JPH01197631A - ガス濃度測定方法 - Google Patents
ガス濃度測定方法Info
- Publication number
- JPH01197631A JPH01197631A JP63021266A JP2126688A JPH01197631A JP H01197631 A JPH01197631 A JP H01197631A JP 63021266 A JP63021266 A JP 63021266A JP 2126688 A JP2126688 A JP 2126688A JP H01197631 A JPH01197631 A JP H01197631A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- measurement
- gas
- intensity
- concentration
- gas concentration
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 title claims description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims abstract description 31
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 19
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 claims abstract description 14
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 abstract description 8
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 abstract description 7
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 abstract description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 37
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 8
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 230000008033 biological extinction Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 238000004868 gas analysis Methods 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/25—Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
- G01N21/31—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry
- G01N21/39—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using tunable lasers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Spectrometry And Color Measurement (AREA)
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は赤外線ダイオードレーザ−を光源として排ガス
中のCo、CO2,302などのガス成分濃度を分析測
定するためのガス濃度の測定方法に関する。
中のCo、CO2,302などのガス成分濃度を分析測
定するためのガス濃度の測定方法に関する。
[従来の技術]
各種工場、プラント、発電所など大気圧付近の条件で排
ガス濃度のリアルタイムモニタリングを行う場合や化学
工場において反応ガスや生成ガス濃度により反応工程の
管理を行う場合、そのガス濃度を精度よく求めるには非
接触でガスの分析が出来る赤外ダイオードレーザガス分
析装置が有効である。
ガス濃度のリアルタイムモニタリングを行う場合や化学
工場において反応ガスや生成ガス濃度により反応工程の
管理を行う場合、そのガス濃度を精度よく求めるには非
接触でガスの分析が出来る赤外ダイオードレーザガス分
析装置が有効である。
このガス分析装置は、測定セル内に測定ガスを導入し、
測定セルを通して測定ガスに赤外レーザーを照射してそ
の透過光強度Iを測定し、他方赤外レーザーの入射光強
度Ioとを求めこれら光強度からランバートベールの法
則より、そのガス濃度を測定するものである。
測定セルを通して測定ガスに赤外レーザーを照射してそ
の透過光強度Iを測定し、他方赤外レーザーの入射光強
度Ioとを求めこれら光強度からランバートベールの法
則より、そのガス濃度を測定するものである。
すなわち、透過光強度Iは、
I = I o−e −kC’
