JPH01209651A

JPH01209651A - アーク位置制御のため磁界または電界を利用する高輝度アーク放電光源

Info

Publication number: JPH01209651A
Application number: JP1005063A
Authority: JP
Inventors: Jr Harold L Rothwell; ハロルド・エル・ロスウェル・ジュニア; George J English; ジョージ・ジェイ・イングリッシュ; Robert E Levin; ロバート・イー・レビン
Original assignee: GTE Products Corp
Current assignee: Osram Sylvania Inc
Priority date: 1988-01-14
Filing date: 1989-01-13
Publication date: 1989-08-23
Also published as: EP0324651A1

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】本発明によれば、高輝度アーク放電ランプが、アーク放
電ランプ内のアークへの磁界の印加により制御される。

ある制御態様で磁界を変化させることにより、アークラ
ンプ内のアークの位置が制御される。磁界を伴うアーク
の制御を第１Ａ図〜第１Ｄ図を参照しつつ説明する。第
１Ａ図〜第１Ｄ図の各図では、明るいアーク放電が一対
の電極１０および１２の間に形成される。適当な動作電
圧の印加によりイオン化してアーク放電を形成する充填
材料を含むアーク管内にアークが形成されることが理解
されよう、明瞭なアークが一対の電極間に形成されるメ
タルハライドランプ、水銀蒸気ランプ、高圧カナトリウ
ムランプまたはそのほかのアーク放電ランプにおけるア
ークの位置を制御するのに磁界が使用できる。アーク放
電ランプの構成の詳細は簡単のため省略することとする
。なぜならそれらは当技術分野でよく知られておりそし
て本発明の要部を構成するものではないからである。

なんらの磁界も印加されないアーク１４が第１Ａ図に図
示されている。アーク軸線１６が電極１０と１２との間
の真直なラインとして画定される。アーク放電ランプが
アーク軸線１６が水平方向の配向で動作せられるとき、
アーク１４はアーク管内の対流電流の結果として、上方
に弧を描く。

第１Ｂ図を説明すると、磁界Ｂがアーク１４に印加され
、アークが第１Ａ図に図示の位置から偏倚される。アー
ク１４は荷電粒子のプラズマから成り、電極１０と電極
１２との間にアークに関連の電流ｉを有する。磁界Ｂは
電流ｉと相互作用を行ない、アーク１４の荷電粒子に力
Ｆ８が発生する。結果的に生ずる力Ｆａは、電流ｉの方
向および磁界Ｂの方向に垂直である。一般に、磁界は任
意の所望の方向を有することができるが、少くともアー
ク１４に垂直な成分を持たなければならない、なぜなら
、垂直成分がアーク１４の力ＦＢを決定するからである
。さらに、磁界は、アーク内で移動する荷電粒子と相互
作用を行なうよう、アーク１４の領域に暴露されねばな
らない。よく知られる電磁気の原理によれば、力Ｆｅは
、Ｆａ＝　　１ｌＢｓｉｎθ （ここで、ｉはプラズマ電流であり、ｌは電極１０と１
２との間のアーク長さであり、Ｂは印加される磁界であ
り、そしてθはプラズマ電流ｉと磁界Ｂとの成す角度で
ある）により与えられる。第１Ｂ図に図示されるように
、アーク１４は、アーク軸線１６と一致するよ゛う下方
に偏倚される。第１Ｃ図において磁界の大きさは増大さ
れ、その結果、アーク１４はアーク軸線１６の下方へ偏
倚される。電極１０および１２で終端するアーク１４の
端部は磁界により偏倚されないことは理解されよう、ア
ーク１４の端部間の部分が偏倚される部分である。

印加される磁界Ｂは、対流電流によるアークの上向きの
彎曲に抵抗するものとして、第１Ｂ図および第１Ｃ図に
図示されているけれども、アーク管は任意の所望の配向
を有することができ、印加される磁界も、少くともアー
ク１４に垂直な成分を有する条件の下で、アークについ
て任意の所望の配向を有することができることが理解さ
れよう、磁界Ｂの大きさの増減によって、アーク１４の
偏倚は、その通常の位置から、以下に詳細に説明する態
様で制御される。

磁界が固定したアークの偏倚をアークランプに発生する
ためには、磁界とアーク電流とが固定した瞬間的方向関
係を有することが必要である。これは、アーク電流の方
向と磁界の方向の両方がアークの移動が所望される場合
以外は固定される直流ランプの場合容易に達成される。

