JPH01219013A - 銅含有ゼオライト、その製造法、該ゼオライトからなるcoガス中のo2の除去用触媒、およびcoガス中のo2の除去方法 - Google Patents
銅含有ゼオライト、その製造法、該ゼオライトからなるcoガス中のo2の除去用触媒、およびcoガス中のo2の除去方法Info
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- JPH01219013A JPH01219013A JP4550588A JP4550588A JPH01219013A JP H01219013 A JPH01219013 A JP H01219013A JP 4550588 A JP4550588 A JP 4550588A JP 4550588 A JP4550588 A JP 4550588A JP H01219013 A JPH01219013 A JP H01219013A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、結晶内に銅が高度に分散した微細構造を有す
る銅含有ゼオライト、その製造法、該ゼオライトからな
るCOガス中の02の除去用触媒、および該触媒を用い
たCOガス中の02の除去方法に関するものである。
る銅含有ゼオライト、その製造法、該ゼオライトからな
るCOガス中の02の除去用触媒、および該触媒を用い
たCOガス中の02の除去方法に関するものである。
従来の技術
高純度COガスの製造に際しては、COガス中に微量な
いし少量台まれている62を除去することが要求される
ことが多い、たとえば、転炉ガスから高純度のCOガス
を分離回収する場合、COガス中に含まれる数百pp■
程度の02を除去することが必要となる。
いし少量台まれている62を除去することが要求される
ことが多い、たとえば、転炉ガスから高純度のCOガス
を分離回収する場合、COガス中に含まれる数百pp■
程度の02を除去することが必要となる。
COガス中の02は、COと02との接触反応を行って
02をCO2に変換させることにより除去できる。接触
反応によるCOガス中の02の除去が工業的に成り立つ
かどうかは、触媒の性能にかかっていると言って過言で
はない。
02をCO2に変換させることにより除去できる。接触
反応によるCOガス中の02の除去が工業的に成り立つ
かどうかは、触媒の性能にかかっていると言って過言で
はない。
この目的の触媒として、本発明者はすでにCu−Cr2
O3系触媒を提案している。(日本化学会筒50年会予
稿集、I 、655 (1985)参照) 発明が解決しようとする課題 COガス中の02の除去触媒としては、繰り返し使用し
ても高変換率(02→C02)が得られるのみならず、
常温常圧で使用できることが工業化に際しては強く要求
される。
O3系触媒を提案している。(日本化学会筒50年会予
稿集、I 、655 (1985)参照) 発明が解決しようとする課題 COガス中の02の除去触媒としては、繰り返し使用し
ても高変換率(02→C02)が得られるのみならず、
常温常圧で使用できることが工業化に際しては強く要求
される。
しかるに、COガス中の02の除去触媒としての上述の
Cu−Cr2O3系触媒は、本発明者らの提案にかかる
ものであるが、02を含むCOガスと触媒との接触反応
を60℃程度の中温域で行わなければならないため、工
業的にはなお改良の余地がある。
Cu−Cr2O3系触媒は、本発明者らの提案にかかる
ものであるが、02を含むCOガスと触媒との接触反応
を60℃程度の中温域で行わなければならないため、工
業的にはなお改良の余地がある。
そこで本発明者らは、COガス中の02の除去触媒とし
て、■市販のゼオライト担体へ銅塩を含浸させる方法、
■市販のゼオライトにイオン交換法により銅を担持させ
る方法、■ゼオライトと粉末CuOとを混合する方法、
により銅含有ゼオライト触媒を得、その触媒性能を調べ
たが、■の触媒にあっては、銅担持の際にゼオライトの
活性点を被覆するので、触媒活性が低くなること、■の
触媒にあっては、銅含有量が低いため触媒活性が低いこ
と、■の触媒にあっては、基本的には銅含有ゼオライト
とは言い難い上、触媒活性も低いこと、などの問題があ
った。
て、■市販のゼオライト担体へ銅塩を含浸させる方法、
■市販のゼオライトにイオン交換法により銅を担持させ
