JPH01199403A - バリスタ - Google Patents

バリスタ

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Publication number
JPH01199403A
JPH01199403A JP63104710A JP10471088A JPH01199403A JP H01199403 A JPH01199403 A JP H01199403A JP 63104710 A JP63104710 A JP 63104710A JP 10471088 A JP10471088 A JP 10471088A JP H01199403 A JPH01199403 A JP H01199403A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
varistor
superconductor
voltage
insulating layer
microcrystal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP63104710A
Other languages
English (en)
Inventor
Jiyunji Hinatsu
日夏 順次
Yoshifumi Matsushita
松下 嘉文
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
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Publication of JPH01199403A publication Critical patent/JPH01199403A/ja
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  • Thermistors And Varistors (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、電子回路のサージ抑制用バリスタおよび電力
分野において避雷器に用いられるバリスタに関する。
(従来の技術) バリスタは電圧−電流特性が非直線的に変化する抵抗素
子であり、従来よりSiC、ZnOなどの半導体微結晶
を用いたものが知られている。
第2a図は、特公昭55−3801に開示されているZ
nO系バリスタの焼結粒子の配列例を模型的に示す断面
図であり、(11)は半導体微結晶(ZnO系> 、Q
2)は境界絶縁層(Bi203)、[F]は電極である
第2b図は第2a図の部分拡大図であり、境界絶縁層O
zを介して隣接する半導体微結晶01)が示されている
第2a図において、各半導体微結晶01)の抵抗は境界
絶縁層Ozに比較して小さいので、電極nに電圧が印加
されると各境界絶縁層0りに電圧が印加される。
第38図ないし第3C図に第2b図中のI (A)−(
B)に沿う電子のポテンシャルの様子を示す。電極eに
電圧が印加されていない状態では第3a図に示されるよ
うに、半導体微結晶01)中の伝導電子のポテンシャル
が境界絶縁層Oz中の電子のポテンシャルに比較して非
常に低く、境界絶縁層(121は半導体微結晶01)中
の自由電子にとって1種の障壁となっている。
電極に電圧が印加された状態でも、電圧(vapp)が
小さいばあいには、第3b図に示すように、前記障壁の
高さ、幅ともに依然として大きく、境界絶縁層(+21
の大きな抵抗により電流は制限される。
しかし、さらに大きな電圧(v’app)が印加された
ばあいは、第3C図に見られるようにポテンシャルは大
きく傾斜するようになり、(Al側の半導体微結晶01
)中の自由電子にとって障壁の幅は狭くなり、トンネリ
ングが可能となる。このため、抵抗が小さくなり、電流
が増大しても電圧は増大しない。
第2a図に示される従来のバリスタの電圧−電流特性を
第4図に曲線0Φで示す。
第4図において(S)は小電流領域、(H)は中電流領
域、(し)は大電流領域を表わす。すなわち、従来のバ
リスタにおいては、小電流領域では電流の増大にしたが
って電圧も上昇し、中電流領域では電流が増大しても電
圧はほとんど上昇せず平坦な電圧−電流特性になるとい
う良好なバリスタ特性を示すが、大電流領域では電流の
増大にともなって電圧が再び上昇する。
〔発明が解決しようとする課題〕
従来のバリスタでは半導体微結晶の抵抗のために、前述
のとおり、第4図に示される大電流領域において、電流
の増大にともなって電圧が再び上昇するという好ましく
ない特性を有し、そのため、たとえば大電流サージに対
してサージ抑制効果に限界があるなどという欠点を有し
ている。
本発明は大電流領域でも電流の増大によって電圧が上昇
しない高性能のバリスタをうろことを目的としている。
〔課題を解決するための手段〕
本発明は、超電導体微結晶とそのまわりをとりまく絶縁
層とからなる抵抗体を有するバリスタに関する。
〔作 用〕
本発明のバリスタは、従来の半導体微結晶にかえて超電
導体微結晶を用いているので、大電流領域においても電
流の増大によって電圧が上昇しないというすぐれた特性
を有する高性能のバリスタがえられる。
〔実施例〕
本発明に用いる超電導体微結晶としては、バリスタの製
造工程を経たのち、その使用条件下で超電導性を示す微
結晶であれば、とくに制限なく用いることができる。
そのような超電導体微結晶の具体的な例としては、’/
Ba2 Cu307で表わされる超電導体などの超電導
体の微結晶があげられるが、これに限定されるものでは
ない。
前記超電導体微結晶は、組成、混合方法、焼成方法など
によって異なった臨界温度を有しているが、使用温度の
制約が少ない、たとえば希土類元素を含む銅酸化物系超
電導体などの室温超電導体の微結晶が好ましい。
前記室温超電導体としては、臨界温度50℃のイツトリ
ウム(Y)、バリウム(Ba)、銅(Cu )、酸素(
0)の化合物系超電導体が工業技術院電子技術総合研究
所において開発されており([日経マイクロデバイスJ
 、1987年8月号)、また、臨界温度52℃のユー
ロピウム(Eu)、バリウム(Ba)、銅(Cu)、酸
素(0)の化合物系超電導体が米国ロッキード・ミサイ
ルズ・アンド・スペース社において開発されており(日
本経済新聞、昭和62年9月3日付朝刊)、さらに、臨
界温度65℃のイツトリウム(Y)、/<IJウム(B
a)、ストロンチウム(Sr)、銅(Cu)、酸素(0
)の化合物系超電導体が工業技術院電子技術総合研究所
において開発されており(朝日新聞、昭和62年8月1
8日付朝刊)、また、臨界温度35℃のイツトリウム(
Y)、バリウム(Ba)、スカンジウム(Sc)、スト
