくとも１つの脚または管（２４）であって
、下端部が該漏斗または先広がリゾーン（２５）もしく
はその壁の下方（かつ装入物半導体装置（７） （８）
の上方）に配置され、また上端部が該漏斗または先広が
りゾーン（２５）の上方にかつこれに比較的近接して配
置され、 ・管（２４）の上端部を覆うキャップ（２６）であって
、該キャップ（２６）の底縁が、該底縁の周りの大部分
に配置された複数の切欠き部または一連の切欠き部を備
えている、 反応器への炭化水素装入物の注入装置である。
触媒層における流体の分散をさらに改善し、かつ流量の
大きな範囲で触媒層における分散を常に整然と行ないつ
るために、本発明は触媒を支えている格子の下ではなく
、触媒層自体に注ぐ装入物と使用ガスの新しい同時装入
装置を提案している。この装置の使用における第一の結
果は、触媒を支えるために、もはや格子（在住にして詰
まるおそれがある）ではなく、表面が概ね連続な、つま
り、粒子すなわち触媒粒子を通過させないように十分小
さくはあるが、しかし、装入物またはガスを通過させる
には十分大きなスリットまたは孔のような開口部のない
壁を利用できることである。この壁の唯一の開口部は、
（触媒排出管以外には）装入物とガスの注入または分配
の装置の脚または管を通過せしめるために配置される開
口部である。
大きな範囲で触媒層における分散を常に整然と行ないつ
るために、本発明は触媒を支えている格子の下ではなく
、触媒層自体に注ぐ装入物と使用ガスの新しい同時装入
装置を提案している。この装置の使用における第一の結
果は、触媒を支えるために、もはや格子（在住にして詰
まるおそれがある）ではなく、表面が概ね連続な、つま
り、粒子すなわち触媒粒子を通過させないように十分小
さくはあるが、しかし、装入物またはガスを通過させる
には十分大きなスリットまたは孔のような開口部のない
壁を利用できることである。この壁の唯一の開口部は、
（触媒排出管以外には）装入物とガスの注入または分配
の装置の脚または管を通過せしめるために配置される開
口部である。
実 施 例
本発明においては、（第３図参照）反応器（１）は、そ
の上部に固定または流動触媒層（３）に供給するための
触媒粒子を注ぐ管（２）によって表した新鮮な（新規ま
たは再生の）触媒の漸進的装入手段を有している。
の上部に固定または流動触媒層（３）に供給するための
触媒粒子を注ぐ管（２）によって表した新鮮な（新規ま
たは再生の）触媒の漸進的装入手段を有している。
触媒は、重力によって反応器内へ流れ込み、かつ少なく
とも一つの排出漏斗（２５）を介して、反応器の下部へ
、管（４）を経て漸進的に排出させる。このまたはこれ
らの漏斗は逆転した円錐形または円錐台形、または逆転
した角錐形または角錐台形の形状をした、つまり、頂点
が下の方を向いた円錐形（または円錐台形）または角錐
形（または角錐台形）の形状をした光拡がりゾーンの形
状をしていて、上に示すように、このまたはこれらの漏
斗のこのまたはこれらの壁は概ね連続的で、触媒の排出
管（４）の通過以外は、上に説明した装入物の注入機構
の脚または管（２４）の配置用の開口部しか有しない。
とも一つの排出漏斗（２５）を介して、反応器の下部へ
、管（４）を経て漸進的に排出させる。このまたはこれ
らの漏斗は逆転した円錐形または円錐台形、または逆転
した角錐形または角錐台形の形状をした、つまり、頂点
が下の方を向いた円錐形（または円錐台形）または角錐
形（または角錐台形）の形状をした光拡がりゾーンの形
状をしていて、上に示すように、このまたはこれらの漏
斗のこのまたはこれらの壁は概ね連続的で、触媒の排出