る方法、■ゼオライトと粉末CuOとを混合する方法、
により銅含有ゼオライト触媒を得、その触媒性能を調べ
たが、■の触媒にあっては、銅担持の際にゼオライトの
活性点を被覆するので、触媒活性が低くなること、■の
触媒にあっては、銅含有量が低いため触媒活性が低いこ
と、■の触媒にあっては、基本的には銅含有ゼオライト
とは言い難い上、触媒活性も低いこと、などの問題があ
った。
本発明は、このような状況に鑑み、繰り返し使用しても
活性が高く、かつ常温常圧でも効率的にCOガス中の0
2をCO2に変換できる銅含有ゼオライト触媒を得るべ
く鋭意研究を重ねた結果到達したものである。
活性が高く、かつ常温常圧でも効率的にCOガス中の0
2をCO2に変換できる銅含有ゼオライト触媒を得るべ
く鋭意研究を重ねた結果到達したものである。
課題を解決するための手段
本発明の銅含有ゼオライ目i、ゼオライト合成の結晶化
工程において結晶内に銅が取り込まれ、結晶内に銅が高
度に分散した微細構造を有するものである二 本発明の銅含有ゼオライトは、合成ゼオライトの原料混
合物に水溶性銅(n)塩を混合して結晶化反応を進行さ
せ、ついで生成した結晶を焼成することを特徴とするも
のである。
工程において結晶内に銅が取り込まれ、結晶内に銅が高
度に分散した微細構造を有するものである二 本発明の銅含有ゼオライトは、合成ゼオライトの原料混
合物に水溶性銅(n)塩を混合して結晶化反応を進行さ
せ、ついで生成した結晶を焼成することを特徴とするも
のである。
本発明のCOガス中の02の除去用触媒は、上記の銅含
有ゼオライトからなるものである。
有ゼオライトからなるものである。
本発明のCOガス中の02の除去方法は、02を含むC
Oガスを触媒と接触させてそこに含まれる02をCO2
に変換するに際し、上記の銅含有ゼオライト触媒を用い
ることを特徴とするものである。
Oガスを触媒と接触させてそこに含まれる02をCO2
に変換するに際し、上記の銅含有ゼオライト触媒を用い
ることを特徴とするものである。
以下本発明の詳細な説明する。
合成ゼオライトは、周知のように、アルカリ、アルミナ
、シリカ、水の各成分を原料とし、該原料混合物を水熱
合成に供して結晶化し、ついで生成した結晶を焼成する
ことにより製造される。
、シリカ、水の各成分を原料とし、該原料混合物を水熱
合成に供して結晶化し、ついで生成した結晶を焼成する
ことにより製造される。
本発明においては、この結晶化工程において結晶内に銅
が取り込まれるようにし、それにより結晶内に銅が高度
に分散した微細構造を有する合成ゼオライトを得るので
ある。
が取り込まれるようにし、それにより結晶内に銅が高度
に分散した微細構造を有する合成ゼオライトを得るので
ある。
合成ゼオライトの製造に際しては、アルカリ源としては
水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、水酸化カリウムな
ど、アルミナ源としてはアルミン酸ナトリウム、アルミ
ン酸カリウムなど、シリカ源としてはエアロジル、シリ
カゲル、シリカゾル、粉末状シリカガラスなどが用いら
れる。
水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、水酸化カリウムな
ど、アルミナ源としてはアルミン酸ナトリウム、アルミ
ン酸カリウムなど、シリカ源としてはエアロジル、シリ
カゲル、シリカゾル、粉末状シリカガラスなどが用いら
れる。
特にNa2O−AM2O3−5 i02−H2O系合成
ゼオライトを得るようにすることが望ましく、その場合
の原料混合物の好ましい組成は、モル比で、 5i02/A文2O3 = 0.5〜25(特に0.5
〜5) N a2O/S i 02 = 0.5〜14H2O/
Na2O= 5〜50 である。
ゼオライトを得るようにすることが望ましく、その場合
の原料混合物の好ましい組成は、モル比で、 5i02/A文2O3 = 0.5〜25(特に0.5
〜5) N a2O/S i 02 = 0.5〜14H2O/
Na2O= 5〜50 である。
そして、上記原料混合物に、モル比で
Cu O/ A立2O3 = 0.3〜0.7にあたる
水溶性銅(II)塩を添加した後、結晶化反応を進行さ
せるようにすることが望ましい。
水溶性銅(II)塩を添加した後、結晶化反応を進行さ
せるようにすることが望ましい。
水溶性銅(II)塩としては、硝酸銅(II)が好適に