交流アークランプの場合、電流方向は連続的に変化して
おり、アーク電流に関して同様の周波数と固定した位相
を有する磁界を印加することが必要である。

かくして、磁界およびアーク電流は固定した偏倚が発生
するよう互いに追従する。この関係が維持されない場合
には、ビームの有効な拡張動作が発生する。

直流電源より動作するアークランプでは、アーク電流ｉ
は一定の大きさおよび方向を有する。この場合、直流磁
界の印加によって、アーク１４の固定した偏倚が生ずる
。偏倚の方向は、アーク電流および印加される磁界の方
向に垂直である。偏倚の大きさは、印加される磁界の大
きさの関数である。

交流電源より動作するアークランプの場合、アーク電流
は、正弦的な態様で変化し、直流磁界は正弦的に変化す
る力がアークに印加されるようにする。効果として、ア
ークは急激に振動しそして人間の眼には広げられないし
拡張されるように現われる。交流のアーク電流を有する
アークの固定した偏倚を得るためには、アーク電流と同
様の時間変動を有する磁界を印加することが必要である
。たとえば、アーク電流が正弦的に変化するとき、アー
ク電流と同様の周波数を有しそしてアーク電流に対し位
相が固定される磁界により一定の方向および大きさの偏
倚が発生する。これは、実際には同じ交流源よりランプ
そして磁界を賦活することにより達成可能である。アー
ク偏倚は、交流磁界の大きさを変化させそしてアーク電
流に関して固定した位相および同様の周波数を維持する
ことにより変化できる。アーク偏倚の方向は磁界の位相
を、アーク電流に関して逆転することにより逆転できる
。

種々の場合、以後詳細に説明するように、光ビームのフ
ォーカス（焦点合せ）を変化させるためにアークが通常
のものよりも広いように、アークを拡張することが所望
される。アーク１４の拡張動作は交流磁界を、直流電流
を有するアークへ印加するか、または直流磁界を、交流
電流を有するアークへ印加することにより第１Ｄ図に図
示されるように実現できる。代替的に、交流アークはア
ーク電流の周波数と異なる周波数を有する交流磁界によ
り拡張できる。各場合に、ビームに結果的に生ずる力は
時間変化しており、そしてアーク拡張動作として現われ
る時間変化するアーク偏倚が生ずる。交流および直流の
アーク電流に必要とされる磁界を表１に要約する。

表１アーク電流　偏倚が固定されるため　アーク拡張の磁界
　　　　　　　　動作のための磁界交流　　　アーク電流に関して同　アーク電流様の周波
数および固定　周波数と異された位相の交流　　　なる周波数の交流または直流直流　　　　　　　直流　　　　　　交流磁気的に偏倚
されるアークを有するアークランプを利用する光学系が
第２図に図示される。メタルハライドアークランプのよ
うなアークランプ２０が、そのアーク軸線２２を水平方
向にして配向される。アークランプ２０はメタルハライ
ドランプとすることができる。アークランプ２０のため
の電源は簡単のため第２図で省略されている。

なぜなら、アークランプの電源は当技術分野でよく知ら
れているからである。アークランプ２０のアーク２１の
像がレンズ２４によりアパーチャ２８を有するアパーチ
ャプレート部材で像を結ぶ。−例示の実施例では、第２
図の光学系は、投射レンズ２９がアパーチャ２８の像を
投射してビームパターン３０が投射スクリーン（図示せ
ず）に形成される投射光学系とされる。光軸３４がアー
ク２１、レンズ２４、アパーチャ２８および投射レンズ
２９を通ずる。

磁気装置３２が光軸３４に平行な磁界を発生する。磁界
によりアーク２１が光軸３４に垂直な方向で上方または
下方に偏倚される。その結果、アーク２１の像はアパー
チャ２８に関して偏倚され、ビームパターン３０の強度
が変化する。

好ましい例では、アークランプ２０は６０ヘルツの交流
電源により賦活される。磁気装置３２は光軸３４に垂直
な平面内に配向される導電性コイル４０を備えそしてア
ーク２１に接近して位置決めされる。コイル４０は変成
器４２を通じて制御ユニット４４へ結合される導電体か
ら成る複数巻きを備える。制御ユニット４４は６０ヘル
ツの交流電力を受容しそして制御信号により制御される
電流をコイル４０へ供給する。コイル４０が発生する磁
界の大きさはコイルを通じて供給される交流電流の関数
である。したがって、制御信号は直接的にアーク２１の
位置およびビームパターン３０の強度を制御する。制御
ユニット４４は、可変変成器またはコイル４０へ供給さ
れる電流を制御するためのそのほかの任意の適当な装置
とすることができる。

