JPH01196185A - ガスレーザ装置 - Google Patents

ガスレーザ装置

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JPH01196185A
JPH01196185A JP1947988A JP1947988A JPH01196185A JP H01196185 A JPH01196185 A JP H01196185A JP 1947988 A JP1947988 A JP 1947988A JP 1947988 A JP1947988 A JP 1947988A JP H01196185 A JPH01196185 A JP H01196185A
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JP
Japan
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laser
laser beam
discharge
gas
electrodes
Prior art date
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Pending
Application number
JP1947988A
Other languages
English (en)
Inventor
Kimiharu Yasui
公治 安井
Masaaki Tanaka
正明 田中
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP1947988A priority Critical patent/JPH01196185A/ja
Publication of JPH01196185A publication Critical patent/JPH01196185A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/09Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
    • H01S3/097Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Lasers (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野コ 本発明は、高品質のレーザ光を発生させることのできる
ガスレーザ装置に関するものである。
[従来の技術] 第5図は従来のガスレーザ装置の一例(例えば特公昭5
9−17871号公報参照)を示す縦断面図及び側断面
図である。図において、(1)、(la)はガラスで被
覆された金属よりなり対向配置された電極、(2)は電
極(1) 、 (la)に高電圧を印加する交流電源、
(3)は電極(1) 、 (la)間に発生した放電で
ある。
(4)は部分反射ミラー、(5)は全反射ミラー、(6
)は両ミラー(4) 、 (5)によって構成された共
振器内に発生したレーザ光、(7)はガスレーザ装置の
外部に取出されたレーザ光である。(8)はガスレーザ
装置の容器で、例えばCO2レーザ装置の場合は、Co
  :CO:N  :He−8:4:8020の分率で
、圧力100 Torr程度のレーザ媒質ガスが封入さ
れている。
次に、上記のように構成した装置の作用を説明する。交
流電源(2)より電極(1) 、 (la>間に高電圧
(最高LOKV、100K)lz程度)が印加されて放
電が発生すると、この放電により電極(1) 、 (l
a)間のガスが励起され、レーザ媒質となる。一方、部
分反射ミラー(4)と全反射ミラー(5)との間を往復
するレーザ光(6)は、レーザ媒質によって増幅され、
一定大きさ以上になるとその一部が部分反射ミラー(4
)から外部に取出される。
[発明が解決しようとする課題] 上記のように構成した従来のガスレーザ装置においては
、第5図(b)に示すように放電空間A1つまりレーザ
励起媒質は短形状であり、これに対してガスレーザ装置
に要求されるレーザ光(6)は円形であるため両者はう
まくマツチせず、ガスレーザ装置の効率低下を招いてい
た。なお、大きい出力を得るために大きな放電空間を形
成しようとすれば、電極(1)、(]、a)間の距離を
広げかつ電極(L) 、 (1,a)の放電面を大きく
しなければならないが、このようにすると横方向に放電
むらが生じたり、中央付近のみに放電か集中するなど、
種々問題があった。
本発明は上記のような問題点を解決するためになされた
もので、円形に近い大きい放電空間を安定な状態で得ら
れ、効率よく高品質のレーザ光を発生させることのでき
るガスレーザ装置を得ることを目的とする。
[課題を解決するための手段] 本発明は、上記の目的を達成するためになされたもので
、レーザ光の通路にこのレーザ光と平行方向の磁界を発
生させる手段とを設けたガスレーザ装置を提供するもの
である。
[作用] レーザ光と平行方向に発生した磁界は、電極間に発生す
る放電を円孤状に湾曲させて円形に近い放電空間を形成
する。これにより大断面積、大出力のレーザ光を得るこ
とができる。
[発明の実施例〕 第1図は本発明の実施例を示すもので、(a)は縦断面
図、(b)は側断面図である。なお、第5図に示した従
来例と同−又は相当部分には同じ符号を刊し、説明を省
略する。図において、(10)。
(10a) 、 (10b)は電極(1) 、 (la
)間に発生した放電、(11)は電極(1)、(]、a
)と全反射ミラー(5)との間において、レーザ光(6
)の通路に設けられたコイル、(12)はコイル(11
)に電流を流す直流電源である。
このコイル(1」)は直流室?ifi、 (12)から
供給された電流によって電磁石を構成し、レーザ光(6
)の光軸と平行方向に磁界を発生させる。
上記のように構成した本発明の詳細な説明ずれば、次の
通りである。交流電源(2)から電極(1)。
〈1a)間に電圧を印加すると、第5図の従来例と同様
に電極(1)、 (la)間に放電か発生するか、この
放電(10)は、コイル(11)によって発生する磁界
により、レーザ光(6)の光軸方向からみると、第1図
に示ずように、交流電源(2)から電極(1) 、 (
la)に流れる電流の方向(したがって放電(10)の
方向)によって、異なる方向に湾曲する。すなわち、交
流型@ (2)の電圧かく+)又は(−)に変ることに
、放電は例えば(loa)又は(10b)の如く弧状に
湾曲する。
次に、このように放電(10)を湾曲させるために必要
な、コイル(11)によって形成される磁束密度を求め
