JPH01210493A - 廃物質の再処理方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、炭化水素化合物を含有する廃物質の再処理方
法、特にプラスチック又はゴム廃棄物を含み、熱分解的
に分解され１発生する熱分解ガスが冷却によって液体留
分とガス留分とに転換される廃物質の再処理方法に関す
る。

［従来の技術１発明が解決しようとする課題］一般的技
術水準から、廃物質の熱分解で得られる熱分解ガスから
冷却によって行われる熱分解ガスの部分凝縮によって液
体留分が形成され、非凝縮残留熱分解ガスがガス留分と
して生じることが知られている。液体留分／ガス留分の
重量比はほぼ１の値である。

主として水素、メタン、エタン、エデン、プロパン、プ
ロペン及び少量［全体の約５容量％］の高級飽和及び不
飽和炭化水素を含むガス留分は。

約１５〜３０重量％の程度が熱分解方法を実施す゛るの
に用いられる。これはガス留分を燃料ガスとして用いる
こと及び／又は流動床の熱分解の場合流動ガスとして用
いることによって行われるのが好ましい、興味ある成分
であるが、依然として残留するガス留分はほとんど市場
で販売できないし。

貯蔵、輸送及び加工も高価で実施し難い、これと対照的
に、ベンゼン、トルエン及びキシレン［ＢＴＸ芳香芳香
族上うな価値ある成分を含む該液体留分の使用及び次の
用途は問題を生じない。

従って９本発明の目的は冒頭に述べた型の処理における
液体留分を単純な方法で増大することである。

［課題を解決するための手段］ この目的を達成するため１本発明は２つの方法を提供す
る。１の方法は、熱分解ガスがそれに含まれるガス状ベ
ンゼン及びベンゼンより沸点の高いガス状熱分解ガス成
分が液体層に移るまで冷却してベンゼン含有液体相を形
成すること、ベンゼン含有液体留分からベンゼン及びト
ルエン含有ガス混合物をストリッピングすること、該ガ
ス混合物をガス留分と共に３００〜４５０℃の温度でゼ
オライト性触媒（１１（ｉ；１６２；３１Ｂ　）と接触
させること、及び該触媒処理したガス混合物を冷却によ
って周囲温度で液体である留分と残留ガス留分とに分離
することを包含する。

即ち、該熱分解ガスは、その中に含まれるガス状ベンゼ
ンが、ベンゼンより沸点の高い成分を含んで、液体相に
移り、ベンゼン含有液体留分が形成される程度に冷却さ
れる。ベンゼンは周囲圧力で８０℃の沸点を有するので
、冷却はほぼ周囲圧力で行われ、熱分解ガスはベンゼン
含有液体留分を得るためにほぼ７５〜８０℃に冷却しな
ければならない、このベンゼン含有液体は次いでトルエ
ンの沸点以上の温度に加熱し、ガス混合物をストリッピ
ングし、ベンゼン含有液体留分の単離後に残るガス留分
と共に上昇温度でゼオライト触媒上を通過させる、この
段階で、ガス留分に存在するオレフィンは気体形態にあ
る低沸点、液体留分成分、特にベンゼン及びトルエンと
反応して凝縮可能な生成物を生じる。エチルベンゼンが
ベンゼン−及びエデンから形成される。驚くべきことに
、イソプロピルベンゼンは、残留ガス留分の当初プロペ
ン含量に対応するような量では全く形成されない、むし
ろ、プロペンはプロペン自体と反応してベンゼンを生じ
、アルキル化されると考えられる。

全体として、触媒処理したガス混合物が形成され多量の
アルキル化芳香族物を含む、これらの芳香族物は、冷却
によって周囲圧力で液体である留分と残留ガス留分とに
分離される。ガス留分に含まれるオレフィンの８０〜９
０重量％以上が消失し。

液体であり、市場に容易に輸送でき販売できる炭化水素
に変換することが見出だされた。

オレフィンの極少量［はぼ３重量％］のみが存在する残
りの残留ガス留分は主として水素、メタン、エタン、プ
ロパン及び不飽和及び飽和高級炭化水素の痕跡を含む、
この残留ガス留分が供給原料の３０〜３５重量％のみで
あっても、自己維持［ｓｅｌ　１’−ｓｕｓｔａｉｎｉ
ｎｇコ的に熱分解方法を行なうのに適している。残留ガ
ス留分は充分の割合の飽和Ｃｔ−〜Ｃ３−炭化水素化合
物を含むので１例えば熱分解方法を実施する燃料ガス及
び流動ガスとして用いるのに極めて適しており、かつ充
分である。