磁界により制御可能に偏倚されるアークを有するアーク
ランプを利用する別の光学系が第３図に図示される。ア
ークランプ５０は、そのアーク軸線が光軸５２と一致す
るよう配向される。アークランプ５０は、アークランプ
５０内のアーク５４が反射器（標準的にはだ円反射器）
の焦点にあるよう位置決めされる。反射器５６は、光軸
５２の方向に光ビーム５８を形成するよう、アークラン
プ５０からの光の一部を反射する。光ビーム５８は、ア
パーチャ６２を有するアパーチャプレート部材６ｏを照
射する。光ビーム５８の一部はアパーチャ６２を通過し
そして投射レンズ６４により焦点調整が行なわれる。焦
点調整光ビームは投射に使用可能である。

光軸５２に垂直な磁界を発生する磁気装置６８が、アー
ク近傍に位置決めされる導電性のコイル７０を備える。

コイル７０の面は光軸に５２に垂直であることが好まし
い。コイル７０が導電体の複数巻きを備えそして変成器
７２を通じて制御ユニット７４へ結合される。制御ユニ
ット７４は適当なソースから交流電力を受容しそして制
御信号の制御の下に電流をコイル７０へ供給する。コイ
ル７ｏへ供給される電流により、反射器５６の焦点に関
してアーク５４が偏倚されるようにする磁界がアーク５
４の領域で発生される。アーク５４の偏倚により順次ビ
ーム５８が方向を変更しそしてアパーチャ６２に関して
シフトされる。その結果、ビームパターン６４の強度が
、アーク５４に印加される磁界の関数として変化せられ
る。

高輝度アーク放電ランプおよび制御可能な磁界を用いる
アーク偏倚のための手段とを合体せる車両のヘッドライ
トが第４図ないし第６図に図示されている。アークラン
プ８０が反射器８４の焦点８３に位置決めされる。アー
クランプ８０は、通常の使用時間中は、アークランプ８
０内のアーク８６が水平方向でありそして反射器８４の
軸線８２に垂直であるよう位置決めされる。ヘッドライ
トレンズ８８が反射器８４の前方で軸線８２の上に位置
決めされる。反射器８４が放物状の反射器である場合、
アークランプ８０と反射器８４とヘッドライトレンズ８
８との組合せにより、車両の前方の進路を照射するのに
適当なほぼコリメートされた光ビーム９０が発生される
。

コイル９２がアークランプ８０に接近して反射器８４内
に装着される。コイル９２は、軸線８２に平行でアーク
ランプ８０を通ずる磁界が発生されるように配向される
導電体の複数巻きから構成される。アークランプ８０が
交流電力により賦活される場合、コイル９２には、制御
ユニット９６から交流電流が変成器９４を通じて供給さ
れる。

上述のように、コイル９２を通じて供給される交流電流
は、アークランプ８０のアーク電流に関して同様の周波
数とされそして位相が固定されるべきである。以下に説
明されるように、コイル９２へ供給される電流を変化さ
せることにより、アーク８６は、焦点について上方また
は下方に偏倚されそしてビーム９０の方向が上向きまた
は下向きとせられる。制御ユニット９６は、通常は車両
の直流／交流コンバータとされる適当な電源から交流電
力を受容し、センサまたは切替手段９８からの制御入力
に応答して、コイル９２を通ずる電流を制御する。

好ましい例において、アークランプ８０は長円形状の４
５ワツトメタルハライドアークランプである。このラン
プは全長が約４センチメートルであり、アーク長さが約
５ミリメートルでありそして動作に９０ボルト交流と０
．５アンペアを必要とする。好ましいコイル９２が、絶
縁性スリーブ９９の周囲に巻回される２４ゲージの直径
が０．０２２インチのエナメル線を約３０回巻いたもの
を利用するものである。第６図を参照すると、ランプの
リード８０ａ、８０ｂとコイルのリード９２ａ、９２ｂ
がスリーブ９９および反射器８４を通じそして適当な電
源に接続される。

