JPH01214A - 粉体投射ランス - Google Patents
粉体投射ランスInfo
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は高炉鋳床での溶銑の予備処理を行うに際して、
粉体を溶銑中に投射するために使用する粉体投射ランス
に関するものである。
粉体を溶銑中に投射するために使用する粉体投射ランス
に関するものである。
高炉鋳床での溶銑の予備処理を行うに際して、溶銑中に
酸化剤（ミルスケール又は鉄鉱石等）と造滓剤（蛍石、
生石灰等）を添加する粉体投射方法が知られている。こ
の方法は、熔ｉ樋を流れる溶銑表面に、空気、気酸、又
は窒素ガスに粉体を混合した混合ガスとして、前記混合
ガスを加圧して投射する方法である。この方法によると
、混合ガスの運動エネルギーを利用して粉体を溶銑中に
吹き込み溶銑と粉体の接触面積を大きくすることにより
、脱珪・脱燐の反応をおこなっていた。
酸化剤（ミルスケール又は鉄鉱石等）と造滓剤（蛍石、
生石灰等）を添加する粉体投射方法が知られている。こ
の方法は、熔ｉ樋を流れる溶銑表面に、空気、気酸、又
は窒素ガスに粉体を混合した混合ガスとして、前記混合
ガスを加圧して投射する方法である。この方法によると
、混合ガスの運動エネルギーを利用して粉体を溶銑中に
吹き込み溶銑と粉体の接触面積を大きくすることにより
、脱珪・脱燐の反応をおこなっていた。
第４図は、従来使用されている粉体投射ランスの断面図
である。この図によれば、溶鉄樋３内の溶銑４を処理す
るための処理槽５を覆っている処理槽用カバー２と、処
理槽用カバー２の上方に粉体投射ランスを昇降する昇降
装置ｆ６と、昇降装置６に固定された粉体投射ランス８
を支持する支持部材７と、鋼製のパイプ８の外面に耐火
物１４を被覆した粉体投射ランス８とから構成される装
置である。このような装置で溶銑の予備処理を行うと、
溶銑の脱珪・脱燐の促進、溶銑成分の安定化、及び次工
程（製鋼炉）の生産能率及び歩留向上など優れた効果を
示している。
である。この図によれば、溶鉄樋３内の溶銑４を処理す
るための処理槽５を覆っている処理槽用カバー２と、処
理槽用カバー２の上方に粉体投射ランスを昇降する昇降
装置ｆ６と、昇降装置６に固定された粉体投射ランス８
を支持する支持部材７と、鋼製のパイプ８の外面に耐火
物１４を被覆した粉体投射ランス８とから構成される装
置である。このような装置で溶銑の予備処理を行うと、
溶銑の脱珪・脱燐の促進、溶銑成分の安定化、及び次工
程（製鋼炉）の生産能率及び歩留向上など優れた効果を
示している。
［発明が解決しようとする問題点］
しかしながら、従来の粉体投射ランスは長時間使用する
と、溶銑顕熱及び溶銑中への粉体投射中のスプラッシュ
により、粉体投射ランスの先端が溶損する。さらに、ラ
ンス先端と溶銑表面の距離が大きくなるので反応効率が
悪化する。従って常に、ランス先端と溶銑表面の距離を
一定に維持することが重要である。この装置で溶銑の予
備処理を行うと、 ■粉体投射ランスが溶損して短くなる （１／２の長さ）と、粉体投射ランスを取り替える必要
があるので、その間溶銑の予備処理ができないため、こ
の装置の稼動率が低下する。
と、溶銑顕熱及び溶銑中への粉体投射中のスプラッシュ
により、粉体投射ランスの先端が溶損する。さらに、ラ
ンス先端と溶銑表面の距離が大きくなるので反応効率が
悪化する。従って常に、ランス先端と溶銑表面の距離を
一定に維持することが重要である。この装置で溶銑の予
備処理を行うと、 ■粉体投射ランスが溶損して短くなる （１／２の長さ）と、粉体投射ランスを取り替える必要
があるので、その間溶銑の予備処理ができないため、こ
の装置の稼動率が低下する。
■昇降装置が高温雰囲気の近くにあるので、昇降装置の
故障率が高い。
故障率が高い。
■粉体投射ランスの１本当りの耐用回数が低い。