で表わされる。
ここで、kは物質によって定まる吸光係数、Cは濃度、
Lは測定長である。
Lは測定長である。
従って、IとIoを求めれば測定ガスの成分の濃度Cを
求めることができる。
求めることができる。
−mに、この赤外ダイオードレーザによる赤外線分析計
は、従来プロセス計測で使われていた非分散形赤外線分
析計の欠点であった■ 光強度が弱く、かつ成分検出感
度が低い、■ 共存ガスの干渉、■ 水分の影響を受け
る等の問題が解決できる。
は、従来プロセス計測で使われていた非分散形赤外線分
析計の欠点であった■ 光強度が弱く、かつ成分検出感
度が低い、■ 共存ガスの干渉、■ 水分の影響を受け
る等の問題が解決できる。
[発明が解決しようとする課題]
しかしながら、赤外ダイオードレーザによる分析で測定
ガス圧が大気圧付近で測定する場合には吸収スペクトル
の線幅は圧力の影響をうけてブロード化し、検出濃度の
帯域が広くなり、このため吸収域の面積強度Sを求める
べく積分しても、積分範囲のどっかたで、その値が変化
してしまい測定精度が悪い問題がある。
ガス圧が大気圧付近で測定する場合には吸収スペクトル
の線幅は圧力の影響をうけてブロード化し、検出濃度の
帯域が広くなり、このため吸収域の面積強度Sを求める
べく積分しても、積分範囲のどっかたで、その値が変化
してしまい測定精度が悪い問題がある。
本発明は上記事情を考慮してなされたもので、赤外ダイ
オードレーザ−でガス分析を行うにおいて、その測定精
度を向上できるガス濃度の測定方法を提供することを目
的とする。
オードレーザ−でガス分析を行うにおいて、その測定精
度を向上できるガス濃度の測定方法を提供することを目
的とする。
[課題を解決するための手段]
本発明は上記の目的を達成するために、測定ガスの濃度
を赤外線ダイオードレーザ−を光源とした吸収スペクト
ルから測定する方法において、測定で得られた吸収スペ
クトルの曲線を最小自乗法にてロレンツ間数で近似させ
、その近似させた関数の式より吸収スペクトルの面積強
度を求めるようにしたものである。
を赤外線ダイオードレーザ−を光源とした吸収スペクト
ルから測定する方法において、測定で得られた吸収スペ
クトルの曲線を最小自乗法にてロレンツ間数で近似させ
、その近似させた関数の式より吸収スペクトルの面積強
度を求めるようにしたものである。
[作 用]
上記構成によれば、測定データを最小自乗法にて近似の
ロレンツ関数を求め、その近似したロレンツ関数より吸
収ピーク高さhと半値半幅Wを求めることで面積強度S
をS=h−w・πで求めることができ、この面積強度S
よりガス濃度を求めることができる。
ロレンツ関数を求め、その近似したロレンツ関数より吸
収ピーク高さhと半値半幅Wを求めることで面積強度S
をS=h−w・πで求めることができ、この面積強度S
よりガス濃度を求めることができる。
[実施例コ
以下本発明の好適実施例を添付図面に基づいて説明する
。
。
先ず、第2図により吸収スペクトルを求める装置を説明
する。
する。
第2図において、1は測定セルで、その測定セル1に、
赤外ダイオードレーザ−光2を照射すると共にミラー3
で反射された透過光4を検出するレーザ発振測定装置5
が設けられる。
赤外ダイオードレーザ−光2を照射すると共にミラー3
で反射された透過光4を検出するレーザ発振測定装置5
が設けられる。
この測定セル1にはバルブ6を介して真空ポンプ7が接
続され、またその測定セル1内に排ガスや試料ガスなど
を導入するサンプリング装置8が接続される。また測定
セル1には圧力計9が接続される。
続され、またその測定セル1内に排ガスや試料ガスなど
を導入するサンプリング装置8が接続される。また測定
セル1には圧力計9が接続される。
次にガス濃度を測定する方法を説明する。
先ず、第2図において、測定セル1内が真空ポンプ7に
て真空にされ、その状態でレーザ発振測定装置5よりレ
ーザ光2が照射されると共にその透過光4が測定される
。
て真空にされ、その状態でレーザ発振測定装置5よりレ
ーザ光2が照射されると共にその透過光4が測定される
。
次に測定セル1内に予め成分と濃度の判った試料ガスを
導入すると共に上述のようにその透過光4を検出する。
導入すると共に上述のようにその透過光4を検出する。
この真空で求めたリファレンススペクトルとサンプルス
ペクトルからなる試料ガスの吸収スペクトルから面積強
度Sを求める方法を第1図により説明する。
ペクトルからなる試料ガスの吸収スペクトルから面積強
度Sを求める方法を第1図により説明する。
第1図(a)において、Pは、リファレンススペクトル
、Qはサンプルスペクトルで夫々測定により赤外線ダイ
オードレーザ−の波長に対する入射光強度Ioと透過光
強度Iの曲線が得られる。
、Qはサンプルスペクトルで夫々測定により赤外線ダイ
オードレーザ−の波長に対する入射光強度Ioと透過光
強度Iの曲線が得られる。
この吸収スペクトルからリファレンススペクトルPの入
射光強度IoとサンプルスペクトルQの透過強度Iの比
(I/Io)を第1図(b)のように求めたのち、第1
図(C)に示すようスペクトル比の対数Jog(70/
I)を求める。
射光強度IoとサンプルスペクトルQの透過強度Iの比
(I/Io)を第1図(b)のように求めたのち、第1
