JPH01219114A - 高炉装入物分配装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （従来の技術） 本発明は、高炉内部のガスの流れを調節するために、装
入物を高炉内部の任官の位置に分配ができるようにした
装置に関するものである。

（従来の技術および発明が解決しようとする課Ｍ）高炉
の炉況および炉体の管理に一番大切な要素の中の一つが
、炉内のガスの流れの制御であり、これは装入物の分配
状態によって、多くの影響を受ける。しかしながら、従
来は、真円であったため、装入物の分配は可能であった
が、現在では、回転円筒とコーン（ＣＯＮＦ）との間を
幾つかの間仕切りで固定したために回転円筒の同−回転
状態の下では、装入物量および装入物の落下幅が一定で
あって、炉内のガスの流れと装入物量とが調節できない
という問題があった。

（課題を解決するための手段） 上記問題点は、垂直な回転円筒と、該回転円筒内部設け
られた案内溝と、該案内溝内で案内されて上下運動可能
でありかつ該回転円筒下部に設けられたコーンと二体的
に形成された間仕切りと、該コーンを上下運動可能に連
結されたシリンダとよりなり、該コーンは該シリンダに
より該回転円筒との間隔を調整されて該回転円筒と同−
回転状態で高炉内に挿入される装入物の量および分配幅
を調節してなる高炉装入物分配装置により達成される。

（作用および実施例） 本発明は、回転円筒の同一回転状態の下で回転円筒とコ
ーンとの間隔を調節して装入物量および装入物の落下幅
が調節できるようにしたもので、これを図面について説
明すれば、つぎのとおりである。

第１〜５図に示すように、装入物１を貯えるホッパー２
の垂下に垂直に回転円筒３を設け、該回転円筒３内には
、上部のシリンダ４によって上下運動可能なコーン７と
一体的に形成された間仕切り８とが垂直軸６に連結され
て、昇降ができるように案内溝３′が設けられている。

シリンダ４とコーン７とを連結する連結ボックス５の内
部にはコーン７の円滑な回転のためのベアリング９．９
′が挿入されている。しかして、回転円筒３を回転させ
るための回転ギア１１を該回転円筒３に外嵌して、該回
転円筒３の上部と下部とにはそれぞれベアリング１０．
１０’を軸挿して、動力源、例えば速度可変モータ１４
を炉体１５に固定させて、変速機１３に連設されている
駆動ギア１２が設けられている。図面の中、説明してい
ない符号１６は、垂直軸６が振動なしに回転できるよう
にメタルベアリングであって、また、符号１７は回転円
筒３が一定の回転の下で、原料を分布している状態であ
る。

このように構成された本発明の作用・効果を説明すれば
、ホッパー２内に貯えられた装入物１を適切に回転円筒
３内に落下させ、速度可変モータ１４を駆動させると、
減速機１３で減速された回転が駆動ギア１２および回転
ギア１１に連設されているので回転円筒３が回転される
と同時に、回転円筒３の内壁に設けられた案内溝３′に
挿入された間仕切り８と一体となったコーン７も垂直軸
もと連結ボックス５とによって、シリンダ４に連結した
状態で回転する回転円筒３によって該回転円筒３と同じ
速度で回転する。この時、回転円筒３の内に落下する挿
入物は間仕切り８によって回転円筒３と共に回転しなが
ら落下するようになる。

したがって、回転円筒３の回転が速ければ該回転円筒３
を中心に装入物１が遠くに落下するようになり、回転が
遅ければ近いところに落下するようになると同時にコー
ンはシリンダ４による上下運動で回転円筒３との間隔が
調節されるので、第４図に示すようにコーン７と回転円
筒３との間隔が変わることにより、装入物の排出量およ
び分配幅が調整される。それを第６図の原理によって説
明すれば次のようである。

回転円筒３を等速円運動をさせた場合、回、転円筒３の
内の挿入物１の回転円筒３からの離れ速度ＶはＶ＝ｒｗ
の線速度を得るようになり、第６図（イ）のように水平
方向のＶＪ度で投げる物体と同じ運動をするようになる
。（抵抗無視）。

即ち、を秒後の速度（Ｖｘ、Ｖｙ）は Ｖｘ＝Ｖ Ｖｙ＝ｇｔ ｔ秒後の位置（Ｘ、Ｙ）は 底面の到達距離（Ｘ＞は、 したがって、第４図における高炉内の装入物の落下半径
は ｒ（回転円筒の半径）　　　：０．５ｍｈ（装入物の落
下高さ　　：６．５ｍ Ｎ（回転円筒の回転数　　：１．１０５回転／　５ｅｃ
４＝６６　Ｈ，Ｐ、）ｌ ｒ＋　　（下降の前のコーンの半径）：０．４ｍｒ２　
（任意の”位置にコーンが下降された状態でのコーンの
半径）　：　０．３５ｍ △ｒ（コーンの半径差）　：　ｒｌ−ｒ２　＝０．０５
ｍである時、Ｘ（高炉内の挿入物の落下半径）Ｘｌ　（
下降前のコーンによる高炉内の装入物の落下半径） Ｘ２　　（下降したコーンによる高炉内装入物の落下半
径） Ｘ（高炉内に落下された装入物の半径差）＝Ｘ＋　　Ｘ
２　３．２　２．８　＝０．４（ｍ）である。

即ち、装入物の落下地点から上部コーンの半径＜ｒ＋　
）と下部コーンの半径（ｒ２）の差（ｒ＝ｒ＋ｒ２）が
０．０５ｍである時、高炉内に落下された装入物の半径
差（Ｘ＝Ｘ＋　　Ｘ２）は０゜４ｍの差を見せている。

（発明の効果） 以上述べたように、本発明は、垂直な回転円筒と、該回
転円筒内部設けられた案内溝と、該案内溝内で案内され
て上下運動可能でありかつ該回転円筒下部に設けられた
コーンと一体的に形成された間仕切りと、該コーンを上
下運動可能に連結されたシリンダとよりなり、該コーン
は１亥シリンダにより該回転円筒との間隔を調整されて
該回転円筒と同−回転状態で高炉内に挿入される装入物
の量および分配幅を調節してなる高炉装入物分配装置で
あるから、円筒の上部に固定されたシリンダによって上
下運動するコーンで回転円筒との間隔を調整して回転円
筒の同−回転状態の下で、装入物量と装入物の分配幅の
調整ができるようになり、これによって炉内ガスの流れ
を制御可能するようにした発明である。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明による高炉装入物分配装置の一実施例を
示す概略的な断面図、第２図は第１図の要部断面図、第
３図は第２図の要部を一部切除した斜視図、第４図は本
発明装置におけるコーン移動にともなう高炉内の装入物
の落下変動状態図、第５図は第４図のＡ−Ａ’線断面図
であり、また第６図（イ）、（ロ）および（ハ〉は装入
物の落下原理図である。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 垂直な回転円筒（３）と、該回転円筒内部設けられた案
   内溝（３′）と、該案内溝（３′）内で案内されて上下
   運動可能でありかつ該回転円筒下部に設けられたコーン
   （７）と一体的に形成された間仕切り（８）と、該コー
   ン（７）を上下運動可能に連結されたシリンダ（４）と
   よりなり、該コーン（７）は該シリンダ（４）により該
   回転円筒（３）との間隔を調整されて該回転円筒（３）
   と同一回転状態で高炉内に挿入される装入物（１）の量
   および分配幅を調節してなる高炉装入物分配装置。