管（４）の通過以外は、上に説明した装入物の注入機構
の脚または管（２４）の配置用の開口部しか有しない。
円錐の軸（または漏斗の形が角錐形であれば角錐の軸）
が円錐の母線（または角錐の稜線の一つ）となす角（α
）は一般には１０〜８０″、好ましくは２０〜５０″、
あるいは３０〜４００の間にある。
が円錐の母線（または角錐の稜線の一つ）となす角（α
）は一般には１０〜８０″、好ましくは２０〜５０″、
あるいは３０〜４００の間にある。
したがって、流体装入物は、流体を多くの方向に分配さ
せるため（矢印（１３）で示す）少なくとも１つの適当
な形、例えば、星形、衝突分散板形の分配口（８）を具
備した例えば分配管（７）（水平または斜めまたは垂直
または、とにかく適当に、例えば工業用の酸反応器では
垂直に配置した）を有する少なくとも１つの分配ゾーン
によって反応器（１）の下部へ装入される。
せるため（矢印（１３）で示す）少なくとも１つの適当
な形、例えば、星形、衝突分散板形の分配口（８）を具
備した例えば分配管（７）（水平または斜めまたは垂直
または、とにかく適当に、例えば工業用の酸反応器では
垂直に配置した）を有する少なくとも１つの分配ゾーン
によって反応器（１）の下部へ装入される。
流体装入物または、２相（液体とガス）で構成されてい
るならば混合流体装入物は、排出管に結合された捕集管
で構成された、例えば、熊手の構造をした管（１１）で
示される捕集および排出手段を介して反応装置の上部へ
排出される前に、触媒と向流に反応器内を上昇する。
るならば混合流体装入物は、排出管に結合された捕集管
で構成された、例えば、熊手の構造をした管（１１）で
示される捕集および排出手段を介して反応装置の上部へ
排出される前に、触媒と向流に反応器内を上昇する。
分配管（７）により注入された混合流体は、このまたは
これらの漏斗に到来する前に先ず、混合流体（液体とガ
ス）の液体・ガス貯溜ゾーン（２２）を形成して、触媒
層を与える１つまたは複数の漏斗の方へ向う。米国特許
ｍ４，５７１゜３２６号に述べられている先行技術とは
反対に、この水準で気液分離を行なう必要はない。脚（
２４）は貯留ゾーン（２２）の上部水準に差込まれてい
る。反応器（１）内を支配している操作条件のもとに、
かつ、混合流体の進入状態の影響のもとに、反応器（１
）の底部では、該混合流体は吸い込まれ、脚（２４）を
通って上昇し、触媒層を支える先広がり状の漏斗または
漏斗群の上の触媒層に割当てられた空間に進入する。各
脚の上に設けたキャップ（２６）は、このように注入さ
れた流体の衝突飛沫板の役をし、これによって触媒層内
の多くの方向に流体を送れるようになる。さらに、夫々
のキャップは、各脚の上部口と触媒粒子の直接接触を防
止して、その口を保護し隔離させる目的ももっている。
これらの漏斗に到来する前に先ず、混合流体（液体とガ
ス）の液体・ガス貯溜ゾーン（２２）を形成して、触媒
層を与える１つまたは複数の漏斗の方へ向う。米国特許
ｍ４，５７１゜３２６号に述べられている先行技術とは
反対に、この水準で気液分離を行なう必要はない。脚（
２４）は貯留ゾーン（２２）の上部水準に差込まれてい
る。反応器（１）内を支配している操作条件のもとに、
かつ、混合流体の進入状態の影響のもとに、反応器（１
）の底部では、該混合流体は吸い込まれ、脚（２４）を
通って上昇し、触媒層を支える先広がり状の漏斗または
漏斗群の上の触媒層に割当てられた空間に進入する。各
脚の上に設けたキャップ（２６）は、このように注入さ
れた流体の衝突飛沫板の役をし、これによって触媒層内
の多くの方向に流体を送れるようになる。さらに、夫々
のキャップは、各脚の上部口と触媒粒子の直接接触を防