上下のビームを発生する第４図ないし第６図に図示され
る車両のヘッドライトの動作が第７Ａ図および第７Ｂ図
に図示される。第７Ａ図において、アーク８６が軸線８
２の焦点８３の場所に配置され、光ビーム９０が反射器
８４により軸線８２に平行に導かれる０本例において、
アーク８６は、コイル９２から供給される磁界Ｂにより
焦点８３の場所に維持される。第７Ｂ図について説明す
ると、アーク８６は焦点８３に関して上方に変位される
０本例では、上方の変位は印加される磁界の除去または
ターンオフ動作により生ずる。光ビーム９０はここに軸
線８２に関して下向きの角度で反射器８４により導かれ
る。こうして、コイル９２からの磁界Ｂにより制御され
る高位置のビームおよび低位置のビームが提供される。

高位置および低位置を発生するための磁界の選択は設計
上の選択事項であることが理解されよう。上述の形態の
代替え例として、磁界の印加によりアーク８６が焦点８
３よりも第７Ｂ図に図示されるように上方に位置決めさ
れ、一方、磁界の除去によりアーク８６が第７Ａ図に図
示されるように焦点８３の場所に位置決めされる。さら
に、高位置および低位置は、オン状態およびオフ状態で
なく、２つの異なる大きさの磁界により設定可能である
。

別の重要な特徴が、ここに開示される車両のヘッドライ
トは高位置ビームおよび低位置ビームに制限されないこ
とである。その代わりに、光ビーム９０と軸線８２との
間の角度は、所望される動作に応じて、上限界と下限界
との間で連続的に変化できる。−例において、ビーム９
０は、接近しつつある車両のヘッドライトを感知するフ
ォトセルまたはフットスイッチまたはハンドスイッチに
より、高ビーム位置と低ビーム位置との間で制御される
。別の例では、光ビーム９０の方向は車両に装着される
レベルセンサにより制御される。レベルセンサは、車両
が上昇または降下する場合またはコーナーを回るときに
側方から側方へと傾斜する場合に、レベル外れ（ｏｕｔ
−ｏｆ−１ｅｖｅｌ）指示信号を提供する。レベル外れ
指示信号は、光ビーム９０の方向が所望されるように調
節されるよう制御ユニット９６へ提供される。別の任意
の所望されるセンサ、スイッチ手段または制御装置が、
光ビーム９０の方向を制御するのに利用できることが理
解されよう。

反射器８４は放物形状である必要はなく、だ円形状、球
状またはそのほかの任意の形状のものが可能である。第
８図に図示されるように、アークランプ９１が、アーク
軸線が反射器９５の軸線９３と一致するよう配向できる
。この場合、コイルは軸線９３に垂直な磁界をそして上
方向または下方向のアーク偏倚を得るために、アークラ
ンプ９１の左または右のいずれにも位置決めされる。　
　　　′代替え的に、２つ（またはそれ以上の）コイル
１００，１０１がアークの偏倚に使用できる。

第８図に図示されるように、コイル１００および１０１
はアークランプ９１の対向側部に位置決めされる。コイ
ル１００．１０１は、アークランプ９１と反射器９５と
の間での妨害ができるだけ最小なものとされるよう矩形
であるかまたはそうでなければ別の形に賦形される。同
様の電源または別々の電源がコイルｔｏｏ、１０１を賦
活するのに利用できる。しかし、アーク電流と磁界との
間の上述の関係は維持されねばならない。標準的には、
反射器の大きさおよび形状は、アークランプの大きさ、
形状および配向と補足しあって選択される。

本発明の別の特徴に従えば、磁気的に制御されるアーク
ランプは、第９図に図示されるように、光ビームの焦点
調整または非焦点調整を行なうのに利用できる。アーク
ランプ１０２が反射器１０８の焦点１０６にて軸線１０
４に位置決めされる。アークランプ１０２内のアーク１
１０が軸線１０４に垂直に配向される。磁界が印加され
ない場合、アーク１１０は比較的小さくそして密集して
おりそして焦点調整光ビーム１１２が発生する。光ビー
ムの非焦点調整および拡張を行なうために、第１Ｄ図に
図示されるようにそして上述のように、磁界がアーク１
１０に印加される。光ビームを、ある固定方向に偏向す
るのでなくこれを拡張するためには、磁界はアーク電流
に関して時間変化しなければならない、直流のアークラ
ンプが利用される場合磁界は交流であり逆に、交流のア
ークランプが利用される場合、磁界は直流またはアーク
電流と異なる周波数の交流である。必要とされる磁界は
、軸線１０４に沿ってアーク１１０を通ずる磁界を発生
するよう、軸線１０４に位置決めされるコイル１１４に
より提供される。磁界により、参照番号１１６で指示さ
れるようなアークの拡張動作が生じ、非焦点調整が行な
われそして拡張せられた光ビーム１１８が発生せられる
。