図(C)に示すようスペクトル比の対数Jog(70/
I)を求める。
次に第1図(C)で得られた曲線Rは実測データであり
、各種ノイズなどにより、比較的不規則な曲線である。
、各種ノイズなどにより、比較的不規則な曲線である。
一般に吸収スペクトルの曲線は大気圧近くではロレンツ
関数の式 で表わされるため、第1図(C)で得られた曲線Rの各
波長に対するJloO(Io/I)値の各点を最小自乗
法により第1図(d)のように近似させた曲線Roを求
め、この曲線Roの式よりaとbを算出する。この曲線
Raより第1図(e)に示すようにピーク高さはb2/
a2であり、また半値半幅はaであるため全面積強度は
高さX半値半幅Xπ、すなわち a となる。
関数の式 で表わされるため、第1図(C)で得られた曲線Rの各
波長に対するJloO(Io/I)値の各点を最小自乗
法により第1図(d)のように近似させた曲線Roを求
め、この曲線Roの式よりaとbを算出する。この曲線
Raより第1図(e)に示すようにピーク高さはb2/
a2であり、また半値半幅はaであるため全面積強度は
高さX半値半幅Xπ、すなわち a となる。
この全面積強度は、第1図(C)で示した実測の曲線R
を積分して求めるのに対し、−旦ロレンツ関数で近似さ
せるため、積分範囲に影響されず、しかも正確な値を求
めることが可能となる。
を積分して求めるのに対し、−旦ロレンツ関数で近似さ
せるため、積分範囲に影響されず、しかも正確な値を求
めることが可能となる。
次に本発明の方法と従来積分に求めた面積強度の値の正
確度を第4図〜第6図により説明する。
確度を第4図〜第6図により説明する。
まず、第6図は一ωから+ωの範囲の全面積強度Soに
対し、任意の積分範囲Xで求めた面積強度Sの関係を示
す、この場合半値半幅aは測定ガス圧力により変化する
ため、パラメータとして積分範囲を半値半幅aで割った
値)c / aを積分範囲とし、そのx / aに対す
る全面積強度SOと面積強度Sの比(S/So )を示
している。
対し、任意の積分範囲Xで求めた面積強度Sの関係を示
す、この場合半値半幅aは測定ガス圧力により変化する
ため、パラメータとして積分範囲を半値半幅aで割った
値)c / aを積分範囲とし、そのx / aに対す
る全面積強度SOと面積強度Sの比(S/So )を示
している。
第6図から判るように面積強度比は積分範囲Xが大きけ
れば1に近づき、その面積強度Sは全面積強度SOに近
づくが、半値半幅aの20倍以上の範囲で積分してもそ
の面積強度比は、0.968であり、未だ完全な積分範
囲とならない。
れば1に近づき、その面積強度Sは全面積強度SOに近
づくが、半値半幅aの20倍以上の範囲で積分してもそ
の面積強度比は、0.968であり、未だ完全な積分範
囲とならない。
通常赤外ダイオードレーザは発振波長帯域は限られてお
り、従って積分範囲は限られてしまい、正確な全面積強
度SOが得られなくなる。
り、従って積分範囲は限られてしまい、正確な全面積強
度SOが得られなくなる。
次に本発明による方法と従来法による面積強度のデータ
について第4図、第5図により説明する。
について第4図、第5図により説明する。
先ず、上述したように試料ガスの濃度Cと測定セルの長
さしは予め判っているため、本発明及び従来法で求めた
面積強度Sより線強度B=S/c−Lを求める。
さしは予め判っているため、本発明及び従来法で求めた
面積強度Sより線強度B=S/c−Lを求める。
第4図は本発明の方法で求めた各面積強度Sから線強度
Bを求めた結果を示す、この場合、横軸はロレンツ関数
に近似させた波長のデータ範囲Xを半値半幅aでわった
値を示している。
Bを求めた結果を示す、この場合、横軸はロレンツ関数
に近似させた波長のデータ範囲Xを半値半幅aでわった
値を示している。
この第4図から判るように範囲Xが狭くても線強度Bは
一定0.8 xlo−3(1/1orr−cn3 )で
ある。
一定0.8 xlo−3(1/1orr−cn3 )で
ある。
このことは、レーザーの発振波長帯域が狭くてもロレン
ツ関数で近似させれば全面積強度SOに近い正確な値を
求めることができるということにある。
ツ関数で近似させれば全面積強度SOに近い正確な値を
求めることができるということにある。
一方、第5図は従来法により面積強度Sを積分で求めた
値を示す。
値を示す。
本例においては半値半幅a自体にバラツキがあるため、
便宜上横軸は実際の積分範囲(cn−’)で示した。同
図から判るように線強度Bはかなりのバラツキとなる。
便宜上横軸は実際の積分範囲(cn−’)で示した。同
図から判るように線強度Bはかなりのバラツキとなる。
換言すれば求めた面積強度Sは正確な値を示していない
ことが判る。
ことが判る。
なお、同図において積分範囲が大きくなれば(この場合
積分範囲がより0に近づく)、バラツキが収束し線強度
Bが0.8 x 1O−3(1/lorr−cn3 )
に近づいて来ることが判る。
積分範囲がより0に近づく)、バラツキが収束し線強度
Bが0.8 x 1O−3(1/lorr−cn3 )
に近づいて来ることが判る。
以上は予めその試料ガスのガス濃度が判っている場合の
測定法を述べたが、実際の測定ガスの面積強度Sを求め
