JPH01196288A - 回転式自動製麹装置 - Google Patents

回転式自動製麹装置

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JPH01196288A
JPH01196288A JP2130588A JP2130588A JPH01196288A JP H01196288 A JPH01196288 A JP H01196288A JP 2130588 A JP2130588 A JP 2130588A JP 2130588 A JP2130588 A JP 2130588A JP H01196288 A JPH01196288 A JP H01196288A
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koji
cleaning
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disc
culture
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Tokuhiro Matsuyama
松山 徳広
Nobuo Saito
信雄 斉藤
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YAYOI ENG KK
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野] この発明は、醸造工業或いは醗酵工業の製麹工程におけ
る、回転式自動製麹装置の清浄%IEfに関するもので
ある。
〔従来の技術〕
従来、回転式自動製麹装置における培養は、作業の合理
化が先行し、清潔な麹をうるための清浄作業はややもす
るとおろそかにさ、れ、そのため雑菌の発生源が生じゃ
すく、安定した製麹は望なかった。この発明は人力によ
って行なわれている清浄作業を自動化することによって
、必要とする時に短時間に清浄作業を行ない、清潔な状
態で製麹を行なえるようにしたものである。
〔発明が解決しようとする問題点J 機械設備の発展は日進月歩であるが、麹の培養を行なう
現場では作業員が不足し、年々高齢化を辿りながらも、
依然として人力を要する作業を工程にしたがって行なわ
なければならない現状である。
この現状を解決するためには、製麹作業の終了後、完全
な出麹と各部の水洗、消毒作業の自動化が要求される。
この発明は回転式自動製麹装置の出麹盛込作業用部分、
手入作業用部分及び培養床の各作動部分の水洗消毒作業
を、機械的に融合させて、自動化の実現化を計ったもの
である。
〔問題点゛を解決するための手段」 高度な清浄を行なうには、前段の出麹を完全にする必要
がある。回転するスクリュウによって完全な出麹を行な
うための培養床の面は、平面であることが条件となるが
、現実には、加熱、溶接などの加工により、若干ではあ
るが凹部が発生する場合がある。この凹部内の資料は、
出麹の際に回転するスクリュウの作用がおよばないため
に出麹されず、残留資料となるため、人力による処理が
必要であったが、この発明では、スクリュウのスクレー
パの後位において、培養床に対し、吸引装置のポートを
僅少の間隙を保持して一体とし、この吸引口を、吸気源
に連通させて、出麹手段の上下運動と同時運動を行なわ
せるようにし、出麹の工程においてスクリュウのスクレ
ーパをくぐり抜けてきた培養床凹部の麹基質を吸引し、
所定の場所に搬送するようにしたものである。
この場合スクリュウのスクレーパをくぐり抜けて来た直
後の麹基質は、外力等により固められる前の状態なので
、吸引されやすく、殆んどの資料を吸引し、目的の場所
へ搬送することができるのである。
清浄の次の工程として、出麹した後の装置各部を清浄化
させるために水洗殺菌を行なう。
水洗を行なうには、回転円盤の上面及び裏面にそれぞれ
複数の散水口を有する洗滌パイプ、回転円盤上方の手入
機及び盛込出麹機の洗滌用パイプ、円盤の駆動用ラック
ピン洗浄用ノズル、回転円盤の下方には殺菌、乾燥を行
なう蒸気供給口の他、培養床側面洗浄パイプ、培養床用
洗滌パイプ、中心円筒用洗滌パイプ等を中心円筒に装着
して、中心円筒の回転と共に回動しうるようにして、そ
れぞれの部分の洗滌を行ない、洗滌後は前記蒸気供給口
から蒸気を供給して、培養室内部の各部分の乾燥殺菌を
行なうようにしたものである。
〔実施例〕
以下にこの発明の詳81を実施例によって説明する。