目的を達成する第２の方法は１本発明によれば。

熱分解ガスの冷却を０２−及びＣ３−オレフィンの含量
とＣ６−及びＣ７−芳香族の含量とがほぼ１のモル比に
あるような特定ガス留分［５ｐｅｃｉｆ’１ｅ　ｇａｓ
ｆｒａｃｔ　１ｏｎｌが製造される温度とすること、該
特定ガス留分を３００〜４５０℃の温度でゼオライト性
触媒と接触させること、及び該触媒処理した特定ガス留
分を冷却によって大気圧で液体である留分と残留ガス留
分とに分離することを包含する。

第１の方法と異なり、熱分解ガスから当初は液体留分が
単離されず、それからベンゼン及びトルエンを含有する
ガス混合物が製造される。むしろ。

熱分解ガスは、　　Ｃ２−及びＣ３−オレフィンと共に
０６−及びＣ７−芳香族の部分を含み、　　Ｃ２−及び
Ｃ３−オレフィン／ＣＢ−及びＣ７−芳香族のモル比は
ほぼ０．８〜１，２．好ましくはほぼ１である特定ガス
留分が製造される温度にまで冷却する。この特定ガス留
分を製造するには、熱分解ガスはほぼ“８０〜１００℃
の温度に冷却しなければならない。

特定ガス留分は次いで第１の方法と全く同一の方法で処
理し同一の結果を得る。

特定ガス留分を得るには、特定ガス留分の冷却をベンゼ
ンの沸点以上の温度、好ましくは高くても該沸点の上１
０〜２０℃の温度で行なうのが便利である。この方法は
ほぼ周囲圧力で行われるので、沸点データは周囲圧力に
関連する。冷却が周囲圧力以外の圧力で行われる場合冷
却温度は圧力に応じて変化させなければならない。

年間処理量１０，０００）ンまでの廃物質の処理に特に
適した本発明の更に開発の利点によれば。

触媒は固定床触媒の形態であり、ガス混合物又は特定ガ
ス留分と触媒との接触時間は０．３〜２秒。

好ましくは０．７〜１．５秒に固定される。

より高い処理量［年間１０，０００）ン以上］では、微
細粒状で触媒を用い、流動床を形成させ。

ガス混合物又は特定ガス留分と流動床との接触時間を０
．４〜１．５秒、好ましくは０．５〜１．１秒として用
いるのが好ましい。

液体留分を最大にするため、ガス混合物又は特定ガス留
分は１本発明の好ましい態様により。

３５０〜４１０℃の温度で触媒と接触する、同様の理由
で、触媒として市場で入手できる触媒であるＺＳＭ５を
用いるのが便利である。

［実施例］ 本発明の方法のさらに特徴と利点は２図面に模式的に示
した方法を実施するのに適した熱分解装置の例の説明か
ら明らかになるであろう。

図面において１個々の図に繰返される同一の要素は理解
に必要な程度で参照番号を付しである。

第１図の装置は竪型熱分解装置１０を含み、その上部１
２は円筒形である。下側に隣接する下部１４は下向きに
細くなる円錐型であり、↑の端に放出ライン１８を備え
ている１反応中に熱分解反応器中に形成される流動床１
Ｂは熱分解反応器の開放高さのほぼ８０〜９０％である
垂直高さを有するため。

ガス空間２０は流動床の上で自由である。熱分解反応器
に廃物質を導入するため、供給ライン２２が設けられ流
動床１８に導かれる。流動ガスライン２４は。

゛制御及び単離要素２Ｂが挿入されたガスライン２８に
連結され、下部１４で熱分解反応器に連結される。

複数の加熱管［図では明確にするため１個の加熱管３０
だけを示している］が流動床１８に水平又は垂直に挿入
されている。ガス燃焼加熱管３０は流動床の間接加熱を
行なう、燃料ガスの供給のため、加熱管３０は制御及び
単離要素３４を挿入されたライン３２を介してガスライ
ン２８に連結され、これは装置で製造された燃焼性残留
ガス留分を運び、燃料ガス及び流動ガスとして用いられ
る。燃焼に必要な燃焼空気はライン３Ｂを通って各加熱
機雷に供給され、オフガスはそれぞれの場合にオフガス
ライン３８を通って周囲４０に放出される。