■高温雰囲気内で使用するので、粉体投射ランスの曲が
り、変形がある。
り、変形がある。
■ランスが短くなると、反応効率が低下する。
などの問題点があうた。
この発明は係かる事情に鑑みてなされたものであって、
粉体投射ランス装置の稼動率が高く、昇降装置の故障率
が低（、粉体投射ランスの１本当りの耐用回数が高く、
粉体投射ランスの曲がり、変形が少なく、高レベルの反
応効率を安定して得る装置をものを提供することを目的
とする。
粉体投射ランス装置の稼動率が高く、昇降装置の故障率
が低（、粉体投射ランスの１本当りの耐用回数が高く、
粉体投射ランスの曲がり、変形が少なく、高レベルの反
応効率を安定して得る装置をものを提供することを目的
とする。
この発明に係わる粉体投射ランスは、先端を耐熱、耐摩
耗性材料でコーティングした水冷式の外筒と、前記外筒
の内側に交換可能に配置された耐摩耗性材料からなる粉
体投射用内筒を具備したことを特徴とする。
耗性材料でコーティングした水冷式の外筒と、前記外筒
の内側に交換可能に配置された耐摩耗性材料からなる粉
体投射用内筒を具備したことを特徴とする。
この発明によれば外筒ランスの先端に耐熱、耐摩耗性材
料でコーティングすることによりランスの先端の損耗が
著しく減少し、水冷式の外筒にすることにより、ランス
の摩耗、変形、曲がりが防止され、更に水冷式であるの
で消耗スピードが遅い、更にこの外筒の内側に交換容易
な耐摩耗性材料（例、えばステンレス）を使用している
ので、内内筒の耐用回数が多い、さらに内湾と粉体供給
装置の接続を簡単な方式にするニーとによって交換時間
が著しく短縮された。
料でコーティングすることによりランスの先端の損耗が
著しく減少し、水冷式の外筒にすることにより、ランス
の摩耗、変形、曲がりが防止され、更に水冷式であるの
で消耗スピードが遅い、更にこの外筒の内側に交換容易
な耐摩耗性材料（例、えばステンレス）を使用している
ので、内内筒の耐用回数が多い、さらに内湾と粉体供給
装置の接続を簡単な方式にするニーとによって交換時間
が著しく短縮された。
以下添付された第１図、第２図、第３図を参照してこの
発明を説明する。
発明を説明する。
第１図は、粉体投射ランス装置の概要図である。
第２図は溶銑の予備処理に使われる水冷式粉体投射ラン
スｌの断面図である。第３図は水冷式粉体投射ランスｌ
の先端部の拡大図である。冷却水は、給水ヘッダー２１
より、給水パルプ２２、緊急遮断弁２３、給水流量計２
４を通り、水冷式粉体投射ランスｌの給水口２５より粉
体投射ランス１に入り、管内を通って排水口２６より出
て、排水流量計２７を経由して集中ピット２８に排水さ
れる。
スｌの断面図である。第３図は水冷式粉体投射ランスｌ
の先端部の拡大図である。冷却水は、給水ヘッダー２１
より、給水パルプ２２、緊急遮断弁２３、給水流量計２
４を通り、水冷式粉体投射ランスｌの給水口２５より粉
体投射ランス１に入り、管内を通って排水口２６より出
て、排水流量計２７を経由して集中ピット２８に排水さ
れる。
水冷式粉体投射ランス１は処理槽５ を覆うカバー２の
上に立設された固定台枠１９に設置された取りつけ部材
２０で保持されている。固定台枠１９に固定された水冷
式粉体投射ランスｌの外筒ｌＯは銅製の三重管で外管１
Ｌ中管１２、内管１３から構成され、水冷式粉体投射ラ
ンス１の先端は耐熱、耐摩耗性材料１５（例えばＮｉ−
Ｃｒ系等）を３閣から６閣の厚にコーティングされてい
る。
上に立設された固定台枠１９に設置された取りつけ部材
２０で保持されている。固定台枠１９に固定された水冷
式粉体投射ランスｌの外筒ｌＯは銅製の三重管で外管１
Ｌ中管１２、内管１３から構成され、水冷式粉体投射ラ
ンス１の先端は耐熱、耐摩耗性材料１５（例えばＮｉ−
Ｃｒ系等）を３閣から６閣の厚にコーティングされてい
る。
内筒１４は耐摩耗性材料（例えばステンレス等）より構
成され、三重管１０内に挿入される。水冷 −式粉体投