用いられ、そのほか、酢酸銅(■)、ギ酸銅(■)、グ
ルコン酸銅(■)、硫酸銅(n)、塩化銅(II)、過
塩素酸銅(■)、塩素酸銅(II)、重クロム酸銅(U
)、アミドスルホン酸銅(II)なども用いられる。
用いられ、そのほか、酢酸銅(■)、ギ酸銅(■)、グ
ルコン酸銅(■)、硫酸銅(n)、塩化銅(II)、過
塩素酸銅(■)、塩素酸銅(II)、重クロム酸銅(U
)、アミドスルホン酸銅(II)なども用いられる。
結晶化反応の温度条件としては、50〜100℃1殊に
70〜90℃の条件を採用することが望ましい。50℃
未満では結晶化が円滑に進行せず、一方100℃を越え
ると結晶化反応がはやすぎて結晶内における銅の分散が
不完全になるおそれがある。
70〜90℃の条件を採用することが望ましい。50℃
未満では結晶化が円滑に進行せず、一方100℃を越え
ると結晶化反応がはやすぎて結晶内における銅の分散が
不完全になるおそれがある。
結晶化反応時間は5〜12時間が適当であり、反応時間
が短かすぎると結晶化が不十分になり、反応時間が長ず
ざると生産性の点で不利となる。
が短かすぎると結晶化が不十分になり、反応時間が長ず
ざると生産性の点で不利となる。
結晶生成後は、ろ過、水洗等を行い、乾燥してから焼成
を行う。
を行う。
結晶の焼成温度は350〜700℃、特に450〜85
0℃が適当であり、焼成温度が高すぎても低すぎても触
媒活性が低下する傾向がある。
0℃が適当であり、焼成温度が高すぎても低すぎても触
媒活性が低下する傾向がある。
このようにして得られた銅含有ゼオライトは、適宜成型
、造粒あるいは粉砕を行って適当な粒度に調製し、微量
ないし少量の02を含むCOガスからの02の除去用の
触媒として使用される。
、造粒あるいは粉砕を行って適当な粒度に調製し、微量
ないし少量の02を含むCOガスからの02の除去用の
触媒として使用される。
COガスからの02の除去にあたっては、通常はこの触
媒を塔に充填して固定床となし、そこに02を含むCO
ガスを供給するが、流動床触媒として用いることもでき
る。
媒を塔に充填して固定床となし、そこに02を含むCO
ガスを供給するが、流動床触媒として用いることもでき
る。
微量ないし少量の02を含むCOガスとしては、転炉ガ
ス、コークス炉ガス、高炉ガス、電気製鋼炉ガスなどか
ら分離回収したガス、非鉄金属等のCO還元反応や有機
合成反応で得られるガスをはじめ、種々のガスがあげら
れる。
ス、コークス炉ガス、高炉ガス、電気製鋼炉ガスなどか
ら分離回収したガス、非鉄金属等のCO還元反応や有機
合成反応で得られるガスをはじめ、種々のガスがあげら
れる。
反応に際しては、予め触媒を高温下に数%程度の02を
含むCOガスと接触させて活性化を行う。活性化は、H
2などの還元性ガスによって行うこともできる。
含むCOガスと接触させて活性化を行う。活性化は、H
2などの還元性ガスによって行うこともできる。
02を含むCOガスと触媒との接触反応は、任意の温度
で行うことができる。この場合、100〜300℃とい
うような高温域で反応が進行することはもちろんである
が、50〜100℃というような中温域はもとより、そ
れ以下の温度、殊に常温あるいはそれ以下の温度でも、
高温域や中温域同様に02からCO2への変換反応が円
滑に進行することが本発明の最大の特長点である。
で行うことができる。この場合、100〜300℃とい
うような高温域で反応が進行することはもちろんである
が、50〜100℃というような中温域はもとより、そ
れ以下の温度、殊に常温あるいはそれ以下の温度でも、
高温域や中温域同様に02からCO2への変換反応が円
滑に進行することが本発明の最大の特長点である。
反応圧力は常圧で十分であるが、加圧下で反応を行って
も差支えない。
も差支えない。
作 用
次に本発明の作用を、後述の実施例1の触媒を用いた場
合を例にとって具体的に説明する。
合を例にとって具体的に説明する。
実施例1で得た触媒の活性化に際しての温度依存性を見
るために、上記で得た触媒2gを内径8.7amの石英
反応管に充填し、常圧工種々の温度の還元性雰囲気(2
O000ppmの02を含むCOガス、ただし約5%の
アルゴンを含む)を通して活性化を行い、CO酸化性能
を調べた。結果を第1図および第2図に示す。
るために、上記で得た触媒2gを内径8.7amの石英
反応管に充填し、常圧工種々の温度の還元性雰囲気(2