熱分解反応器のガス空間２０はライン４２で冷却段階４
Ｇに連結され、ライン４２にサイクロン分離機が挿入さ
れている。ライン４２は冷却段階の円筒状竪型冷却機４
８の上端に連結され、冷却機の下端は分離概容器５０に
導かれる。冷却機自体の中で、冷却コイル５２が設けら
れ、ライン５４を通って冷却剤。

好ましくは冷却水又は冷却ブラインが供給される。

冷却剤はライン５６を通って放出される。三路バルブ５
８がライン５４に挿入され、バルブの第３連結はライン
６０によってライン５Ｂに連結される。三路バルブを作
動させるため、温度センサＢ２が冷却機４Ｂの冷却コイ
ル５２の下に設けられ、センサは破線で示した＠′４御
ライン６４によって三路バルブ５８に連結される。必要
な場合には、電力増幅器［図示しないコが制御ラインに
挿入される。

分離概容器５０の下部は液体空間６Ｂとして働き。

上部に残る自由空間６８はガス空間として働く。

液体空間６６は底部から挿入された単離及び制御要素７
４を有するライン７０で円筒状密閉蒸発容器７Ｂの上部
７４に連結される。蒸発容器の下部７８に、加熱コイル
８０が設けられ、前進流ライン８２及び戻りライン・８
４がボイラ８６に連結される。三路混合バルブ８８がこ
こで前進流ライン８２に挿入され、混合ライン９０によ
って戻りライン８４に連結される。三路バルブ８８を作
動させるため、温度センサ９２が蒸発容器７８の下部７
８に設けられ、このセンサは破線で示した制御ライン９
４を介して三路バルブ８８に作用・する、蒸発容器７Ｂ
の最下点にライン９６も設けられ。

その中に図示されていない単離要素が挿入される。

ボイラ８Ｂはガス　バーナ９８が設けられ、これは挿入
された制御及び単離要素１０２を備えたライン１０Ｇを
介してガス　ライン２８に連結されている。

ボイラ８Ｂからのオフガスはオフガスライン１０４を通
って周囲に放出される。

分離概容器５０の自由空間６８及び蒸発容器７６の上部
７４はそれぞれライン１０Ｂ及び１０８によってガス吹
込機又は圧縮機１１０の入口に連結される６圧縮機１１
０の出口はライン１１２によって竪型円筒容器１１４の
下端に連結され、その中に触媒が塊のゼオライトｌｌＢ
の形態で存在し、これは固定床触媒である。触媒を加熱
するため、容器１１４はジャケット１２０で取巻かれ、
全ての側に中間空間ｔｔｇを形成する。ガスバーナー１
２２は、挿入された制御及び単離要素１２Ｂを備えたラ
イン１２４によって連結され、容器１１４の下の中間空
間１１８に設けられる。

燃焼オフガスを放出するため９周囲４０に導かれるオフ
ガスライン１２Ｂが中間空間１１ｇの上部に連結される
。ゼオライトの塊の大きさは約３〜２０１１１Ｉである
。

容器１１４の上端はライン１３０によって別の冷却段階
１３２に連結される。この場合、ライン１３０は竪型円
筒状冷却機１３４の上端に導かれ、その下端は別の分離
概容器１３６に導かれる。冷却機１３４に。

冷却コイルＩＨが設けられ、ライン１４０を通って冷却
水又は冷却ブラインが供給される。竪型円筒状の別の分
離概容器１３Ｂは液体を受けるために設けられた下部１
４２を有するが、その上にある上部１４４はガスを受け
るためである。下部１４２の最下端で、単離要素１４８
を備えたライン１４Ｂに連結される。

ガスライン２８は別の分離概容器１３Ｂの上部１４４に
連結され、ガス吹込機又は圧縮機１５０が挿入されてい
る。圧縮機１０の下流で、ガスライン２８はまたライン
１５２に連結され、それを通って過剰ガスが取出され空
間加熱等の消費機に移る。消費機は第１図には図示され
ていない。