止して、その口を保護し隔離させる目的ももっている。
このキャップの形状は雨傘のように各脚（２４）の上部
口と各脚（２４）の上部の少なくとも一部を適当に覆う
のに適した形状であればどんな形のものでもよい。キャ
ップは例えば、半球形（第７Ｅ図）であっても、円錐台
形（第７Ａ図）であっても、角錐台形（第７Ｃ図）であ
っても、角柱形（第７Ｈ図）であっても、平行六面体形
（第７Ｇ図）であってもよい。
口と各脚（２４）の上部の少なくとも一部を適当に覆う
のに適した形状であればどんな形のものでもよい。キャ
ップは例えば、半球形（第７Ｅ図）であっても、円錐台
形（第７Ａ図）であっても、角錐台形（第７Ｃ図）であ
っても、角柱形（第７Ｈ図）であっても、平行六面体形
（第７Ｇ図）であってもよい。
キャップの１つの特殊な位置はキャップの壁が概ね反応
器の内壁にくっついている位置である。これは第３図の
キャップ（２６）である。反応器の内壁にくっついたキ
ャップは、反応器の内壁の形に密接するように、概ね平
たいことも曲線状のこともある。本発明の説明を簡単に
するために、本発明では、反応器の内壁に張り付けられ
る（接する）キャップのこのような壁は、概ね平面であ
ることを容認するものとする。この容認は十分実情に即
している。つまり各キャップの直径に比べて反応器の直
径が比較的大きいからである。その壁が反応器の内壁に
概ねくっついているキャップの例として、四分球形（第
７Ｆ図）、半円錐台形（第７Ｂ図）、半角錐台形（第７
Ｄ図）、角柱形（第７Ｈ図）を挙げることができる。特
に適当な一種の配置を、第４図と第５図において各図の
夫々に例示しである。キャップ（２６）は角柱形（２８
）と半角錐台形（２９）の組み合わせで構成されていて
、これは反応器の内壁に支えられている。上に示すよう
に、この種の装置のメーカーの可能性によれば、反応器
の壁に支えられているこの角柱形とこの半角錐台形の壁
は、反応器壁の形により良く合うためには平面でも曲線
状でもよい。
器の内壁にくっついている位置である。これは第３図の
キャップ（２６）である。反応器の内壁にくっついたキ
ャップは、反応器の内壁の形に密接するように、概ね平
たいことも曲線状のこともある。本発明の説明を簡単に
するために、本発明では、反応器の内壁に張り付けられ
る（接する）キャップのこのような壁は、概ね平面であ
ることを容認するものとする。この容認は十分実情に即
している。つまり各キャップの直径に比べて反応器の直
径が比較的大きいからである。その壁が反応器の内壁に
概ねくっついているキャップの例として、四分球形（第
７Ｆ図）、半円錐台形（第７Ｂ図）、半角錐台形（第７
Ｄ図）、角柱形（第７Ｈ図）を挙げることができる。特
に適当な一種の配置を、第４図と第５図において各図の
夫々に例示しである。キャップ（２６）は角柱形（２８
）と半角錐台形（２９）の組み合わせで構成されていて
、これは反応器の内壁に支えられている。上に示すよう
に、この種の装置のメーカーの可能性によれば、反応器
の壁に支えられているこの角柱形とこの半角錐台形の壁
は、反応器壁の形により良く合うためには平面でも曲線
状でもよい。
さらに、混合流体が、キャップの上部底辺にぶつかった
後、触媒層内に十分に分散するためには、このキャップ
の底部、つまり縁は連続してはいなくて、その周辺全体
にわたって大部分が切欠かれている必要がある。この縁
の形状は様々なもの、例えば、第３図と第７Ａ図から第
７１図の鋸歯部（２７）を、または第４図と第５図のよ
うな銃眼部（３０）、第７１図のような花ずな状のもの
または歯車状のものあるいはまたサインカーブ状のもの
