JPH01197631A - ガス濃度測定方法 - Google Patents

ガス濃度測定方法

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JPH01197631A
JPH01197631A JP63021266A JP2126688A JPH01197631A JP H01197631 A JPH01197631 A JP H01197631A JP 63021266 A JP63021266 A JP 63021266A JP 2126688 A JP2126688 A JP 2126688A JP H01197631 A JPH01197631 A JP H01197631A
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JP
Japan
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measurement
gas
intensity
concentration
gas concentration
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Pending
Application number
JP63021266A
Other languages
English (en)
Inventor
Hideto Yoshida
秀人 吉田
Fumihiko Yamaguchi
文彦 山口
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IHI Corp
Original Assignee
Ishikawajima Harima Heavy Industries Co Ltd
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Publication date
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Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/17Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
    • G01N21/25Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
    • G01N21/31Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry
    • G01N21/39Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using tunable lasers

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  • Physics & Mathematics (AREA)
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  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Spectrometry And Color Measurement (AREA)
  • Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は赤外線ダイオードレーザ−を光源として排ガス
中のCo、CO2,302などのガス成分濃度を分析測
定するためのガス濃度の測定方法に関する。
[従来の技術] 各種工場、プラント、発電所など大気圧付近の条件で排
ガス濃度のリアルタイムモニタリングを行う場合や化学
工場において反応ガスや生成ガス濃度により反応工程の
管理を行う場合、そのガス濃度を精度よく求めるには非
接触でガスの分析が出来る赤外ダイオードレーザガス分
析装置が有効である。
このガス分析装置は、測定セル内に測定ガスを導入し、
測定セルを通して測定ガスに赤外レーザーを照射してそ
の透過光強度Iを測定し、他方赤外レーザーの入射光強
度Ioとを求めこれら光強度からランバートベールの法
則より、そのガス濃度を測定するものである。
すなわち、透過光強度Iは、 I = I o−e −kC’ で表わされる。
ここで、kは物質によって定まる吸光係数、Cは濃度、
Lは測定長である。
従って、IとIoを求めれば測定ガスの成分の濃度Cを
求めることができる。
−mに、この赤外ダイオードレーザによる赤外線分析計
は、従来プロセス計測で使われていた非分散形赤外線分
析計の欠点であった■ 光強度が弱く、かつ成分検出感
度が低い、■ 共存ガスの干渉、■ 水分の影響を受け
る等の問題が解決できる。
[発明が解決しようとする課題] しかしながら、赤外ダイオードレーザによる分析で測定
ガス圧が大気圧付近で測定する場合には吸収スペクトル
の線幅は圧力の影響をうけてブロード化し、検出濃度の
帯域が広くなり、このため吸収域の面積強度Sを求める
べく積分しても、積分範囲のどっかたで、その値が変化
してしまい測定精度が悪い問題がある。
本発明は上記事情を考慮してなされたもので、赤外ダイ
オードレーザ−でガス分析を行うにおいて、その測定精
度を向上できるガス濃度の測定方法を提供することを目
的とする。
[課題を解決するための手段] 本発明は上記の目的を達成するために、測定ガスの濃度
を赤外線ダイオードレーザ−を光源とした吸収スペクト
ルから測定する方法において、測定で得られた吸収スペ
クトルの曲線を最小自乗法にてロレンツ間数で近似させ
、その近似させた関数の式より吸収スペクトルの面積強
度を求めるようにしたものである。
[作 用] 上記構成によれば、測定データを最小自乗法にて近似の
ロレンツ関数を求め、その近似したロレンツ関数より吸
収ピーク高さhと半値半幅Wを求めることで面積強度S
をS=h−w・πで求めることができ、この面積強度S
よりガス濃度を求めることができる。
[実施例コ 以下本発明の好適実施例を添付図面に基づいて説明する
先ず、第2図により吸収スペクトルを求める装置を説明
する。
第2図において、1は測定セルで、その測定セル1に、
赤外ダイオードレーザ−光2を照射すると共にミラー3
で反射された透過光4を検出するレーザ発振測定装置5
が設けられる。
この測定セル1にはバルブ6を介して真空ポンプ7が接
続され、またその測定セル1内に排ガスや試料ガスなど
を導入するサンプリング装置8が接続される。また測定
セル1には圧力計9が接続される。
次にガス濃度を測定する方法を説明する。
先ず、第2図において、測定セル1内が真空ポンプ7に
て真空にされ、その状態でレーザ発振測定装置5よりレ
ーザ光2が照射されると共にその透過光4が測定される
次に測定セル1内に予め成分と濃度の判った試料ガスを
導入すると共に上述のようにその透過光4を検出する。
この真空で求めたリファレンススペクトルとサンプルス