O000ppmの02を含むCOガス、ただし約5%の
アルゴンを含む)を通して活性化を行い、CO酸化性能
を調べた。結果を第1図および第2図に示す。
第1図のように、還元性条件においては、第1回目は2
50℃付近で02転化率約95%に達し、第2回目以降
は150℃付近で02転化率約95%に達し、いずれの
場合も常温まで降温しても活性の低下は認められなかっ
た。なお02転化率が約95%にとどまったのは、使用
した還元性雰囲気としてたまたまアルゴンを約5%含む
ものを用いたからであ、す、実質的な02転化率はほぼ
100%である。
50℃付近で02転化率約95%に達し、第2回目以降
は150℃付近で02転化率約95%に達し、いずれの
場合も常温まで降温しても活性の低下は認められなかっ
た。なお02転化率が約95%にとどまったのは、使用
した還元性雰囲気としてたまたまアルゴンを約5%含む
ものを用いたからであ、す、実質的な02転化率はほぼ
100%である。
次に、供給ガスとして酸化性ガス(2O000ppmの
COを含む空気)を通して活性化を行い、co酸化性能
を調べた、結果を第2図に示す。
COを含む空気)を通して活性化を行い、co酸化性能
を調べた、結果を第2図に示す。
第2図のように、酸化性条件においては、第1回目は3
00℃付近で、第2回目以降は250℃付近でCO転化
率はほぼ100%に達し、いずれの場合も降温しても1
50℃付近までは活性の低下は認められなかった。
00℃付近で、第2回目以降は250℃付近でCO転化
率はほぼ100%に達し、いずれの場合も降温しても1
50℃付近までは活性の低下は認められなかった。
以上のことから、実施例1の触媒においては、銅が結晶
内部に高度に分散した状態にあるため容易には酸化を受
けず、従って繰り返し使用しても所期の02転化能力を
保持することがわかる。
内部に高度に分散した状態にあるため容易には酸化を受
けず、従って繰り返し使用しても所期の02転化能力を
保持することがわかる。
一方、比較例1で得た触媒(シリカゲルに硝酸銅、(■
)水溶液を含浸後、焼成、H2還元を行い、銅を8.6
重量%担持させたもの)の活性化に際しての温度依存性
を上記と同様にして調べたところ、還元性雰囲気におい
ては第3図、酸化性雰囲気においては第4図の結果が得
られた。
)水溶液を含浸後、焼成、H2還元を行い、銅を8.6
重量%担持させたもの)の活性化に際しての温度依存性
を上記と同様にして調べたところ、還元性雰囲気におい
ては第3図、酸化性雰囲気においては第4図の結果が得
られた。
第3図のように、還元性条件においては第1図の場合に
類似した反応特性を示した。(なお02転化率が約95
%にとどまったのは、使用した還元性雰囲気としてアル
ゴンを約5%含むものを用いたからであり、実質的な0
2転化率はほぼ100%である。) しかしながら、第4図のように、酸化性条件においては
、昇温過程では第2図の場合に類似した反応特性を示し
たものの、降温過程では210℃付近で活性が落ちはじ
め、第2回目以降もほとんど変化が認められなかった。
類似した反応特性を示した。(なお02転化率が約95
%にとどまったのは、使用した還元性雰囲気としてアル
ゴンを約5%含むものを用いたからであり、実質的な0
2転化率はほぼ100%である。) しかしながら、第4図のように、酸化性条件においては
、昇温過程では第2図の場合に類似した反応特性を示し
たものの、降温過程では210℃付近で活性が落ちはじ
め、第2回目以降もほとんど変化が認められなかった。
このことから、比較例1の触媒においては、銅が表面に
露出した状態にあり、実施例1の触媒に比べて分散度が
低いために、容易に酸化を受けるものと推定される。
露出した状態にあり、実施例1の触媒に比べて分散度が
低いために、容易に酸化を受けるものと推定される。
実施例
次に実施例をあげて本発明をさらに説明する。
なお、出口ガス中の02濃度は、生成するCO2を赤外
線式ガス分析計により連続分析することにより行った。
線式ガス分析計により連続分析することにより行った。
実施例1
[触媒の製造]
攪拌機付きの反応器に、水ガラス9g、アルミン酸ナト
リウム8g、硝酸銅(II)3g、水酸化ナトリウム1
2gおよび水50gを仕込み、温度85℃に保持して6
時間反応させ、結晶15gを得た。
リウム8g、硝酸銅(II)3g、水酸化ナトリウム1
2gおよび水50gを仕込み、温度85℃に保持して6