射ランスｌの上部は、粉体供給管１６と、内筒１４と、
銅製の外筒１′４の各々のフランジ−部１７はポル）１
８等で固定されている。
成され、三重管１０内に挿入される。水冷 −式粉体投
射ランスｌの上部は、粉体供給管１６と、内筒１４と、
銅製の外筒１′４の各々のフランジ−部１７はポル）１
８等で固定されている。
次に、この実施例の動作について説明する。
粉体投射ランス１を冷却するために、給水ヘソグー、よ
り給水バルブ２２を開にして３０Ｔ／Ｈの給水を供給す
る。この時水冷式粉体投射ランスｌのランス先端の流速
は３．５ｍ／秒以上となる。次ぎに、緊急遮断弁２３、
給水流量計２４を経由して水冷式粉体投射ランスｌの給
水口２５より入り、粉体投射ランス１を冷却後排水口２
６、排水流量計２７を経由して集中ピット２８に排水さ
れる。
り給水バルブ２２を開にして３０Ｔ／Ｈの給水を供給す
る。この時水冷式粉体投射ランスｌのランス先端の流速
は３．５ｍ／秒以上となる。次ぎに、緊急遮断弁２３、
給水流量計２４を経由して水冷式粉体投射ランスｌの給
水口２５より入り、粉体投射ランス１を冷却後排水口２
６、排水流量計２７を経由して集中ピット２８に排水さ
れる。
一方水冷式粉体投射ランス１は処理槽５を覆うカバー２
の上に立設された固定台枠１９に設置された取りつけ部
材２０で保持されており、空気、気酸、又は窒素ガスに
粉体を混合した混合ガスとし、前記混合ガスを加圧して
投射する粉体供給管１６を経由して粉体投射ランス１の
先端から溶鉄樋３ を流れる溶銑表面に投射される。水
冷式粉体投射ランス１の先端と溶銑の表面は所定の距離
（例えば約１００ｍ５ ）に保持されている。この範囲
が反応効率が最適であることが実験結果から確認されて
いる。
の上に立設された固定台枠１９に設置された取りつけ部
材２０で保持されており、空気、気酸、又は窒素ガスに
粉体を混合した混合ガスとし、前記混合ガスを加圧して
投射する粉体供給管１６を経由して粉体投射ランス１の
先端から溶鉄樋３ を流れる溶銑表面に投射される。水
冷式粉体投射ランス１の先端と溶銑の表面は所定の距離
（例えば約１００ｍ５ ）に保持されている。この範囲
が反応効率が最適であることが実験結果から確認されて
いる。
水冷式粉体投射ランス１の先端は耐熱、耐摩耗性材料で
コーティングされ、水冷されているので水冷効果により
ランスにスプラッシュが付着しにくく、摩耗、変形、曲
がり等の発生はほどんとない。
コーティングされ、水冷されているので水冷効果により
ランスにスプラッシュが付着しにくく、摩耗、変形、曲
がり等の発生はほどんとない。
なお、水冷式粉体投射ランスｌの使用時において、処理
槽５に水漏れ等が発生すると、水蒸気爆発を起こし、設
備破壊、人身災害等の危険があるので給水流量計２４と
排水流量計２７の実測値を制御装置２９に入力し、両方
の実測値の差が３％以上になると制御装置２９から緊２
．遮断弁２３を閉にして、更に粉体吹き込み装置の混合
ガスの供給を停止し、水冷式粉体投射ランス１装置を系
外に移動することもできる。
槽５に水漏れ等が発生すると、水蒸気爆発を起こし、設
備破壊、人身災害等の危険があるので給水流量計２４と
排水流量計２７の実測値を制御装置２９に入力し、両方
の実測値の差が３％以上になると制御装置２９から緊２
．遮断弁２３を閉にして、更に粉体吹き込み装置の混合
ガスの供給を停止し、水冷式粉体投射ランス１装置を系
外に移動することもできる。
表１に上記実施例で行った場合の本発明法と従来法との
比較を示す。表１から明らかなように稼動率、故障時間
、耐用回数、ランスの変形等が著しく改善されている。
比較を示す。表１から明らかなように稼動率、故障時間
、耐用回数、ランスの変形等が著しく改善されている。
〔発明の効果］
この発明によれば、先端を耐熱、耐摩耗性材料でコーテ
ィングした水冷式の外筒と、前記外筒の内側に交換可能