アークの移動する荷電粒子へ磁界により力が印加される
ことに関連してアーク偏倚をいままで説明してきた。ア
ーク偏倚はまた第１０図に図示されるように、電界の印
加によってもまた実現できる。アーク１３０が一対の電
極１３２．１３４間に形成される。少くともアーク１３
０に垂直な成分を有する電界Ｅが、アーク１３０の対向
側部に位置決めされた偏倚プレート部材１３６．１３８
により、アーク１３０の領域に印加される。ある電圧が
偏倚プレート部材１３６および１３８の間に印加される
とき、電界Ｅは、それらの間に発生される。偏倚プレー
ト部材１３６．１３８は、アーク１３０の領域に所望の
電界Ｅを発生するために、任意の都合のよい大きさまた
は形状を有することができる。電界Ｅはアーク１３０に
対する力が電界Ｅに平行であること以外は印加された磁
界（力は印加される磁界Ｂに垂直である）と同様の方法
でアーク１３０を偏倚させる。第１０図に図示されるア
ーク偏倚の構成は、第２図ないし第９図に図示されそし
て上述の光学系で利用できる。

以上、本発明の好ましい例について説明したが、本発明
の技術思想から逸脱することなく種々の変更および修正
が可能であることは当業者には明らかであろう。

４、　　　　の　　　な１　日第１Ａ図は対流電流によるアークの上向き湾曲動作を図
示する模式図である。

第１Ｂ図〜第１Ｄ図は磁界によるアークの偏倚を図示す
る模式図である。

第２図は強度が制御可能な高輝度アーク放電光源の模式
図である。

第３図は強度が制御可能な高輝度放電光源の模式図であ
る。

第４図は磁気的にビーム方向が制御される車両のヘッド
ライトの側面図である。

第５図は反射器が除去された第４図の車両のヘッドライ
トの平面図である。

第６図は、磁気的にビーム方向が制御される車両のヘッ
ドライトの部分的に切取られた斜視図である。

第７Ａ図および第７Ｂ図は高位置ビームおよび低位置ビ
ームを図示する第４図の車両のヘッドライトの側面図で
ある。

第８図はアークランプが反射器の軸線と整列される車両
のヘッドライトの簡単な斜視図である。

第９図は磁気的に焦点調整が制御されるスポットライト
の模式図である。

第１０図は電界によるアークの偏倚を図示する模式図で
ある。

図中の各参照番号が示す主な名称を以下に挙げる。

０１０　　　　電極０１２　　　　電極０１４　　　　アーク０１６　　　アーク軸線０２０　　　　アークランプ０２１　　　　アーク０２２　　　　アーク軸線０２４　　　レンズ０２６　　　　アパーチャプレート０２８　　　アパーチャ０２９　　　　投射レンズ０３０　　　　ビームパターン０３４　　　光軸０４０　　　　コイル０４４　　　　制御ユニット０５０　　　アークランプ０５２　　　光軸０５４　　　アーク０５６　　　　反射鏡０５８　　　　光ビーム０６２　　　アパーチャ０６４　　　　プロジェクションレンズ０６８　　　磁
気装置０７０　　　コイル０７２　　　変成器０７４　　　制御ユニット０８０　　　　アークランプ０８０ａ、ｂ　　ランプのリード０８２　　　　軸線０８３　　　佳占０８４　　　　反射鏡０８６　　　アーク０８８　　　レンズ０９０　　　コリメート光ビーム０９１　　　アークランプ０９２　　　コイル０９３　　　　軸線０９４　　　変成器０９５　　　反射鏡０９６　　　　制御ユニット０９８　　　センサ、切替手段０９９　　　絶縁性のスリーブ１００　　　　コイル１０１　　　　コイル１０４　　　　軸線１０６　　　往古１０８　　　　反射鏡１１０　　　　アーク１１２　　　光ビーム１１６　　　　アークの広がり１１８　　　非焦点調整光ビーム１３０　　　アーク１３２　　　電極１３４　　　電極１３６　　　偏倚プレート１３８　　　偏倚プレートＢ　　　　　磁界Ｆ、力／′