る。いま、交流電源(2)による印加電圧の最高値をl
0KV、電極(L) 、 (la)間の距離を50 i
+inとすると、これによって形成される電界Eは、E
 = l0KV/ 50mm = 2 X 105V/
mとなる。
したかって、電子かこの電界Eによって引かれる力F 
は、 F  =eE−]、6 xlo−19x2x105=3
.2 XIO’ N一  4  − となる。
一方、コイル(l])によって形成された磁界により電
子の受ける力FBは、電子のドリフト速度υ がこの媒
質ガスではI X 10” m/s程度とみられるので
、次のようになる。
FB=eυ。B = 1.G X IN’ x 1 x +、0” Bし
たがって、電極(1) 、 (la)間の放電か弧状に
湾曲するためには、F =FBとなることか必要である
と考えると、 B=2 (T) となる。
よって、この磁束密度を得るためにコイル(11)に流
す電流Iを求める。コイル(11)は1mあたり100
回巻いであるとすれば、磁界Hは、H= 100 ・I となる。
したかって、媒質ガスの透磁率を4πxlO−7とすれ
ば、コイル(11)に流す電流Iは、が必要となる。こ
の値は非常に大きいが、通常の電線でも可能であり、特
に超電導線を用いれば、きわめて容易に実現できる。
このように、1周期ごとに異なる方向に湾曲する放電(
loa) 、 (10b)により励起されたガスはレー
サ媒質を形成するか、CO2レーザ装置のガス組成にお
いては、レーサ媒質の放電変化に対する応答は十数μs
(数KHzに応答)と遅いため、発生する光からみると
時間的にほぼ定常かつほぼ円形状のレーサ媒質が得られ
る。
このようにして、はぼ円形状の放電空間Bから円形状の
レーザ光を効率よくガスレーザ装置外に取出すことがで
きる。
第2図(a) 、 (b)は本発明の他の実施例の縦断
面図及び側断面図である。第1図の実施例では電極(1
)、(la)間の放電を高速で湾曲させて、大きい円形
状のレーザ光(7)を得る場合について説明したが、放
電を媒質カスの応答速度に比べて低い周波数で発生させ
てもよい。すなわち、第2図(b)に示すように放電(
10a) 、 (10b)が湾曲したときのみレーザ光
(7)が出力するようにすれば、パルス状のレーザ出力
を得ることができる。
第3図(a) 、 (b)は本発明のさらに他の実施例
を示す縦断面図及び側断面図である。第1図の実施例で
は放電空間B内での温度上昇を考えなかったが、大出力
レーザ光を得ようとする場合には、ガスを循環させかつ
冷却しなければならない。このガスの循環・冷却は、例
えば第3図に示すような送風機(13)と熱交換器(1
4)との組合せにより行なうことができる。なお、矢印
(15)はガスの流れ方向を示す。
第4図(a)、(b)は本発明の別の実施例を示す縦断
面図及び要部の断面図である。本実施例においては誘電
体パイプ(16)の外周の上下に対向して電極(17)
、(17a)を貼着すると共に、電極(17) 1(1
7a)と全反射ミラー(5)との間において誘電体パイ
プ(16)にコイル(11)を巻回し、さらに誘電体パ
イプ(16)の両側に開口する通路(9)を設けて、こ
の通路(9)に送風機(13)と冷却器(14a)とを
設けたものである。
このようなガスレーザ装置においては、従来は、放電面
を広げようとして電極(17) 、(17a)の幅を広
げると、上下の電極(17)、(17a)間に誘電体パ
イプ(16)を伝わって沿面放電が発生し、誘電体パイ
プ(16)を破壊することがあった。しかしながら、本
発明においては、コイル(11)によって生じる磁界に
より、放電(10a) 、(10b)を交互に湾曲させ
るようにしたので、電極(17) 、 (17a)の幅
を広げずに誘電体パイプ(16)内に、時間的にみて均
一な励起媒質を得ることができる。
[発明の効果コ 以上の説明から明らかなように、本発明によれば、交流
放電と直流磁界との組合せにより、放電の1周期ごとに
放電を湾曲させて大断面積でほぼ円形状の放電空間を得
るようにしたので、効率よく高品質のレーザ光を得るこ
とができる。
【図面の簡単な説明】
第1図(a) 、 (b)は本発明の実施例を示す縦断
面一  8 − 図及びその側断面図、第2図(a) 、 (b)は本発
明の他の実施例を示す縦断面図及びその側断面図、第3
図(a) 、(b)は本発明のさらに他の実施例を示す
縦断面図及びその側断面図、第4図(a) 、 (I)
)は本発明の別の実施例を示す縦断面図及びその側断面
図、第5図(a) 、 (b)は従来のガスレーザ装置
の一例を示す縦断面図及びその側断面図である。 (1)、(la>、(17)、(17a)−電極、(2
) −・・交流電源、(4)・・部分反射ミラー、(5
)・・全反射ミラー、(B)、(7)−1z−ザ光、(
10) 、 (LOa) 、 (10b) =・放11
M、(11)・・コイル、(12)・直流電源。 なお、図中、同一符号は同一または相当部分を示すもの
とする。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. レーザ媒質ガスを満たした容器内に一対の電極を対向配
    置して該電極間に交流電圧を印加し、これによって生ず
    る放電により前記レーザ媒質ガスを励起してレーザ光を
    発生させる装置において、前記レーザ光の通路に該レー
    ザ光の光軸と平行方向の磁界を発生させる手段を設けた
    ことを特徴とするガスレーザ装置。
JP1947988A 1988-02-01 1988-02-01 ガスレーザ装置 Pending JPH01196185A (ja)

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JP1947988A JPH01196185A (ja) 1988-02-01 1988-02-01 ガスレーザ装置

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JP1947988A JPH01196185A (ja) 1988-02-01 1988-02-01 ガスレーザ装置

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JPH01196185A true JPH01196185A (ja) 1989-08-07

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ID=12000475

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