JPH01217743A - 現像装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、現像装置、特に、ビデオディスク。

オーディオディスクあるいは追記型光ディス゛り。

書き換え型光ディスク等の信号記録ガラス原盤の作製の
ための現像装置に関する。

〔従来の技術〕

一般に、信号が凹凸のピットの形態で形成されたディス
クやＵ型あるいはＶ型のトラッキング用グループが形成
されたディスクはガラス原盤から製作される。そしてこ
のガラス原盤は、レーザー等によりガラス基板上に塗布
したフォトレジストにダルーブやピットのパターンを露
光し現像することにより製作される。

次に、図面を参照しながら従来の現像装置について説明
する。

第５図は従来の一例を示す模式図である。

第５図に示す現像装置は、モータ３により回転するター
ンテーブル１４にガラス原盤を保持しガラス原盤ｌの上
に現像液ノズル２から現像液１０を滴下して現像するも
ので現像液を０Ｎ１０ＦＦする現像液制御バルブａ／９
と、前記現像液制御バルブ９を所定の時間ＯＮにするタ
イマ１５とで現像状態を制御している。端子２００に現
像スタート信号ｇが印加されることによりタイマ１５が
作動し、このタイマ１５で設定された時間だけ現像液制
御バルブ９をＯＮにするバルブ制御信号りを発生する。

したがって、タイマ１５で設定された時間だけ前記ガラ
ス原盤１は現像される。前記タイマ１５に設定する時間
は露光時のパワー、現像液濃度等により決定される。

〔発明が解決りようとする課題〕

しかしながら、このような上述した従来の現像装置は、
タイマにより指定された時間だけ現像液制御バルブをＯ
Ｎにして現像を行なうため現像液濃度変化等がある場合
に光デイスク原盤のレジストパターンの形状を変化させ
てしまうとう欠点があった。

〔課題を解決するための手段〕

本発明の現像装置は、光ディスクのパターンが露光され
たガラス原盤に現像液を滴下するための現像液滴下ノズ
ルと、前記ガラス原盤のパターン露光領域の基板側に配
置された光ピックアップと、前記光ピックアップから出
力されるレーザービームをガラス原盤のパターン面上に
常に光の焦点を結ばせるようにするためのフォーカスサ
ーボ回路と、前記光ピックアップによって検出さｈるガ
ラス原盤上のパターン面からの反射光量信号が予蛯め設
定した規定レベルになったときに現像液の滴下を停止す
るための現像液制御バルブとを含んで構成される。

〔実施例〕

次に、本発明の実施例について、図面を参照して説明す
る。

第１図は本発明の一実施例を示す模式図である。

第１図に示す現像装置は、光ディスクのパターンが露光
されたガラス原盤１を保持する保持台４を回転させるモ
ータ３と、ガラス原盤１上に現像液１０を滴下する現像
液滴下ノズル２と現像液ｌＯを０Ｎ１０ＦＦする現像液
制御バルブ９と、ガラス原盤１のパターン露光領域の基
板側に光軸が垂直になるように配置された光ピックアッ
プ５と、この光ピックアップ５からのレーザービームを
回転しているガラス原盤１のパターン面上にフォーカス
させるフォーカスサーボ回路６と、光ピックアップ５で
検出されるガラス原盤１のパターン面で反射された信号
を増幅する増幅器７と、この増幅器７から出力される信
号レベルとあらかじめ設定した規定レベルとを比較しバ
ルブ制御信号を発生する比較回路１０とで構成されてい
る。

端子１００に現像開始信号ｆが印加されると現像液制御
バルブ９がＯＮになり、光ディスクのパターンが露光さ
れたガラス原盤１は現像液滴下ノズル２から現像液１０
の滴下を受けて現像が開始する。

また、保持台４によって保持されたガラス原盤１は、回
転モータ３により回転しているので現像液１０は、ガラ
ス原盤１の全面にわたって均等に流れる。

光ピックアップ５はフォーカス点からのずれを示す誤差
信号すをフォーカスサーボ回路６に供給し、これに応答
してフォーカスサーボ回路６は光ピックアップ５内の７
クチユエータコイルを駆動させるための７クチユ工−タ
駆動信号Ｃを返送する。

このときパターン面上での反射光１２は光ピックアップ
５内の検出器により反射光量の変化を電気信号に変換し
た反射光量検出信号ａとして出力される。この反射光量
検出信号は増幅器７によって増幅され、反射光量信号ｄ
として出力される。