でもよい。縁上の各切欠き部の高さ、例えば、各銃眼部
または各歯車部の各歯の高さはキャップの全高の０．１
〜３０％、好ましくは２〜２５％、さらに詳しくは５〜
１５％である。
後、触媒層内に十分に分散するためには、このキャップ
の底部、つまり縁は連続してはいなくて、その周辺全体
にわたって大部分が切欠かれている必要がある。この縁
の形状は様々なもの、例えば、第３図と第７Ａ図から第
７１図の鋸歯部（２７）を、または第４図と第５図のよ
うな銃眼部（３０）、第７１図のような花ずな状のもの
または歯車状のものあるいはまたサインカーブ状のもの
でもよい。縁上の各切欠き部の高さ、例えば、各銃眼部
または各歯車部の各歯の高さはキャップの全高の０．１
〜３０％、好ましくは２〜２５％、さらに詳しくは５〜
１５％である。
特に小反応器の場合の本発明による配置は、反応器の全
内周辺に沿ってキャップを配列することである。キャッ
プの大きさにしたがって、例えば一連の２〜３０のキャ
ップ、好ましくは６〜１５、または６〜１２の場合さえ
も、相互に接線方向にくっつけたり、つけなかったりし
て考えてみることができる。第６図に示すものは脚（２
４）を結合しである反応器（１）の断面であり、これら
のキャップは触媒を支える円錐台形または角錐台形の底
部の触媒排出用の管（４）の周りに同心円状に分布しで
ある。大型反応器の場合は、上記に説明し、反応器内に
分配した様々な型のキャップを結合して用いることがで
きる。例えば、成人型の反応器では、複数の漏斗を（く
っつけて）備えている場合、これらの円錐漏斗の周辺に
２〜８００のキャップと脚を分配して配置することがで
きる（１〜１００の排田用の円錐漏斗）。
内周辺に沿ってキャップを配列することである。キャッ
プの大きさにしたがって、例えば一連の２〜３０のキャ
ップ、好ましくは６〜１５、または６〜１２の場合さえ
も、相互に接線方向にくっつけたり、つけなかったりし
て考えてみることができる。第６図に示すものは脚（２
４）を結合しである反応器（１）の断面であり、これら
のキャップは触媒を支える円錐台形または角錐台形の底
部の触媒排出用の管（４）の周りに同心円状に分布しで
ある。大型反応器の場合は、上記に説明し、反応器内に
分配した様々な型のキャップを結合して用いることがで
きる。例えば、成人型の反応器では、複数の漏斗を（く
っつけて）備えている場合、これらの円錐漏斗の周辺に
２〜８００のキャップと脚を分配して配置することがで
きる（１〜１００の排田用の円錐漏斗）。
好ましくは、独特な円錐付きの反応器の場合は、脚（２
４）は漏斗の周辺近傍に、反応器の内壁近くに設けられ
ている。
４）は漏斗の周辺近傍に、反応器の内壁近くに設けられ
ている。
特殊な配列が、さらに詳しくは、下記に述べるる（球系
、円錐形、角錐形、角柱形、平行六面体形またはあらゆ
る他の形）かつ反応器内に配分した様々な種類のキャッ
プを結合して利用することのできる大形反応器に関係が
ある。そこで、大型反応器には複数の排出漏斗が設けら
れるだろうし、これらは場合によってはくっつけること
ができようし、かつ７〜７００のキャップ（夫々脚また
は管も装着された）をこれらの円錐漏斗の周辺に分配し
て配置することもできよう。（排出漏斗は３〜１００）
。例えば第１０図と第１１図参照）。
、円錐形、角錐形、角柱形、平行六面体形またはあらゆ
る他の形）かつ反応器内に配分した様々な種類のキャッ
プを結合して利用することのできる大形反応器に関係が
ある。そこで、大型反応器には複数の排出漏斗が設けら
れるだろうし、これらは場合によってはくっつけること
ができようし、かつ７〜７００のキャップ（夫々脚また