添付図面中筒1図は、この発明の立面図、第2図は、平
面図、第2A図は駆動装置であり、第3図、第4図は培
養床凹部に残留した資料の回収装置の拡大図である。
先ず第1図、第2図において、lは通気可能で回転可能
な円盤で、その周辺部にはこの回転円盤1と同心円状の
案内支+yi2が設けられ、前記円盤外周下部には、コ
字型の環状金具3があり、この環状金具3を、受はロー
ラ4で受けるようになっている。
又、コ字型の内側には回転円盤1と同心円で駆動用ラッ
クビン5が設けられ、この駆動用ラックビン5に円盤外
部から、第2A図に示される駆動装置6によって回転を
与えるようになっている。次に培養装置は、回転円盤l
を境界として下部と上部がそれぞれ半密閉室7,8を構
成している。培養室に供給される温湿風は、ダンパ20
で風量を加減されて、半密閉室7に入り、回転円ff1
1を通過し、麹基質10の中を通過し、温度、水分を制
御されて一ヒ部に出て、吸込ダンパ11を経て、図示さ
れていない空気調整装置に戻り、処理完了後、前記ダン
パ20を経て回転円板1の下部の半密閉室7に送られ循
環する。
前記麹基質10を落し口14がら補給して引き込む時は
、円盤1の向きを回転させながら麹基質lOを補給し、
回転スクリュウ15に必要高さと回転を与えることによ
り、自動的に同一厚さに引き込むことができる。引込完
了後。
麹基質10は9発育の進捗と共に、所定時間経過後手入
れ作業を必要とする。
手入れ作業を行なうには、−例として19に示すような
手入れ手段で手入れ機の回転と、培養床としての回転円
盤1の回転の相関々係によって、手入れを行なう。必要
とする手入れを行なった後、所定時間経過後出麹とする
出麹を行なうには、出麹手段としての回転スクリュウI
5を基質の積層中に降下させ、この回転スクリュウ15
の回転と回転円盤1の回転の相関関係によって出麹を行
なう。
この場合回転スクリュウ15を回転円盤1面に対して近
接位置で回転させた場合、麹基質lOの大半は、回転ス
クリュウ15によって搬送されるが、培養床1の凹部の
麹基質10は、スクリュウ15の作用が及ばず、そのま
ま回転スクリュウ15?&位のスクレーバ1フの下部を
通過するが、その部分にはスクレーバ20と一体に運動
する吸引装置9の吸引ポート16が、回転円盤lに対し
僅少の間隙を置いて位置し、管路12を介して図示して
いない吸気源によって連通吸引させているため、スクレ
ーバ17の下部を通過した凹部の残留資料は、直ちに掻
き取り羽根13を備える前記吸引ポート16によって吸
引され、所定の場所に搬送されるのである9 このようにして回転円盤l上を自動的に清浄した後、各
部を構成する装置の洗滌1燥を行なう。
洗滌乾燥装置の構成は、円盤洗滌用として回転円盤1の
上方に複数の散水口を有する洗浄パイプ23をラックビ
ン5と洗滌共用させると共に、バルブ23′を介して配
設し、更に出麹手段としての回転スクリュウ151手入
れ手段19に対してもそれぞれ散水口を有する洗浄パイ
プ21..22をバルブ21’ 、22’を介して配設
されている。
また該回転円盤lの下室には、この円盤の裏面側に複数
の散水口を有する洗浄パイプ25をバルブを介して配設
し、培養室側面洗浄パイプ26、培養室用洗滌パイプ2
7、中心円筒用洗滌パイプ28を、バルブ28′を介し
回転円盤1と一緒に回転可能なように中心円筒に装着さ
れている。これら洗滌パイプ26,27.28に供給す
る洗滌水は、中心円筒により外部に連結され、バルブ2
9を介して供給される。なお上記各洗滌パイプには、バ
ルブ21’ 、22’ 、23″、29の近辺に圧搾空
気供給のバルブ31がそれぞれ設けられている。
洗滌完了後、各部の乾燥、殺菌を行なわせるため、蒸気
の吹き込みパイプ30が、バルブを介して配設されてい
る。
洗滌作業を行なうには1回転円!11tの上方の手入手
段19、回転スクリュウ15を洗滌するため、それぞれ
に回転を与えながら、洗浄パイプ21.22からの散水
によって洗滌され、洗滌完了後、圧搾空気を供給し、洗
浄パイプ内の水分を排出させる。
次に回転円盤lの洗滌を行なうには、この回転円盤lの
上面に配設された洗浄バイブ23と、この円盤1の下面
に配設された洗浄バイブ25のバルブを開くことにより
1回転円盤lが回転する間に1円盤1の上面及び裏面の
洗浄を行なう。またこの洗浄、と同時に、洗浄ノズル2
4によって、駆動用ラックビン5を洗浄すると共に、前
記中心円筒にi4着され、回転円盤lと共に回転する側
面洗浄パイプ26.洗滌パイプ27、中心円筒用洗滌パ