時間反応させ、結晶15gを得た。
原料混合物の組成は、モル比で、
S f02 /A12O3 = 1
Na2O/S i02 =5
H2O/Na2O= 11
であり、原料混合物に添加した硝酸銅(n)の量は、モ
ル比で Cuo/AfL2O3 = 0.5 にあたる量であった。
ル比で Cuo/AfL2O3 = 0.5 にあたる量であった。
この結晶を加温状態のままろ過した後、冷水で洗浄し、
引き続いて空気中85℃で10時間乾燥を行い、触媒原
体9gを得た。
引き続いて空気中85℃で10時間乾燥を行い、触媒原
体9gを得た。
得られた触媒原体を空気雰囲気下に550℃で1時間焼
成し、目的とする触媒(銅含有ゼオライト)6gを得た
。
成し、目的とする触媒(銅含有ゼオライト)6gを得た
。
この触媒(銅含有ゼオライト)は、XRDおよびSEM
観察により、A型構造を有していることが確認された。
観察により、A型構造を有していることが確認された。
また原子吸光法で分析した結果、触媒中の銅含有量は8
.8重量%であった。
.8重量%であった。
[COガス中の02の除去]
上記で得た触媒2gを内径8.7mmの石英反応管に充
填し、まず温度160℃、常圧下に、2O000 pp
raの02を含むCOガスを通して活性化を行った。
填し、まず温度160℃、常圧下に、2O000 pp
raの02を含むCOガスを通して活性化を行った。
引き続き、入口ガスとして
Co 99vo1%
02 11000pp
の組成のガスを常温、常圧下、空塔速度2O00/hで
10時間通したところ、出口ガス中の02濃度は、全期
間を通じて2O PP11であった・実施例2 実施例1と同様にして触媒の製造およびその活性化を行
った後、入口ガスとして Co 99vo1% 02 500ppm の組成のガスを常温、常圧下、空塔速度3000/hで
30時間通したところ、出口ガス中の02濃度は、全期
間を通じて0.8ppmであった。
10時間通したところ、出口ガス中の02濃度は、全期
間を通じて2O PP11であった・実施例2 実施例1と同様にして触媒の製造およびその活性化を行
った後、入口ガスとして Co 99vo1% 02 500ppm の組成のガスを常温、常圧下、空塔速度3000/hで
30時間通したところ、出口ガス中の02濃度は、全期
間を通じて0.8ppmであった。
実施例3
攪拌機付きの反応器に、水ガラス5g、アルミン酸ナト
リウム1g、硝酸銅(II)Ig、水酸化ナトリウム1
6gおよび水140gを仕込み、温度80℃に保持して
30時間反応させ、結晶12gを得た。
リウム1g、硝酸銅(II)Ig、水酸化ナトリウム1
6gおよび水140gを仕込み、温度80℃に保持して
30時間反応させ、結晶12gを得た。
原料混合物の組成は、モル比で、
S i02 /AfL2O3 =5
Na2O/5i02 =lO
H2O/Na2O=30
であり、原料混合物に添加した硝酸銅(II)の量は、
モル比で Cuo/AM2 03 = 0.6にあたる量であ
った。
モル比で Cuo/AM2 03 = 0.6にあたる量であ
った。
この結晶を加温状態のままろ過した後、冷水で洗浄し、
引き続いて空気中100℃で15時間乾燥を行い、触媒
原体7gを得た。
引き続いて空気中100℃で15時間乾燥を行い、触媒
原体7gを得た。
得られた触媒原体を空気雰囲気下に500℃で1時間焼
成し、目的とする触媒(銅含有ゼオライト)5gを得た
。触媒中の銅含有量は6.5重量%であった。
成し、目的とする触媒(銅含有ゼオライト)5gを得た
。触媒中の銅含有量は6.5重量%であった。
上記で得た触媒を用いたほかは、実施例1と同様にして
COガス中の02の除去を試みた。
COガス中の02の除去を試みた。
出口ガス中の02濃度は、5時間の流通期間を通じて2
5 ppmであった・ 比較例1 メルク社製のシリカゲルを硝酸鋼(II)水溶液に含浸
後、焼成、H2還元を行って銅を8.8重量%担持させ
、打錠成型した後、7〜15メツシユに破砕した。
5 ppmであった・ 比較例1 メルク社製のシリカゲルを硝酸鋼(II)水溶液に含浸
後、焼成、H2還元を行って銅を8.8重量%担持させ
、打錠成型した後、7〜15メツシユに破砕した。
このようにして得られた触媒を用いたほかは、実施例1
と同様にしてCOガス中の02の除去を試みた。
と同様にしてCOガス中の02の除去を試みた。
出口ガス中の02濃度は、最初のうちは2Oppmであ