必要な場合には、少なくとも１の別の冷却段階及び／又
は圧縮機１５０と別の分離概容器１３６の上部１４４と
の間のガス　スフラッパに挿入することが好ましい、こ
れは別の冷却段階１３２の出口のガスが未だ周囲温度に
冷却されていない場合及び／又は未だ不純物を含んでい
る場合に行われる。上記の冷却段階及びガス　スフラッ
パは第１図に図示されていない。

操作の間に、流動ガスとして作用するガスはガスライン
２８から流動ガスライン２４を通って熱分解反応器１０
に流れる。結果として、微細粒状流動媒体がここに存在
し、好ましくは０．５報未満の粒径の砂が流動し、流動
床１８が形成される。流動床を形成するのに必要なガス
質量流量は制御及び単離要素２６で調節される。同時に
、加熱管３０にはライン３２を通って燃料ガスとして作
用するガスが。

かつ、ライン３６を通って燃焼空気が供給され、加熱機
雷は、ガス燃焼によって流動床１８を４００〜１０００
℃、好ましくは６００〜６００℃の温度に加熱すること
ができる程度に加熱される。加熱管を去るオフガスはオ
フガス　ライン３８を通って好ましくは図示されていな
い煙突に放出される。

加熱管の熱放出はガス供給が規制できる制御及び単離要
素３４によって調節される。

最大が約１０ｃｍの塊の大きさの廃物質が供給ライン２
２を通って流動床の下部に導入され、そこで還元雰囲気
、即ち酸素の不在下で熱的に分解される８　こうして形
成された燃焼性熱分解ガスは熱分解反応器ＩＯのガス空
間２０に回収され、熱分解残留物は熱分解反応器から出
口ライン１Ｂを通って放出される。

ガス空間２０から、熱分解ガスがライン４２を過つて冷
却段階４Ｂに流れ、固体粒子は熱分解ガスによって運ば
れ、サイクロン分離機４４に沈澱する。熱分解ガスは竪
型冷却機４８の頂部に入り、冷却コイル５２によって冷
却される。このために、冷却コイル５２はライン５４に
よって冷却水が供給され、熱を取った後、ライン５Ｂを
通って放出される。ライン５４では、三路混合バルブ５
８が設けられ、ラインＢＯでライン５６に連結されてい
る。三路混合バルブによって、冷却水の温度及び冷却コ
イルへの流入が。

−熱分解ガスに含まれるガス状ベンゼン及び高沸点ガス
状成分が凝縮し液体留分として分離するように調節され
る。ベンゼンの沸点は周囲圧力で８０℃であり、従って
熱分解ガスは冷却機４８中で約７５〜７９℃の温度に冷
却されなければならない。

この冷却を確保するため、温度センサ６２が冷却コイル
５２の下に冷却機４８に設けられ、このセンサは制御ラ
イン６４を介して三路混合バルブ５８に作用する。この
ために、三路混合バルブは所望の冷却を行なう冷却水流
が冷却コイル５２中に確立するように調節される。

冷却機４８においてはベンゼンだけではなく熱分解ガス
のベンゼンより沸点が高い成分も凝縮する。

特に熱分解ガスに含まれ約１１０℃の沸点を有するトル
エンが凝縮する。冷却段階４Ｂにおける凝縮は周囲圧力
で行われる。

ベンゼン含有液体留分を形成する凝縮成分は。

分離機容器５０の液体空間６Ｂに回収し、挿入した制御
及び単離要素７２を備えたライン７０を通って竪型蒸発
容器７Ｂに送り、そこで下部７８に回収する。制御及び
単離要素７２はここで、液体空間６６が常に一部のベン
ゼン含有液体留分を含み、蒸発容器の上部７４から分離
機容器の自由空間６８へのガスの通過が避けられるよう
に調節する。蒸発容器の下部７８において、加熱コイル
８０が設けられ、前進流ライン８２及び戻りライン８２
によって水ボイラ８６に連結される。このボイラは、挿
入した単離及び制御要素１（１２を備えたライン１００
を通ってガスライン２８から燃料ガスが供給されるガス
　バーナー９８によって加熱される６オフガスはオフガ
ス　ライン１０４を通って周囲に放出される。