は管も装着された）をこれらの円錐漏斗の周辺に分配し
て配置することもできよう。（排出漏斗は３〜１００）
。例えば第１０図と第１１図参照）。
したがって、この注入装置（可能な２種類の装置を例示
する第８図と第９図参照）は、・本質的に垂直でかつか
なり長い円筒状の形をなす反応器（１）、 ・反応器の上部における固体粒子半導体手段（２）、 ・反応器の下部における固体粒子の排出手段であって、
本質的に垂直の少なくとも１つの管（４）から本質的に
構成されたもの、・反応器の下部に配置されかつ頂点を
下に向けて上記固体粒子を支える複数の漏斗または先広
がりゾーン（２５）であって、これは上記管（４）と複
数の管（２４）とを貫通せしめるように穿孔され、上記
管（２４）は少なくとも１つの流体装入物の注入機構の
一部をなし、該注入機構は前で定義されたものであり、 ・反応器の下端部における、漏斗または先広がりゾーン
（２５）の下方への、液体およびガスからなる上記流体
装入物半導入装置（７） （８）、・反応器の上部にお
ける反応性流出物の排出手段（Ｉｆ）を備えた注入装置
であって、該注入装置は、装入物の注入機構が複数存在
すること、該注入装置における該注入機構の数が少なく
とも８であり、各注入機構が下記のものを具備すること
を特徴とし： ・漏斗または先広がりゾーン（２５）を貫通する本質的
に垂直の少なくとも１つの脚または管（２４）であって
、下端部が該漏斗または先広がりゾーン（２５）もしく
はその壁の下方（かつ装入物半導体装置（７） （８）
の上方）に配置され、また上端部が該漏斗または先広が
りゾーン（２５）の上方にかつこれに比較的近接して配
置され、 ・管（２４）の上端部を覆うキャップ（２６）であって
、該キャップ（２６）の底縁が、該底縁の周りの大部分
に配置された複数の切欠き部または一連の切欠き部を備
えている、 反応器への炭化水素装入物の注入装置である。
する第８図と第９図参照）は、・本質的に垂直でかつか
なり長い円筒状の形をなす反応器（１）、 ・反応器の上部における固体粒子半導体手段（２）、 ・反応器の下部における固体粒子の排出手段であって、
本質的に垂直の少なくとも１つの管（４）から本質的に
構成されたもの、・反応器の下部に配置されかつ頂点を
下に向けて上記固体粒子を支える複数の漏斗または先広
がりゾーン（２５）であって、これは上記管（４）と複
数の管（２４）とを貫通せしめるように穿孔され、上記
管（２４）は少なくとも１つの流体装入物の注入機構の
一部をなし、該注入機構は前で定義されたものであり、 ・反応器の下端部における、漏斗または先広がりゾーン
（２５）の下方への、液体およびガスからなる上記流体
装入物半導入装置（７） （８）、・反応器の上部にお
ける反応性流出物の排出手段（Ｉｆ）を備えた注入装置
であって、該注入装置は、装入物の注入機構が複数存在
すること、該注入装置における該注入機構の数が少なく
とも８であり、各注入機構が下記のものを具備すること
を特徴とし： ・漏斗または先広がりゾーン（２５）を貫通する本質的
に垂直の少なくとも１つの脚または管（２４）であって
、下端部が該漏斗または先広がりゾーン（２５）もしく
はその壁の下方（かつ装入物半導体装置（７） （８）
の上方）に配置され、また上端部が該漏斗または先広が
りゾーン（２５）の上方にかつこれに比較的近接して配
置され、 ・管（２４）の上端部を覆うキャップ（２６）であって
、該キャップ（２６）の底縁が、該底縁の周りの大部分
に配置された複数の切欠き部または一連の切欠き部を備
えている、 反応器への炭化水素装入物の注入装置である。
第１０図と第１１図に示すものは、本発明による装置の