に配置された耐摩耗性材料からなる粉体投射用内筒を具
備しているので、故障時間の短縮、耐用回数のアップ、
ランスの変形と、消耗の減少にによる、稼働率アップ、
反応効率のアップ等が図れて、溶銑の予備処理量の増大
が可能である。
ィングした水冷式の外筒と、前記外筒の内側に交換可能
に配置された耐摩耗性材料からなる粉体投射用内筒を具
備しているので、故障時間の短縮、耐用回数のアップ、
ランスの変形と、消耗の減少にによる、稼働率アップ、
反応効率のアップ等が図れて、溶銑の予備処理量の増大
が可能である。
第１図はこの実施例に係わる粉体投射ランス装置の概要
図、第２図は溶銑の予備処理に使われる水冷式粉体投射
ランスの断面図、第３図は水冷式粉体投射ランスの先端
部の拡大図、第４図は、従来使用されている粉体投射ラ
ンスの断面図である。 １−・・水冷式粉体ランス、 ４−溶銑。 ５−・−カバー、 １０・−外筒。 １１・−外管、 １２−中管。 １３−・内管、 １４・−・内筒。 特許出願人 日本鋼管株式會社第２図
図、第２図は溶銑の予備処理に使われる水冷式粉体投射
ランスの断面図、第３図は水冷式粉体投射ランスの先端
部の拡大図、第４図は、従来使用されている粉体投射ラ
ンスの断面図である。 １−・・水冷式粉体ランス、 ４−溶銑。 ５−・−カバー、 １０・−外筒。 １１・−外管、 １２−中管。 １３−・内管、 １４・−・内筒。 特許出願人 日本鋼管株式會社第２図
Claims (1)
- 先端を耐熱、耐摩耗性材料でコーティングした水冷式の
外筒と、前記外筒の内側に交換可能に配置された耐摩耗
性材料からなる粉体投射用内筒を具備したことを特徴と
する粉体投射ランス。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15443287A JPS64214A (en) | 1987-06-23 | 1987-06-23 | Lance for injecting powdery material |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15443287A JPS64214A (en) | 1987-06-23 | 1987-06-23 | Lance for injecting powdery material |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01214A true JPH01214A (ja) | 1989-01-05 |
| JPS64214A JPS64214A (en) | 1989-01-05 |
Family
ID=15584056
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15443287A Pending JPS64214A (en) | 1987-06-23 | 1987-06-23 | Lance for injecting powdery material |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS64214A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2752888B2 (ja) * | 1993-08-11 | 1998-05-18 | 川崎製鉄株式会社 | 転炉に適用するクロム鉱石投入用ランス |
| CN100424192C (zh) * | 2006-03-23 | 2008-10-08 | 武汉钢铁(集团)公司 | 自冷式铁水预处理喷枪 |
-
1987
- 1987-06-23 JP JP15443287A patent/JPS64214A/ja active Pending
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