ったが、1時間経過後には急速に転化率が悪くなり、2
時間経過後にはo2除去能力を失った。
ったが、1時間経過後には急速に転化率が悪くなり、2
時間経過後にはo2除去能力を失った。
発明の効果
本発明の銅含有ゼオライトからなる触媒は、常温常圧で
も効率的にCOガス中の02をCO2に変換できる上、
繰り返し使用しても活性が高いので、COガス中に微量
ないし少量台まれる02の除去が可能になり、工業的意
義が大きい。
も効率的にCOガス中の02をCO2に変換できる上、
繰り返し使用しても活性が高いので、COガス中に微量
ないし少量台まれる02の除去が可能になり、工業的意
義が大きい。
第1図は実施例1の触媒の還元性条件下におけるco酸
化性能を示したグラフ、第2図は実施例1の触媒の酸化
性条件下におけるCO酸化性能を示したグラフであり、
実線は昇温過程、点線は降温過程である。 第3図は比較例1の触媒の還元性条件下におけるCO酸
化性能を示したグラフ、第4図は比較例1の触媒の酸化
性条件下におけるCO醜化性能を示したグラフであり、
実線は昇温過程1点線は降温過程である。 特許出願人 乾 智 行 第1図 第2図 Reaction temp、 (”C) 2、O九
Co/Air第3匡 第4図
化性能を示したグラフ、第2図は実施例1の触媒の酸化
性条件下におけるCO酸化性能を示したグラフであり、
実線は昇温過程、点線は降温過程である。 第3図は比較例1の触媒の還元性条件下におけるCO酸
化性能を示したグラフ、第4図は比較例1の触媒の酸化
性条件下におけるCO醜化性能を示したグラフであり、
実線は昇温過程1点線は降温過程である。 特許出願人 乾 智 行 第1図 第2図 Reaction temp、 (”C) 2、O九
Co/Air第3匡 第4図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、ゼオライト合成の結晶化工程において結晶内に銅が
取り込まれ、結晶内に銅が高度に分散した微細構造を有
する銅含有ゼオライト。 2、合成ゼオライトの原料混合物に水溶性銅(II)塩を
混合して結晶化反応を進行させ、ついで生成した結晶を
焼成することを特徴とする銅含有ゼオライトの製造法。 3、合成ゼオライトの原料混合物が、Na_2O−Al
_2O_3−SiO_2−H_2O系合成ゼオライトの
原料混合物である請求項2記載の製造法。 4、原料混合物の組成が、モル比で、 SiO_2/Al_2O_3=0.5〜25Na_2O
/SiO_2=0.5〜14 H_2O/Na_2O=5〜50 であり、該原料混合物にモル比で CuO/Al_2O_3=0.3〜0.7 にあたる水溶性銅(II)塩を添加した後、結晶化反応を
進行させることを特徴とする請求項3記載の製造法。 5、結晶化反応を温度50〜100℃で行うことを特徴
とする請求項2記載の製造法。 6、生成した結晶の焼成を温度500〜650℃で行う
ことを特徴とする請求項2記載の製造法。 7、水溶性銅(II)塩が硝酸銅(II)である請求項2記
載の製造法。 8、請求項1記載の銅含有ゼオライトからなるCOガス
中のO_2の除去用触媒。 9、O_2を含むCOガスを触媒と接触させてそこに含
まれるO_2をCO_2に変換するに際し、請求項8記
載の触媒を用いることを特徴とするCOガス中のO_2
の除去方法。 10、O_2を含むCOガスと触媒との接触を50℃以
下の低温で行うことを特徴とする請求項9記載の除去方
法。 11、O_2を含むCOガスと触媒との接触を、常圧下
、常温またはそれ以下の温度で行うことを特徴とする請
求項9記載の除去方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4550588A JPH01219013A (ja) | 1988-02-27 | 1988-02-27 | 銅含有ゼオライト、その製造法、該ゼオライトからなるcoガス中のo2の除去用触媒、およびcoガス中のo2の除去方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4550588A JPH01219013A (ja) | 1988-02-27 | 1988-02-27 | 銅含有ゼオライト、その製造法、該ゼオライトからなるcoガス中のo2の除去用触媒、およびcoガス中のo2の除去方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01219013A true JPH01219013A (ja) | 1989-09-01 |