該略図である。第１２図、第１３図および第１４図に示
すものは本発明による装置の拡大図または変形である。
該略図である。第１２図、第１３図および第１４図に示
すものは本発明による装置の拡大図または変形である。
第１３図では、触媒の排出管は簡単なライン（２８−ａ
）で示し、他の図ではライン（２８）で示した。
）で示し、他の図ではライン（２８）で示した。
第１図と第２図は従来技術を示す反応器の一部省略垂直
断面図、第３図から第１４図までは本発明の実施例を示
すもので、第３図、第８図、第９図および第１３図は反
応器の一部省略垂直断面図、第４図および第１２図は反
応器の要部の垂直断面図、第５図、第７Ａ図、第７Ｂ図
、第７Ｃ図、第７Ｄ図、第７Ｅ図、第７Ｆ図、第７Ｇ図
、第７Ｈ図、第７１図および第７Ｊ図はキャップを示す
斜視図、第６図、第１０図、第１１図および第１４図は
反応器の水平断面図である。 （１）・・・反応器、（２）・・・管（導入手段） 、
（３）・・・触媒層、（４）・・・管、（７）・・・分
配管（装入手段）、（８）・・・分配口（装入手段）
、（Ｉｆ）・・・管（排出手段） 、（２２）・・・貯
留ゾーン、（２４）・・・管または脚、（２５）・・・
漏斗、（２６）・・・キャップ、（２７）・・・鋸歯部
、（３０）・・・銃眼部。 以上 特許出願人 アンスティテユーフランセ・ＦＩＧ、
７０ ＦＩＧ・７
■ＦＩＧ、８ ＦＩＧ、９ ＦＩＧ、１３
断面図、第３図から第１４図までは本発明の実施例を示
すもので、第３図、第８図、第９図および第１３図は反
応器の一部省略垂直断面図、第４図および第１２図は反
応器の要部の垂直断面図、第５図、第７Ａ図、第７Ｂ図
、第７Ｃ図、第７Ｄ図、第７Ｅ図、第７Ｆ図、第７Ｇ図
、第７Ｈ図、第７１図および第７Ｊ図はキャップを示す
斜視図、第６図、第１０図、第１１図および第１４図は
反応器の水平断面図である。 （１）・・・反応器、（２）・・・管（導入手段） 、
（３）・・・触媒層、（４）・・・管、（７）・・・分
配管（装入手段）、（８）・・・分配口（装入手段）
、（Ｉｆ）・・・管（排出手段） 、（２２）・・・貯
留ゾーン、（２４）・・・管または脚、（２５）・・・
漏斗、（２６）・・・キャップ、（２７）・・・鋸歯部
、（３０）・・・銃眼部。 以上 特許出願人 アンスティテユーフランセ・ＦＩＧ、
７０ ＦＩＧ・７
■ＦＩＧ、８ ＦＩＧ、９ ＦＩＧ、１３
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）・本質的に垂直でかつかなり長い円筒状の形をなす
反応器（１）、 ・反応器の上部における固体粒子の導入手段（２）、 ・反応器の下部における固体粒子の排出手段であって、
本質的に垂直の少なくとも１つの管（４）から本質的に
構成されたもの、 ・反応器の下部に配置されかつ頂点を下に向けて上記固
体粒子を支える少なくとも１つの漏斗または先広がりゾ
ーン（２５）であって、これは上記管（４）と少なくと
も２つの管（２４）とを貫通せしめるように穿孔され、
上記管（２４）は少なくとも１つの流体装入物の注入機
構の一部をなし、該注入機構は後で定義されるものであ
り、 ・反応器の下端部における、漏斗または先広がりゾーン
（２５）の下方への、液体およびガスからなる上記流体
装入物半導入装置（７）（８）、・反応器の上部におけ
る反応性流出物の排出手段（１１）を備えた注入装置で
あって、 該注入装置は、装入物の注入機構が少なくとも１つ存在
すること、該注入装置における該注入機構の数が少なく
とも２であり、各注入機構が下記のものを具備すること
を特徴とし： ・漏斗または先広がりゾーン（２５）を貫通する本質的