Claims

【特許請求の範囲】

（１）一対の電極間に高輝度のアークを発生するための
アークランプと、前記アークの領域に磁界を発生するための磁気手段であ
って、該磁界は、前記アークの一部が該磁界により偏倚
されるよう、少くとも前記アークに垂直な成分を有する
磁気手段と、前記磁界を制御することにより、前記アークの偏倚を制
御するための手段とを備える高輝度アーク放電光源。
（２）前記アークランプは所定の周波数の交流電源によ
り賦活され、前記磁気手段は、前記所定の周波数の交流
磁界を発生するための手段を備え、前記磁界および前記
交流電源は固定された位相関係を有する請求項第１項記
載の光源。
（３）前記アークランプは直流電源により賦活されそし
て前記磁気手段は直流磁界を発生する手段を備える請求
項第１項記載の光源。
（４）前記制御手段は、前記アークの偏倚を変化させる
よう、前記直流磁界の大きさを変化させる手段を備える
請求項第３項記載の光源。
（５）前記制御手段は、前記アークの偏倚を変化させる
よう、前記交流磁界の大きさを変化させる手段を備える
請求項第２項記載の光源。
（６）前記制御手段は、前記アークランプを賦活する交
流電源の位相に関して、前記交流磁界の位相を変化させ
るための手段を備える請求項第２項記載の光源。
（７）前記磁気手段は、前記アーク近傍の導電コイルと
、該コイルを通じて電流を供給するための手段とを備え
、前記導電コイルはアークの面に垂直に前記磁界を発生
する請求項第２項記載の光源。
（８）前記コイルは、前記アークに垂直に前記磁界を発
生するよう配向される請求項第７項記載の光源。
（９）前記アークランプはメタルハライドアークランプ
である請求項第８項記載の光源。
（１０）前記アークランプは、通常の使用において、前
記アークがほぼ水平方向にて配向される請求項第２項記
載の光源。
（１１）前記磁界は、該磁界が短い期間の固定したアー
ク偏倚を発生するよう、前記アークの電流の方向と固定
した瞬間的方向関係を有する請求項第１項記載の光源。
（１２）前記磁界は、該磁界が時間変化するアーク偏倚
を発生するよう、前記アークの電流の方向と時間変化す
る瞬間的方向関係を有する請求項第１項記載の光源。
（１３）光ビームを形成するよう前記アークランプから
の光の一部を反射するよう位置決めされ、それにより、
前記光ビームは前記磁界が変化するに応じて焦点調整お
よび非焦点調整が行なわれる反射手段を備える請求項第
１２項記載の光源。
（１４）一対の電極間に高輝度のアークを発生するアー
クランプと、前記アークの領域に磁界を発生するための磁気手段であ
って、該磁界は、前記アークの一部が該磁界により偏倚
されるよう、少くとも前記アークに垂直な成分を有する
磁気手段と、アパーチャを画定する手段と、前記アークの像を前記アパーチャに結ぶための手段と、前記磁界を制御することにより、前記アパーチャを通る
光の強度を制御するための手段とを備える高輝度アーク
放電光源。
（１５）前記アークランプは所定の周波数の交流電源に
より賦活され、前記磁気手段は、前記の所定の周波数の
交流磁界を発生するための手段を備え、前記磁界および
前記交流電源は固定された位相関係を有する請求項第１
４項記載の光源。
（１６）前記アークランプは直流電源により賦活されそ
して前記磁気手段は直流磁界を発生する手段を備える請
求項第１４項記載の光源。
（１７）前記磁気手段は、前記アーク近傍の導電コイル
と、該コイルを通じて電流を供給するための手段とを備
え、前記導電コイルはアークの面に垂直に前記磁界を発
生する請求項第１５項記載の光源。
（１８）前記アークはアーク電流を構成する荷電粒子の
流れを含み、前記磁界は、該磁界が短期間の固定したア
ーク偏倚を発生するよう、前記アーク電流の方向と短期
間の固定した方向関係を有する請求項第１４項記載の光
源。
（１９）前記磁界は、該磁界が時間変化するアーク偏倚
を発生するよう、前記アークの電流の方向と時間変化す
る瞬間的方向関係を有する請求項第１４項記載の光源。
（２０）一対の電極間に高輝度のアークを発生するアー
クランプと、前記アークの領域に磁界を発生するための磁気手段であ