ロンチウム(Sr)、銅(CI)、酸素(0)の化合物
系超電導体がソ連・モスクワ大学低温研究所において開
発されている(日本経済新聞、昭和62年6月9日付朝
刊)。
前記超電導体微結晶の調製方法にもとくに制限はなく、
粉末法、アルコキシド法、共沈法などの方法を用いるこ
とができる。たとえば、前記YBa2 Cu307超電
導体の微結晶は、Y2O3、BaCO3、CuOをその
配合比がモル比で1 /4/6となるように乳鉢によっ
て均質に混合し、酸素雰囲気中、約1000℃で3時間
焼成し、要すれば、600℃、1時間以上などの条件で
熱処理し、えられた焼結体を粉砕することによってえら
れる。
前記超電導体微結晶の粒径にもとくに制限はなく、10
0項程度以下であれば使用しうるが、5n以下のものが
好ましい。
本発明に用いる絶縁層にもとくに制限はなく、バリスタ
の境界絶縁層または粒界層として通常使用される絶縁層
であれば用いることができ、その具体例としては、Bi
2O3,5i02、M2O3などからなる絶縁層があげ
られる。
前記超電導体微結晶とそのまわりをとりまく前記絶縁層
とからなる抵抗体を有する本発明のバリスタは、たとえ
ば、超電導体微結晶に対して絶縁層を形成する材料を重
量比で0.1〜5%となるように混合し、えられた混合
物をスプレードライヤーによって造粒し、プレス後、焼
結して抵抗体に成形し、通常の方法などで電極を取付る
ことによって製造される。
本発明のバリスタを使用しうる温度、電圧、電流などの
条件は、使用する超電導体微結晶の種類、バリスタの寸
法などによっても異なるが、たとえばYBaz Cu3
07で表わされる超電導体を使用したばあいには温度が
100°に以下、一般に、電流値が200000A以下
の条件下で使用でき、通常、1b時間程度の寿命を有す
る。
第1図は本発明のバリスタの微結晶の配列例を模型的に
示す断面図であり、(1)は超電導体微結晶、(2)は
絶縁層、(3)は電極を示す。
なお、絶縁層(2)および電極(3)は、第2a図にお
ける境界絶縁層02]および電極口とそれぞれ実質的に
同じものである。
第1図において、絶縁層(2は、ジョセフソン効果を有
さない、充分厚いものとなっている。このため、バリス
タの抵抗値は、小電流領域では従来のバリスタと同様に
絶縁層(2)の抵抗値により決定される。また中電流領
域においては、ポテンシャルの変形により電子のトンネ
リングが生じ、従来と同様のバリスタ特性がえられる。
しかし、本発明のバリスタは前記超電導体微結晶(1)
を有しているため、大電流領域においても超電導体微結
晶の抵抗値がゼロであるのでバリスタにかかる電圧は上
昇せずに中電流領域と同様に平坦なバリスタ特性がえら
れる。
さらに超電導体微結晶として、前記室温超電導体を用い
たばあいには、室温においても同様に平坦な特性がえら
れる。
本発明のバリスタの電圧−電流特性の一例を第4図に曲
線(4)で示す。従来のバリスタ素子の特性は曲線0Φ
で表わされている。従来のバリスタでは、大電流領域に
おいて電流が増大するにつれて電圧も増大しているが、
本発明のバリスタでは、大電流領域においても電流の増
大にともなって電圧が上昇せず、すぐれたバリスタ特性
を有していることがわかる。
(発明の効果) 本発明によれば、超電導体微結晶を用いて、バリスタを
構成したので、大電流領域においても、平坦性の良い電
気特性をもつバリスタがえられる効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明のバリスタの微結晶の配列例を模型的に
示す断面図、第2a図は従来のバリスタの焼結粒子の配
列例を模型的に示す断面図、第2b図は第2a図の部分
拡大図、第3a図〜第3C図は境界絶縁層近傍のポテン
シャルをその印加電圧に対して示した図、第4図は本発
明のバリスタおよび従来のバリスタの電圧−電流特性の
一例を示す図である。 (図面の主要符号) (1):超電導体微結晶 +21 :絶縁層 (3):電 極 代  理  人      大   岩   増   
雄第1 図 1:超電導体微結晶 2:絶縁層 3:電極

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)超電導体微結晶とそのまわりをとりまく絶縁層と
    からなる抵抗体を有するバリスタ。
JP63104710A 1987-10-23 1988-04-26 バリスタ Pending JPH01199403A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63104710A JPH01199403A (ja) 1987-10-23 1988-04-26 バリスタ

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP26892087 1987-10-23
JP62-268920 1987-10-23
JP63104710A JPH01199403A (ja) 1987-10-23 1988-04-26 バリスタ

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH01199403A true JPH01199403A (ja) 1989-08-10

Family

ID=26445117

Family Applications (1)

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JP63104710A Pending JPH01199403A (ja) 1987-10-23 1988-04-26 バリスタ

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JP (1) JPH01199403A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7019382B2 (en) * 2001-09-06 2006-03-28 Infineon Technologies Ag Arrangement for ESD protection of an integrated circuit
EP1609549A4 (en) * 2003-03-31 2008-04-16 Nsk Ltd MAIN SHAFT ASSEMBLY AND MACHINE TOOL COMPRISING SAID ASSEMBLY
JP2024177080A (ja) * 2023-06-09 2024-12-19 テラ クアンタム アーゲー バリスタ装置及びバリスタ装置の操作方法

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