前進流ライン８２において、三路混合バルブ８８が設け
られ、これは制御ライン７４によって温度センサ９２に
連結されている。この温度センサ９２は蒸発容器７Ｂの
下部７８に位置し、加熱コイル８ｏの加熱水の質量流量
及び温度を制御する。制御は下部７８で回収されたベン
ゼン含有液体留分がガス状のベンゼン及びトルエンがス
トリッピングされる程度に加熱されるように調節され、
ベンゼン及びトルエンを含むガス混合物が製造され、上
部７４に回収される。ベンゼン含有液体留分の加熱は周
囲圧力で１１１℃以上、好ましくは１２０〜１４０’Ｃ
の温度で行われる。ガス混合物はライン１０８を通って
圧縮機１１０に供給される。同時に、冷却機３８に生じ
ベンゼン含有液体留分の単離後に残るガス留分は、ライ
ンｌＯＢを通って圧縮機１１Ｇに流れ、ベンゼン及びト
ルエンを含むガス混合物と混合されて。

全ガス流を生じる。この全ガス流はライン１１２を通っ
て容器１１８の底部に導入され、ゼオライト触媒を通っ
て上方へ流れる。容器１１４及び従って触媒ｔｔｅは図
式的に示したガスバーナ１２２によって加熱され、これ
はライン１２４及び制御及び単離要素１２Ｂを通ってガ
スライン２８から燃料ガスを供給される。この触媒は、
中間空間１１８でオフガスライン１２８に流れるガス流
によって好ましくは３５０〜４１０℃の温度にここで加
熱される。容器及び従って固定触媒床の断面は１通過ガ
スが触媒と０．３〜２秒、好ましくは０，７〜１．５秒
接触するように選定する。触媒中を流れながら。

ガス留分中に存在するガス状オレフィンはガス状ベンゼ
ン及びトルエンと反応して、冷却で液体留分として得ら
れるガス状生成物を生じる。結果として、ガス留分の割
合が減少して、液体留分が有利になる。

液体留分の単離のために、容器１１４を出る触媒処理し
た全ガス流をライン１３０を通って別の冷却段階１３２
に供給し、竪型冷却機１３４の頂部に導入する。そこに
設置されライン１４４を通って冷却水又は冷却ブライン
が供給される冷却コイル１３Ｂは触媒処理した全ガス流
を２０〜６０℃の温度に冷却する。こうして凝縮した熱
分解油は液体留分を形成し下方に、残留ガス留分を表わ
す残留ガスと共に竪型の別の分離機容器１３Ｂに流れる
。液体留分はここで下部１４２に回収され、残留ガス留
分は別の分離機容器１３６の上部１４４に存在する。液
体密りはライン１４Ｂを通って別の分離機容器から取出
され、さらに処理され、燃焼性残留ガス留分は圧縮機１
５０に供給されガスライン２８に送られる。

残留ガス留分は燃料ガスとしてガスバーナーへ。

及び流動ガスとして熱分解反応器へ供給される。

装置で必要とされない残留ガスはライン１５２を通って
第１図には図示されていない別の消費機に送られる。

第２図は第１図の熱分解装置の別の態様を示す。

第１図と比較した相違点は、冷却段階が別の設計であり
、ボイラ８Ｂ及びそれに連結する蒸発容器が省略される
。他の面では、同一の形態で第２図に現われる第１図の
要素は、第１図の参照番号に対して２００を加えた参照
番号が付けられている。

第２図の装置は、竪型冷却機２４８を有する冷却段階２
４Ｂを包含する。冷却機において、冷却コイル２５２が
設けられ、第１図の冷却コイル５２と全く同一の方法で
冷却水が供給される。冷却機２４８の下端は分離機容器
２５０に連結され、その下部空間は液体空間２６Ｂとル
で作用するが、上部に残る自由空間２６８はガスを受入
れるために設けられている。自由空間２６８からライン
３０Ｂがゼオライト触媒を含む容器３１４に導かれ、圧
縮機３１０又はガス吹込機がライン３０Ｂに挿入されて
いる。