Ｕ型あるいはＶ型のグループ１３が露光されている場合
露光されているグループ１３は回転の中心に対して偏心
をもっているのでレーザービーム１１は第２図に示すよ
うにガラス原盤ｌの回転に伴い何本かの・トラックを横
断する。パターン面で反射されるレーザービーム１１の
強度はグループ１３やランド１４で異なり、さらにグル
ープ１３の深さ幅および形状によっても異なる。

したがって、光ピックアップ５に入射する反射光量は変
化し、この変化は光ピックアップ５内の検出器で電気信
号に変換される。

一般に、ランド１４の方がグループ１３よりも幅が大き
いためランド１４にレーザービームが集光している時反
射光量が最大になり、グループ１３の時最小になる。

また、グループ１３の深さが深くなるにしたがって反射
光量は小さくなる。

第３図は第１図に示す反射光量信号を示す波形図で、現
像中のガラス原盤１が１回転したときに増幅器７から出
力される反射光量信号ｄを示す図である。

反射光量信号ｄは前述したようにグループ１３、ランド
１４で異なるためサイン波状に変化する。また、反射光
量信号ｄのピーク間電圧は、現像の信号に伴ない形成さ
れるグループ１３が深くなるのにした、かって大きくな
る。

第４図は第１図に示す実施例における現像の進行と第３
図に示す反射光量信号ｄのピーク間電圧を示す図である
。

第１図に示す比較器８は、この反射光量信号ｄのピーク
間電圧と、端子１１０にあらかじめセットされた規定レ
ベル信号ｄ０とが等しくなった時現像停止信号ｅを発生
した現像液制御バルブ９を閉じ現像を終了させる。

たとえば、現像液濃度が変化した場合、現像の進行速度
が変化するので、反射光量信号ｄのピーク間電圧が規定
レベルに達するのに要する時間は変化する。

反射光量信号ｄのピーク間電圧は、形成されるグループ
１３の深さと１対１の関係がある。

したがって現像液濃度が変化した場合でも、本発明の現
像装置で現像すれば一定の深さのグループが得られるこ
とはこれまでの説明から明らかである。

〔発明の効果〕

本発明の現像装置は、現像中にガラス原盤のパターン面
からの反射光を光ピックアップを用いて検出し得られる
反射光量信号とあらかじめ設定された規定レベル信号と
を比較し、前記反射光量信号と規定レベル信号とが等し
くなったときに現像停止することにより現像液の濃度変
化等がある場合でも規定の深さをもつグループを形成で
きるため安定した光デイスクパターンを製造できるとい
う効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例を示す模式図、第２図は第１
図に示すガラス原盤の動作を説明するための模式図、第
３図は第１図に示す反射光量信号を示す波形図、第４図
は第１図に示す実施例にお１・・・・・・ガラス原盤、
２・・・・・・現像液滴下ノズル、３・・・・・・モー
タ、４・・・・・・保持台、５・・・・・・光ピックア
ップ、６・・・・・・フォーカスサーボ回路、７・・・
・・・増幅器、訃・・・・・比較器、９・・・・・・現
像液制御バルブ、１０・・・・・・現像液、１１・・・
・・・レーザービーム、１２・・・・・・反射光、１３
・・・・・・グループ、１４・・・・・・ランド、１５
・・・・・・タイマ、１６・・・・・・ターンテーブル
、ａ・・・・・・反射光量検出信号、ｂ・・・・・・誤
差信号、Ｃ・・・・・・アクチュエータ駆動信号、ｄ・
・・・・・反射光量信号、ｄｏ・・・・・・規定レベル
信号、ｅ・・・・・・現像停止信号、ｆ・・・・・・現
像開始信号、ｇ・・・・・・現像スタート信号、ｈ・・
・・・・バルブ制御信号、１００．１１０，２００・・
・・・・端子。 代理人　弁理士　　内　原　　　音 石Ｚ図 、箭４図 時間−理形社時間

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 光ディスクのパターンが露光されたガラス原盤に現像液
   を滴下するための現像液滴下ノズルと、前記ガラス原盤
   のパターン露光領域の基板側に配置された光ピックアッ
   プと、前記光ピックアップから出力されるレーザービー
   ムを前記ガラス原盤のパターン面上に常に光の焦点を結
   ばせるようにするためのフォーカスサーボ回路と、前記
   光ピックアップによって検出されるガラス原盤上のパタ
   ーン面からの反射光量信号が予じめ設定した規定レベル
   になったときに現像液の滴下を停止するための現像液制
   御バルブとを含むことを特徴とする現像装置。