って、該磁界は、前記アークの一部が該磁界により偏倚
されるよう、少くとも前記アークに垂直な成分を有する
磁気手段と、所定のビーム方向に光ビームを形成するよう、アークラ
ンプからの光の一部を反射するよう位置決めされる反射
手段と、前記磁界を制御することにより前記ビーム方向を制御す
るための手段とを備える高輝度アーク放電光源。
（２１）前記反射手段は放物状の反射器から構成され、
前記アークは前記放物状反射器の軸線にまたはその近傍
に位置決めされる請求項第２０項記載の光源。
（２２）前記光ビームの通路に位置決めされるアパーチ
ャを画定する手段を備える請求項第２０項記載の光源。
（２３）高輝度アーク放電ランプのアークの偏倚の制御
方法において、アークの領域に、少くともアークに垂直な成分を有する
磁界を提供して、アークの一部が磁界により偏倚される
段階と、磁界を制御して、アークの偏倚を制御する段階とを備え
る高輝度アーク放電ランプでのアーク偏倚制御方法。
（２４）アークランプを所定の周波数を有する交流電源
により賦活する段階を備え、磁界をアークの領域に提供
する段階は、前記交流電源に関して固定した位相関係を
有し前記所定の周波数の交流磁界を提供することを含む
請求項第２３項記載の高輝度アーク放電ランプでのアー
ク偏倚制御方法。
（２５）アークの偏倚を制御する段階は、前記交流磁界
の大きさを変化して前記アークの偏倚を変化させる段階
を備える請求項第２４項記載の高輝度アーク放電ランプ
でのアーク偏倚制御方法。
（２６）アークの領域に磁界を提供する段階は、アーク
の電流の方向と固定した瞬間的方向関係を有する磁界を
提供して、この磁界が短期間の固定したアーク偏倚を発
生する段階を備える請求項第２３項記載の高輝度アーク
放電ランプでのアーク偏倚制御方法。
（２７）アークの領域に磁界を提供する段階は、アーク
の電流の方向と時間変化する瞬間的方向関係を有する磁
界を提供して、磁界が時間変化するアーク偏倚を発生す
る段階を備える請求項第２３項記載の高輝度アーク放電
ランプでのアーク偏倚制御方法。
（２８）アークランプを反射器の焦点に位置決めして光
ビームを形成する段階を備え、アークの偏倚を制御する
段階は、前記光ビームの方向を変化させるよう、アーク
を焦点に関して偏倚する段階を備える請求項第２３項記
載の高輝度アーク放電ランプでのアーク偏倚制御方法。
（２９）一対の電極間に高輝度のアークを発生するアー
クランプと、前記アークの領域に電磁界を発生するための手段であっ
て、該電磁界は、前記アークの一部が該磁界により偏倚
されるよう、少くとも前記アークに垂直な成分を有する
手段と、前記磁界を制御することにより、前記アークの偏倚を制
御するための手段とを備える高輝度アーク放電光源。
（３０）電磁界を発生するための手段は磁界を発生する
請求項第２９項記載の高輝度アーク放電光源。
（３１）電磁界を発生するための手段は電界を発生する
請求項第２９項記載の高輝度アーク放電光源。
（３２）光ビームを形成するために、前記アークランプ
からの光の一部を導くよう位置決めされる光学手段を備
える請求項第２９項記載の高輝度アーク放電光源。
（３３）一対の電極間に高輝度のアークを発生するため
のアークランプと、光ビームを形成するため前記アークランプからの光の一
部を導くよう位置決めされる光学手段と、前記光ビームを偏向するよう、前記アークとの相互作用
を行なうためそしてアークの垂直パスからの該アークの
偏倚を行なうため、該アークの領域に電磁界を発生する
手段とを備える高輝度アーク放電光源。
（３４）前記光学手段は反射器を備える請求項第３３項
記載の高輝度アーク放電光源。
（３５）前記光学手段はアパーチャを画定する手段と、
該アークの像を該アパーチャに結ぶための手段とを備え
る請求項第３３項記載の高輝度アーク放電光源。
（３６）高輝度アーク放電ランプでのアーク偏倚制御方
法において、アークの領域に、少くともアークに垂直な成分を有する
電磁界を提供し、アークの一部が電磁界により偏倚され
る段階と、電磁界を制御して、アークの偏倚を制御する段階とを備
える高輝度アーク放電ランプでのアークの偏倚制御方法
。