る場合には第1図で示した方法にて同様に面積強度Sを
求める。・ また面積強度Sから測定ガスのガス濃度を算出する場合
には予めガス濃度の判った試料ガスの面積強度Sと濃度
Cの関係を第3図のように実験で求めておき、求めた面
積強度Sからガス濃度を求めることができる。
測定法を述べたが、実際の測定ガスの面積強度Sを求め
る場合には第1図で示した方法にて同様に面積強度Sを
求める。・ また面積強度Sから測定ガスのガス濃度を算出する場合
には予めガス濃度の判った試料ガスの面積強度Sと濃度
Cの関係を第3図のように実験で求めておき、求めた面
積強度Sからガス濃度を求めることができる。
[発明の効果]
以上説明してきたことから明らかなように本発明によれ
ば、次のごとき優れた効果を発揮する。
ば、次のごとき優れた効果を発揮する。
(1) 吸収スペクトルの曲線を最小自乗法にてロレ
ンツ関数で近似させ、その近似させた式より面積強度を
求めることで、正確なガス濃度測定が行える。
ンツ関数で近似させ、その近似させた式より面積強度を
求めることで、正確なガス濃度測定が行える。
(2) ダイオードレーザの発振波長帯域が広狭に係
わらず正確なガス濃度を求めることが可能となる。
わらず正確なガス濃度を求めることが可能となる。
第1図は本発明の方法の過程を示す説明図、第2図は本
発明における測定装置の概略図、第3図は本発明におい
てガス濃度と吸収スペクトルの面積強度の関係を示す図
、第4図は本発明において測定範囲に対する線強度の関
係を示す図、第5図は従来法における積分範囲と線強度
の関係を示す図、第6図は半値半幅をパラメータにした
積分範囲と面積強度比の関係を示す図である。 図中、1は測定セル、2は赤外ダイオードレーザ光、4
は透過光、5はレーザ発振測定装置である。 特許出願人 石川島播磨重工業株式会社代理人弁理士
絹 谷 信 雄第2図 力”ス膿度 第3図 第4図 舖今艶回<crrr’)
発明における測定装置の概略図、第3図は本発明におい
てガス濃度と吸収スペクトルの面積強度の関係を示す図
、第4図は本発明において測定範囲に対する線強度の関
係を示す図、第5図は従来法における積分範囲と線強度
の関係を示す図、第6図は半値半幅をパラメータにした
積分範囲と面積強度比の関係を示す図である。 図中、1は測定セル、2は赤外ダイオードレーザ光、4
は透過光、5はレーザ発振測定装置である。 特許出願人 石川島播磨重工業株式会社代理人弁理士
絹 谷 信 雄第2図 力”ス膿度 第3図 第4図 舖今艶回<crrr’)
Claims (1)
- 1、測定ガスの濃度を赤外線ダイオードレーザを光源と
した吸収スペクトルから測定する方法において、測定で
得られた吸収スペクトルの曲線を最小自乗法にてロレン
ツ関数で近似させ、その近似させた関数の式より吸収ス
ペクトルの面積強度を求めることを特徴とするガス濃度
測定方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63021266A JPH01197631A (ja) | 1988-02-02 | 1988-02-02 | ガス濃度測定方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63021266A JPH01197631A (ja) | 1988-02-02 | 1988-02-02 | ガス濃度測定方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01197631A true JPH01197631A (ja) | 1989-08-09 |
Family
ID=12050303
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63021266A Pending JPH01197631A (ja) | 1988-02-02 | 1988-02-02 | ガス濃度測定方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01197631A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002361040A (ja) * | 2001-06-12 | 2002-12-17 | Takuma Co Ltd | 排ガス処理の制御方法とその制御機構 |
| US8216447B2 (en) | 2002-06-10 | 2012-07-10 | O.I. Corporation | Total organic compound (TOC) analyzer |
| CN103454242A (zh) * | 2013-09-27 | 2013-12-18 | 中安消技术有限公司 | 一种气体浓度测量方法及其系统 |
| US8679408B2 (en) | 2006-02-09 | 2014-03-25 | O.I. Corporation | Total organic carbon analysis |
| JP2025019934A (ja) * | 2023-07-28 | 2025-02-07 | 横河電機株式会社 | 測定装置及び測定方法 |
-
1988