ペクトルからなる試料ガスの吸収スペクトルから面積強
度Sを求める方法を第1図により説明する。
第1図(a)において、Pは、リファレンススペクトル
、Qはサンプルスペクトルで夫々測定により赤外線ダイ
オードレーザ−の波長に対する入射光強度Ioと透過光
強度Iの曲線が得られる。
この吸収スペクトルからリファレンススペクトルPの入
射光強度IoとサンプルスペクトルQの透過強度Iの比
(I/Io)を第1図(b)のように求めたのち、第1
図(C)に示すようスペクトル比の対数Jog(70/
I)を求める。
次に第1図(C)で得られた曲線Rは実測データであり
、各種ノイズなどにより、比較的不規則な曲線である。
一般に吸収スペクトルの曲線は大気圧近くではロレンツ
関数の式 で表わされるため、第1図(C)で得られた曲線Rの各
波長に対するJloO(Io/I)値の各点を最小自乗
法により第1図(d)のように近似させた曲線Roを求
め、この曲線Roの式よりaとbを算出する。この曲線
Raより第1図(e)に示すようにピーク高さはb2/
a2であり、また半値半幅はaであるため全面積強度は
高さX半値半幅Xπ、すなわち a となる。
この全面積強度は、第1図(C)で示した実測の曲線R
を積分して求めるのに対し、−旦ロレンツ関数で近似さ
せるため、積分範囲に影響されず、しかも正確な値を求
めることが可能となる。
次に本発明の方法と従来積分に求めた面積強度の値の正
確度を第4図〜第6図により説明する。
まず、第6図は一ωから+ωの範囲の全面積強度Soに
対し、任意の積分範囲Xで求めた面積強度Sの関係を示
す、この場合半値半幅aは測定ガス圧力により変化する
ため、パラメータとして積分範囲を半値半幅aで割った
値)c / aを積分範囲とし、そのx / aに対す
る全面積強度SOと面積強度Sの比(S/So )を示
している。
第6図から判るように面積強度比は積分範囲Xが大きけ
れば1に近づき、その面積強度Sは全面積強度SOに近
づくが、半値半幅aの20倍以上の範囲で積分してもそ
の面積強度比は、0.968であり、未だ完全な積分範
囲とならない。
通常赤外ダイオードレーザは発振波長帯域は限られてお
り、従って積分範囲は限られてしまい、正確な全面積強
度SOが得られなくなる。
次に本発明による方法と従来法による面積強度のデータ
について第4図、第5図により説明する。
先ず、上述したように試料ガスの濃度Cと測定セルの長
さしは予め判っているため、本発明及び従来法で求めた
面積強度Sより線強度B=S/c−Lを求める。
第4図は本発明の方法で求めた各面積強度Sから線強度
Bを求めた結果を示す、この場合、横軸はロレンツ関数
に近似させた波長のデータ範囲Xを半値半幅aでわった
値を示している。
この第4図から判るように範囲Xが狭くても線強度Bは
一定0.8 xlo−3(1/1orr−cn3 )で
ある。
このことは、レーザーの発振波長帯域が狭くてもロレン
ツ関数で近似させれば全面積強度SOに近い正確な値を
求めることができるということにある。
一方、第5図は従来法により面積強度Sを積分で求めた
値を示す。
本例においては半値半幅a自体にバラツキがあるため、
便宜上横軸は実際の積分範囲(cn−’)で示した。同
図から判るように線強度Bはかなりのバラツキとなる。
換言すれば求めた面積強度Sは正確な値を示していない
ことが判る。
なお、同図において積分範囲が大きくなれば(この場合
積分範囲がより0に近づく)、バラツキが収束し線強度
Bが0.8 x 1O−3(1/lorr−cn3 )
に近づいて来ることが判る。
以上は予めその試料ガスのガス濃度が判っている場合の
測定法を述べたが、実際の測定ガスの面積強度Sを求め
る場合には第1図で示した方法にて同様に面積強度Sを
求める。・ また面積強度Sから測定ガスのガス濃度を算出する場合
には予めガス濃度の判った試料ガスの面積強度Sと濃度
Cの関係を第3図のように実験で求めておき、求めた面
積強度Sからガス濃度を求めることができる。
[発明の効果] 以上説明してきたことから明らかなように本発明によれ
ば、次のごとき優れた効果を発揮する。
(1)  吸収スペクトルの曲線を最小自乗法にてロレ
ンツ関数で近似させ、その近似させた式より面積強度を
求めることで、正確なガス濃度測定が行える。
(2)  ダイオードレーザの発振波長帯域が広狭に係
わらず正確なガス濃度を求めることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の方法の過程を示す説明図、第2図は本
発明における測定装置の概略図、第3図は本発明におい
てガス濃度と吸収スペクトルの面積強度の関係を示す図
、第4図は本発明において測定範囲に対する線強度の関
係を示す図、第5図は従来法における積分範囲と線強度
の関係を示す図、第6図は半値半幅をパラメータにした
積分範囲と面積強度比の関係を示す図である。 図中、1は測定セル、2は赤外ダイオードレーザ光、4
は透過光、5はレーザ発振測定装置である。 特許出願人  石川島播磨重工業株式会社代理人弁理士
  絹   谷   信   雄第2図 力”ス膿度 第3図 第4図 舖今艶回<crrr’)

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、測定ガスの濃度を赤外線ダイオードレーザを光源と
    した吸収スペクトルから測定する方法において、測定で
    得られた吸収スペクトルの曲線を最小自乗法にてロレン
    ツ関数で近似させ、その近似させた関数の式より吸収ス
    ペクトルの面積強度を求めることを特徴とするガス濃度
    測定方法。
JP63021266A 1988-02-02 1988-02-02 ガス濃度測定方法 Pending JPH01197631A (ja)

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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002361040A (ja) * 2001-06-12 2002-12-17 Takuma Co Ltd 排ガス処理の制御方法とその制御機構
US8216447B2 (en) 2002-06-10 2012-07-10 O.I. Corporation Total organic compound (TOC) analyzer
CN103454242A (zh) * 2013-09-27 2013-12-18 中安消技术有限公司 一种气体浓度测量方法及其系统
US8679408B2 (en) 2006-02-09 2014-03-25 O.I. Corporation Total organic carbon analysis
JP2025019934A (ja) * 2023-07-28 2025-02-07 横河電機株式会社 測定装置及び測定方法

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