Family
ID=12721269
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4550588A Pending JPH01219013A (ja) | 1988-02-27 | 1988-02-27 | 銅含有ゼオライト、その製造法、該ゼオライトからなるcoガス中のo2の除去用触媒、およびcoガス中のo2の除去方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01219013A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05139721A (ja) * | 1991-11-22 | 1993-06-08 | Nok Corp | 遷移金属含有合成ゼオライトaの製造方法 |
| JPH05221630A (ja) * | 1992-02-07 | 1993-08-31 | Nok Corp | Ca含有合成ゼオライトAの製造方法 |
| JP2006247460A (ja) * | 2005-03-08 | 2006-09-21 | Catalysts & Chem Ind Co Ltd | 吸着剤の製造方法 |
| JP2011521871A (ja) * | 2008-05-21 | 2011-07-28 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | CHA構造を有するCu含有ゼオライトの直接合成のための方法 |
| JP2013511462A (ja) * | 2009-11-24 | 2013-04-04 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | Cha構造を有するゼオライトの製造方法 |
| JP2017140614A (ja) * | 2016-02-12 | 2017-08-17 | 現代自動車株式会社Hyundai Motor Company | 触媒および触媒の製造方法 |
-
1988
- 1988-02-27 JP JP4550588A patent/JPH01219013A/ja active Pending
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05139721A (ja) * | 1991-11-22 | 1993-06-08 | Nok Corp | 遷移金属含有合成ゼオライトaの製造方法 |
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| US8715618B2 (en) | 2008-05-21 | 2014-05-06 | Basf Se | Process for the direct synthesis of Cu containing zeolites having CHA structure |
| US9272272B2 (en) | 2008-05-21 | 2016-03-01 | Basf Se | Process for the direct synthesis of Cu containing zeolites having CHA structure |
| JP2013511462A (ja) * | 2009-11-24 | 2013-04-04 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | Cha構造を有するゼオライトの製造方法 |
| JP2017140614A (ja) * | 2016-02-12 | 2017-08-17 | 現代自動車株式会社Hyundai Motor Company | 触媒および触媒の製造方法 |
| US10981153B2 (en) | 2016-02-12 | 2021-04-20 | Hyundai Motor Company | Catalyst and method for preparing catalyst |
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