ライン２５４に設けられている三路混合バルブは制御の
ために破線で示された制御ライン１５４によって測定及
び制御装置１５６に連結されている。この測定及び制御
装置は自由空間２６８内に存在する特定ガス留分のＣ２
−及びＣ３−オレフィン／Ｃ６−及びＣ７−芳香族物の
モル比を検出する。この目的のため、ガスを自由空間２
６８からガスポンプ［図示しない］、好ましくは圧縮機
によってライン１５５を通って取出ｔ、１ｌｌＪ定及び
制御装置を通し１次いでライン１５８を通って自由空間
２６８に戻すか、又はより良くは圧縮機３１０の上流の
ライン３０Ｂに送って、測定及び制御装置１５Ｂを通る
連続ガス流を維持する。測定及び制御装置は三路混合バ
ルブ及び従って冷却機２４８の冷却出力が、自由空間に
生じる特定ガス留分がほぼ０．８〜１．２．好ましくは
１のＣ２−及びＣ３−オレフィン／ＣＢ−及びＣ７−芳
香族物モル比を有するように調節されるように設計する
。

装置の操作の間で、廃物質は熱分解反応器２１０に供給
され、流動床２１８で熱的に分解される。これは第１図
の実施例と同様である。製造される熱゛分解ガスはガス
空間２２０からサイクロン分離機２４４を通って周囲圧
力で操作される竪型冷却機２４８の上端に送る。ここで
熱分解ガスを冷却し。

熱分解ガスの一部は凝縮し１分離機容器２５０の液体空
間２８Ｂの熱分解油として回収される。ここから、この
熱分解油は別の処理に爪印される。

同時に、冷却熱分解ガスの少量１例えば０８５％を測定
及び制御装置１５６に通し−、一方ではＣ２−及びＣ３
−オレフィン及び他方ではＣ６−及びＣ７−芳香族物の
間のモル比を測定する。このモル比はほぼ１の値を有す
ることが意図されるので、三路混合バルブ２５８及び従
って冷却コイル２５２の冷却出力が、自由空間２６８の
冷却熱分解ガスがこの所望のモル比を有するように測定
及び制御装置１５Ｂによって調節される。この熱分解ガ
スは特定ガス留分と称する。特定ガス留分を得るため、
熱分解ガスをトルエンの沸点以上の温度に冷却すること
が必要である。特定ガス留分は次い゛で挿入圧縮機３１
０を設けたライン３０６を通って固定床にゼオライト触
媒３１Ｂを含む容器３１４に送る。ゼオライト触媒３１
６の作用の態様及びガスの次の通路は第１図との関係で
説明したのと全く同様であるので。

これ以上の説明はここではしない。

この別の態様において、オレフィンは第１図の装置にお
けるように飽和Ｃ−Ｃ５−炭化水素に変換され、これは
別の冷却段階３３２の下流で液体留分として得られ、こ
こから次の処理のために取出される０本発明の処理工程
の結果として、残留ガス留分は液体留分に有利に２０〜
３０％だけ減少し、装置の経済性が改良される。

第３図は１別の実施態様として第１図及び第２図の詳細
ＩＩＩを示す、固定床触媒の形態であるゼオライト触媒
１１６又は３１６の代わりに、第３図の装置は竪型の循
環流動床反応器１６０を有し、そこではぜオライド触媒
物質１６２は流動床１６４を形成する。このために、ゼ
オライト触媒物質は高々１　ｍｍの粒径を有し、流動ガ
ス、好ましくは残留ガス留分の一部によって流動状態に
変換される。流動ガスはガスライン２８からとって、挿
入単離及び制御要素１６８を設けたライン１６６を通っ
て流動ガ′スライン１７１に供給する。これは流動床反
応器１６０の下部円筒区域に導入する。流動床１６４は
ガス燃焼加熱器管によって間接的に加熱される。その１
つの加熱器管１７０を第３図に示しである。このために
、加熱器管に挿入制御及び単離要素１７４を設けたライ
ン１７２を通ってガスライン２８から燃料ガスを供給す
る。燃焼ガスは加熱器管にライン１７Ｂを通って供給さ
れ、オフガスはライン１７８を通って流出する。触媒物
質はライン１８０を通って流動床反応器の頂部に導入さ
れ、使用済み触媒物質はライン１６２を通って流動床反
応器の下端から取出される。流動床反応器１８０は第１
図の熱分解反応器ＩＯと全く同一の構造である。従って
、上部円筒区域を有し、下方に傾斜する下部１円錐状区
域に隣接している。加熱器管１７０は外部空間から流動
床１６４に水平に導入される。垂直導入も同様に可能で
ある。