- 1988-02-02 JP JP63021266A patent/JPH01197631A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002361040A (ja) * | 2001-06-12 | 2002-12-17 | Takuma Co Ltd | 排ガス処理の制御方法とその制御機構 |
| US8216447B2 (en) | 2002-06-10 | 2012-07-10 | O.I. Corporation | Total organic compound (TOC) analyzer |
| US8679408B2 (en) | 2006-02-09 | 2014-03-25 | O.I. Corporation | Total organic carbon analysis |
| CN103454242A (zh) * | 2013-09-27 | 2013-12-18 | 中安消技术有限公司 | 一种气体浓度测量方法及其系统 |
| JP2025019934A (ja) * | 2023-07-28 | 2025-02-07 | 横河電機株式会社 | 測定装置及び測定方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP2606324B1 (en) | Optical signal processing method and apparatus for analysing time-decay signals | |
| CN109991189B (zh) | 一种基于波数漂移修正的固定点波长调制气体浓度测量装置及其测量方法 | |
| US8970842B2 (en) | Multi-harmonic inline reference cell for optical trace gas sensing | |
| CA1179861A (en) | Method and apparatus for measuring the concentration of gaseous hydrogen fluoride | |
| CN204924934U (zh) | 基于两种量子级联激光光谱的多组分气体同时检测装置 | |
| US20100242572A1 (en) | Wavelength modulation spectroscopy for simultaneous measurement of two or more gas ingredients | |
| CN101109701A (zh) | 多成分气体在线检测方法及装置 | |
| KR20080085747A (ko) | 가스 농도의 정량 분석 방법 및 장치 | |
| EP0656535A1 (en) | Apparatus of non-dispersive infrared analyzer | |
| CN117388204B (zh) | 一氧化氮气体分析系统、方法及计算机可读存储介质 | |
| JPH01197631A (ja) | ガス濃度測定方法 | |
| CN111220571A (zh) | 一种基于幅值离散度的二次谐波信号拟合方法及系统 | |
| CN119619066B (zh) | 针对烟囱管道的废气检测方法和装置 | |
| CN118464838A (zh) | 一种二氧化碳浓度测量装置和方法 | |
| CN117990641A (zh) | 基于中红外吸收光谱的天然气泄漏痕量气体同步测量方法 | |
| JPH07198600A (ja) | フーリエ変換多成分連続吸光分析計 | |
| CN114235701B (zh) | 一种实时自校准痕量气体浓度的检测装置 | |
| JPS60205336A (ja) | スペクトル分析装置における混在物質の干渉スペクトル除去処理方式 | |
| CN117405619A (zh) | 一种基于波长调制技术的多组分红外气体分析方法与装置 | |
| Zhang et al. | Research on CO2 detection system in refrigerated compartment of agricultural products based on TDLAS technology | |
| CN110231313B (zh) | 一种激光气体分析仪在线零点校准方法及装置 | |
| CN113640248A (zh) | 一种气体多组分浓度在位监测方法 | |
| RU2319136C1 (ru) | Способ определения относительной концентрации изотопомеров двуокиси углерода 12со2 и 13со2 и устройство для его осуществления | |
| Werle | Analytical applications of infrared semiconductor lasers in atmospheric trace gas monitoring | |
| EP0248797A1 (en) | Computer controlled tuning of lasers |