に垂直の少なくとも１つの脚または管（２４）であって
、下端部が該漏斗または先広がりゾーン（２５）もしく
はその壁の下方（かつ装入物半導入装置（７）（８）の
上方）に配置され、また上端部が該漏斗または先広がり
ゾーン（２５）の上方にかつこれに比較的近接して配置
され、 ・管（２４）の上端部を覆うキャップ（２６）であって
、該キャップ（２６）の底縁が、該底縁の周りの大部分
に配置された複数の切欠き部または一連の切欠き部を備
えている、反応器への炭化水素装入物の注入装置（第３
図参照）。 ２）該キャップ（２６）が、円錐台形（第７Ａ図）、半
円錐台形（第７Ｂ図）、角錐台形（第７Ｃ図）、半角錐
台形（第７Ｄ図）、半球形（第７Ｅ図）、四分球形（第
７Ｆ図）、平行六面体形（第７Ｇ図）、角柱形（第７Ｈ
図）、半角錐台形と角柱形の組み合わせ（第７Ｉ図）、
および上記形状と均等な形状からなる群より選ばれた形
状を形成している、請求項１による注入装置。 ３）該切欠き部の高さがキャップ（２６）の高さの０．
１〜５０％である、請求項１による注入装置。 ４）該切欠き部の高さがキャップ（２６）の高さの２〜
２５％である、請求項３による注入装置。 ５）２〜８００のキャップおよび１〜１００のくっつい
た排出漏斗を備えた、請求項１による注入装置。 ６）少なくとも４つのキャップが反応器の内壁に密接す
るように触媒排出用の管（４）の周りに同心円状に配置
されている、請求項５による注入装置。 ７）該キャップ（２６）が四分角錐形と角柱形の組み合
わせである、請求項１〜６のうちのいずれか１による注
入装置。 ８）該脚（２４）が該漏斗の周りおよび反応器の内壁近
くに配置されている、請求項１〜７のうちのいずれか１
による注入装置。 ９）・本質的に垂直でかつかなり長い円筒状の形をなす
反応器（１）、 ・反応器の上部における固体粒子の導入手段（２）、 ・反応器の下部における固体粒子の排出手段であって、
本質的に垂直の少なくとも１つの管（４）から本質的に
構成されたもの、 ・反応器の下部に配置されかつ頂点を下に向けて上記固
体粒子を支える複数の漏斗または先広がりゾーン（２５
）であって、これは上記管（４）と複数の管（２４）と
を貫通せしめるように穿孔され、上記管（２４）は少な
くとも１つの流体装入物の注入機構の一部をなし、該注
入機構は後で定義されるものであり、 ・反応器の下端部における、漏斗または先広がりゾーン
（２５）の下方への、液体およびガスからなる上記流体
装入物半導入装置（７）（８）、・反応器の上部におけ
る反応性流出物の排出手段（１１）を備えた注入装置で
あって、 該注入装置は、装入物の注入機構が複数存在すること、
該注入装置における該注入機構の数が少なくとも８であ
り、各注入機構が下記のものを具備することを特徴とし
： ・漏斗または先広がりゾーン（２５）を貫通する本質的
に垂直の少なくとも１つの脚または管（２４）であって
、下端部が該漏斗または先広がりゾーン（２５）もしく
はその壁の下方（かつ装入物半導体装置（７）（８）の
上方）に配置され、また上端部が該漏斗または先広がり
ゾーン（２５）の上方にかつこれに比較的近接して配置
され、 ・管（２４）の上端部を覆うキャップ（２６）であって
、該キャップ（２６）の底縁が、該底縁の周りの大部分
に配置された複数の切欠き部または一連の切欠き部を備
えている、反応器への炭化水素装入物の注入装置（第８
図および第９図参照）。 １０）７〜７００のキャップおよび３〜１００のくっつ
いた排出漏斗を備えた、請求項９による注入装置。
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