操作の間、冷却段階４Ｂ又は２４Ｂからのガスは圧縮機
１１０又は３１Ｏ［第１図及び第２図を対比］によって
ライン１６４を通って流動床１Ｂ４に導入される８流動
床は流動ガスによって発生する。これはライン１６Ｂ及
び充分に開放された制御及び単離要素１８ｇを通って流
動ガスライン１７１に通り、流動床反応器１６０の下部
に入る。流動床１Ｂ４では、ライン１６４を通って供給
されるガスはゼオライト触媒物質と充分接触するので、
上記の反応が起る。

好ましくは３５０〜４１０℃の流動床１６４の必要な温
度は加熱器管１７０によって発生する。触媒処理ガス混
合物又は触媒処理特定ガス留分は次いでライン１３０又
は３３０を通って別の冷却段階１３２又は３３２に流れ
、上述したように後者でさらに処理される。流動床にお
けるガスの滞留時間は０．４〜１．５秒、好ましくは０
．５〜１．１秒である。

容器１１４又は３１４に流動床触媒として配置されたゼ
オライト触媒１１Ｂ又は３１Ｂと比較すると、流動床１
６４の形態の第３図の触媒はガスと触媒物質との接触が
一層強いという利点を有する。

ライン１６４を通って流動床反応器１６０に供給される
ガスと流動床のゼオライトとの良好な接触は。

ガスが流動ガスとして用いられた場合でも得られる。こ
のために、ライン１６６はガスラインｚ８から分離され
、ライン１６４は流動床反応器１６０から分離され、ラ
イン１６４は次いでライン１６Ｂと連結される。ライン
ＨＩ４を通って供給されるガスは次いで流動ガスの機能
をも付加的に行なう、この場合は図面に示していない。

触媒として用いるゼオライトに関して次の参照文献をあ
げる［　Ｌｏｔｈａｒ　Ｐｕｐｐｅ、　Ｚｅｏｌｌｔｈ
ｅ　−Ｅｌｇｅｎｓｃｈａｒｔｅｎ　ｕｎｄ　ｔｅｃｈ
ｎｌｓｃｈｅ　Ａｎｗｅｎｄｕｎｇｅｎ。

Ｃｈｅｍｌｅ　ｉｎ　ｕｎｓｅｒｅｒ　Ｚｅｉｔ、　ｖ
ｏｌｕｍｅ　２０．１９８Ｂ。

Ｎｏ、４．　ＶＣＨＶｅｒｌａｇｓｇｅｓｅｌｌｓｃｈ
ａｒｔ　ｍｂＨ，８９４０Ｗｅｌｎｈｅｌｍ、　Ｇｅｒ
ｍａｎｙ、　ｐａｇｅｓ　１１７−１２７コ、好ましく
用いられるゼオライト触媒ＺＳＭ５は１組成：Ｎ　ａ　
０．３Ｈ３，８［（Ａ　ｌ　０２）４．１（Ｓ　１０２
）９１．９１を有し、これにも示されている。

本発明の方法の効果は実験室実験で試験できる。

そのため、４ｍｍ開放幅の管にゼオライト触媒を導入し
た。触媒の上流に配置した管の自由部分はガスを所要の
反応温度である３７０℃にもたらすのに使った。管の隣
接部分は同様に３７０℃に加熱・し、粉末ゼオライト触
媒の床で長さしを設ける。

反応帯と反応温度Ｔにおけるガスの容量速度との比は滞
留時間ｔで示す、滞留時間は秒の単位である。

下記の実験で１等モル量のベンゼン及びトルエンを用い
た。パーセントでの収率は次の式で計算した。

［（モル　エチルベンゼン　＋　２Ｘモル　ジエチルベ
ンゼン）Ｘ１００／［モル　ベンゼン十　モル　エチル
ベンゼン　十　モル　ジエチルベンゼン］ 全ての他の生成物［少量形成した］は無視する。