イプ28のバルブを開として洗滌を行ない、洗滌終了後
は。
圧搾空気を供給して各パイプ内の水分を排水する。
かようにして洗浄完了後、乾燥、殺菌を行なうため、蒸
気の吹き込みパイプ30から蒸気を供給して、乾燥、殺
菌を行なうのである。
〔発明の効果〕
一般にこの種製麹装置においては、製麹出麹後、汚染を
そのまま放置すると雑菌が繁殖し、以後の製麹に悪影響
をもたらすことは周知の通りである。したがって出麹後
の洗滌は、1!1麹作業と切っても切れない関係にある
この発明は、上述のように出麹を完全に行なった後、洗
浄、乾燥、消毒を自動的に行なうので、洗浄作業の省力
化ならびに製麹の清潔(ヒに連なり、以後の製品に良い
影響を与える所大であり、品質向上に寄与する有益有用
なものである。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の装置の立面図、第2図はその平面図
、第2A図は駆動装置を示し、第3図及び第4図は培養
床凹部に残留した資料の回収装置の拡大図である。 なお図において、 1     回転円盤(培養床) 5     駆動用ラックピン 10      @基質 11      吸込ダンパ I6      吸引ポート 19      手入れ手段 21〜23    洗浄パイプ 24      洗浄ノズル 25〜28    洗浄パイプ である。 第2図 第2A図 第3図 と 第4図 手続11F3正書(自発) 昭和63年3月31日 特許庁長官 小 川 邦 夫 殿 ■、事件の表示 昭和63年 特 許 願 第21305号2、発明の名
称 回転式自動製麹装置 3、補正をする者 事件との関係  特許出願人 名 称  株式会社弥生エンヂニアリンク4、代理人 明細書の発明の詳細な説明の欄 (6,補正の内容) 明細書中

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 培養室を麹基質の培養床によつて上室及び 下室に区切り、調整された最適な空気を、麹基質に通気
    して培養を行なう回転式自動製麹装置において、培養完
    了後に培養床を構成する回転円盤上に堆積される資料を
    、搬送手段により回転円盤のほぼ放射方向に取り出す出
    麹手段と、出麹完了後回転円盤を含む各構成部分を洗浄
    すべき清浄手段とから成り、前記出麹手段においては、
    回転円盤の移動方向に関して前記搬送手段の後位に、回
    転円盤と僅少の間隙を置いて開口し回転円盤の凹部の残
    留資料を回収する吸引ポートを配設し、前記清浄手段に
    おいては、回転円盤の上面及び裏面にそれぞれ複数の散
    水口を有する洗滌パイプを配設すると共に、回転円盤の
    上方には、手入機及び盛込み、出麹手段の洗滌用パイプ
    、回転円盤駆動用ラックピン洗浄用ノズルを、回転円盤
    の下方には、殺菌、乾燥を行なう蒸気供給口のほかに培
    養室側面洗浄パイプ、培養室用洗滌パイプ、中心円筒用
    洗滌パイプ等を、前記中心円筒に装着して、この中心円
    筒の回転と共に回動しうるように形成し、もつて常に清
    潔な麹を醸成しうるようにしたことを特徴とする回転式
    自動製麹装置。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5536331A (en) * 1993-07-31 1996-07-16 Korsch Pressen Gmbh Process for cleaning tabletting, pan-coating and granulating machines, especially rotary tabletting presses
JP2002051764A (ja) * 2000-08-11 2002-02-19 Fujiwara Techno-Art Co Ltd 回転式培養装置の洗浄装置における給水構造
CN104611169A (zh) * 2014-12-31 2015-05-13 贵州省轻工业科学研究所 自动制曲接种机
CN114717105A (zh) * 2021-01-05 2022-07-08 宁波长荣酿造设备有限公司 种曲处理自动化系统
JP2023146144A (ja) * 2022-03-29 2023-10-12 株式会社フジワラテクノアート 残留物除去洗浄機構及び残留物除去洗浄方法

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