これはそれぞれの場合に示された値よりアルキル化生成
物の実際の収率が高いことを意味する０個々の実験は次
の結果を生じた。

原料　　　　−／Ｔ　　　Ｌ　　　　ｔ　　　収率ガス
　　　　分　　℃　　關　　秒 ベンゼン　　１１　３７０　　９０　３．０　　４０％
プロピレン　ｌｌ ベンゼン　　１１　３７０　　９０　３．０　　７５％
エチレン　　１１ ベンゼン　　１１　３７０　１４５　４．５　　８０％
エチレン　　１１ ベンゼン　　２２　３７０　　１５　０．２５　７０％
エチレン　　２２ ベンゼン　　２２　３７０　　１５　０．２５　８８％
エチレン　　２２ ベンゼン　　２２　３７０　　９０　１．５　　７５％
エチレン　　２２ ベンゼン　　２２　３７０　１４５　２．２５　８５％
エチレン　　２２

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の第１の方法を実施する熱分解装置のブ
ロック図であり、第２図は本発明の第２の方法を実施す
る熱分解装置のブロック図であり。 第３図は別の態様としての第１図及び第２図の詳細ＩＩ
Ｉを示す図である。 熱分解反応器・・・１０．２１８　、　　冷却機・・・
４８．２４８　。 触媒・・・ｔｔｅ、　１６２．３１６　；　　別の冷却
機・・・１３４゜出願人代理人　弁理士　鈴江武彦

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １　炭化水素化合物を含有する廃物質の再処理方法、特
   にプラスチック又はゴム廃棄物を含み、熱分解的に分解
   され、発生する熱分解ガスが冷却によって液体留分とガ
   ス留分とに転換される廃物質の再処理方法であって、熱
   分解ガスがそれに含まれるガス状ベンゼン及びベンゼン
   より沸点の高いガス状熱分解ガス成分が液体層に移るま
   で冷却してベンゼン含有液体相を形成し、ベンゼン含有
   液体留分からベンゼン及びトルエン含有ガス混合物をス
   トリッピングし、該ガス混合物をガス留分と共に３００
   〜４５０℃の温度でゼオライト性触媒（１１６；１６２
   ；３１６）と接触させ、該触媒処理したガス混合物を冷
   却によって周囲圧力で液体である留分と残留ガス留分と
   に分離することを特徴とする再処理方法。 ２　炭化水素化合物を含有する廃物質の再処理方法、特
   にプラスチック又はゴム廃棄物を含み、熱分解的に分解
   され、発生する熱分解ガスが冷却によって液体留分とガ
   ス留分とに転換される廃物質の再処理方法であって、熱
   分解ガスの冷却を一方ではＣ２−及びＣ３−オレフィン
   の含量及び他方ではＣ６−及びＣ７−芳香族の含量が０
   ．８〜１．２のモル比にあるような特定ガス留分が製造
   される温度とし、該特定ガス留分を３００〜４５０℃の
   温度でゼオライト性触媒（３１６；１６２）と接触させ
   、該触媒処理した特定ガス留分を冷却によって大気圧で
   液体である留分と残留ガス留分とに分離することを特徴
   とする再処理方法。 ３　該熱分解ガスの冷却をベンゼンの沸点以上の温度、
   好ましくは該沸点の１０〜２０℃上の温度とする請求項
   ２に記載の方法。 ４　該触媒が固定床触媒の形態であり、該ガス混合物又
   は該特定ガス留分と該触媒との接触時間が０．３〜２秒
   、好ましくは０．７〜１．５秒である請求項１〜３にい
   ずれかに記載の方法。 ５　該触媒（１６２）が微細粒状で用いられ、かつ流動
   床（１６４）の形成に使用され、該ガス混合物又は該特
   定ガス留分と該流動床との接触時間が０．４〜１．５秒
   、好ましくは０．５〜１．１秒である請求項１〜３のい
   ずれかに記載の方法。 ６　該ガス混合物又は該特定ガス留分が触媒（１１６；
   ３１６；１６２）と３５０〜４１０℃の温度で接触され
   る請求項１〜５のいずれかに記載の方法。 ７　組成がＮａ＿０＿．＿３Ｈ＿３＿．＿８［（ＡｌＯ
   ＿２）＿４＿．＿１（ＳｉＯ＿２）＿９＿１＿．＿９］
   であるＺＳＭ５触媒が用いられる請求項１〜６のいずれ
   かに記載の方法。