JPH01220154A - Manufacture of guide groove of optical card - Google Patents

Manufacture of guide groove of optical card

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Publication number
JPH01220154A
JPH01220154A JP63043590A JP4359088A JPH01220154A JP H01220154 A JPH01220154 A JP H01220154A JP 63043590 A JP63043590 A JP 63043590A JP 4359088 A JP4359088 A JP 4359088A JP H01220154 A JPH01220154 A JP H01220154A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
guide groove
resist
pattern
optical card
optical
Prior art date
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Pending
Application number
JP63043590A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Naoya Kano
嘉納 直也
Norimasa Sekine
徳政 関根
Takeshi Ishizaki
石崎 猛
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toppan Inc
Original Assignee
Toppan Printing Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To easily form guide grooves each in parallel line shape by using the photo-mask of an optical recording part to include the guide groove, executing a copy on a substrate, preparing resist master disk and executing compressing and moulding with a stamper which is made from this master disk. CONSTITUTION:A resist film 6 is laminated on the surface of a glass substrate 5 and exposure and development is executed with using a chrome mask 4 to plot a guide groove 1 and a pattern 3 by electronic line plotting, etc. Then, a resist master disk 7 is obtained. Next, metal is evaporated to the disk 7, a conductive film is formed and the stamper is prepared by a nickel electric casing method. Thus, the guide groove 2 of an optical card can be easily prepared with using thermal press.

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、光学的に書き込み可能な光カードの案内溝、
いわゆるプリグループの製造方法に関する。
[Detailed Description of the Invention] <Industrial Application Field> The present invention provides a guide groove for an optically writable optical card;
The present invention relates to a method of manufacturing a so-called pre-group.

〈従来の技術〉 従来より、キャッシュカード、クレジットカード等に用
いられている磁気カードに代り、膨大な記憶容量を有す
る光カードが現在、提案されている。この光カードに用
いられる光学的な情報の記録方法としては、すでにダイ
レクト・リード・アフタ・ライト(DRAM)として広
範な記録原理及び記録材料が提案されている。即ち、レ
ーザ等の光源からの放射光を古くから知られている銀塩
やジアゾニウム塩等のフォトンモードでの励起光源とし
て用いるのではなく、材料物性の温度依存性による転移
や膨張、融解、分解等の物理的、化学的変化を生ぜしめ
るための熱源として用いる、いわゆるヒートモード記録
である。従ってこのヒートモード記録は、感材面に所望
の記録を行う前後に放射光に晒された場合に於ても感材
が永久的変形を生ずる物性変化を生む温度にまで昇温さ
れない限りに於いて影響を受けないという特徴を持つ。
<Prior Art> In place of the magnetic cards conventionally used in cash cards, credit cards, etc., optical cards having a huge storage capacity are currently being proposed. As a method for optically recording information used in this optical card, a wide variety of recording principles and recording materials have already been proposed as direct read-after-write (DRAM). That is, rather than using emitted light from a light source such as a laser as an excitation light source in the photon mode of silver salts, diazonium salts, etc., which have been known for a long time, it is possible to excite transitions, expansion, melting, and decomposition due to the temperature dependence of material properties. This is so-called heat mode recording, which is used as a heat source to cause physical and chemical changes such as. Therefore, in this heat mode recording, even if the photosensitive material is exposed to synchrotron radiation before or after the desired recording is performed, as long as the temperature is not raised to a temperature that causes a physical property change that causes permanent deformation of the photosensitive material. It has the characteristic of not being affected by

このことは、記録媒体の取扱を暗室等の限定された環境
で行う必要がないという利点を生む。又、従来提案され
ている系での他の特徴としては、記緑部、即ちビット部
は感材の除去という結果で達成されるという点である。
This has the advantage that it is not necessary to handle the recording medium in a limited environment such as a dark room. Another feature of the conventionally proposed systems is that the recording green area, ie, the bit area, is achieved by removing the sensitive material.

このことは記録媒体−1の入出力装置内のデジタル信号
と対応して媒体側の記録形成もそのアナロジ−としてデ
ジタル的に表現されているということである。
This means that the recording formation on the medium side is also digitally expressed as an analogy to the digital signal in the input/output device of the recording medium-1.

ところで、信幀性高く情報を記録及び再生するためには
、レーザビームを記録膜上に晴度良くかつ正確に走査さ
せねばならない。そのためレーザビームの追従目標とな
る案内溝を記録膜面内に安定性良く精密に形成しておく
必要がある。DRAW形式の光ディスクでは、案内溝は
通常、フォトレジストを塗布したガラス製円盤に直径1
μm前後に集光したフォトレジストの感光波長域のレー
ザ光を用いて内周から外周(または外周から内周)へ一
定速度でレーザスポットを送り連続したスパイラルトラ
ック状の露光跡を形成させ、次いで現像してレジストパ
ターンを形成し、そしてこの形状のスタンパをNiメツ
キ等の技術を施して作り、このスタンパを型としてプラ
スチック・ディスクに案内溝を形成させる。プラスチッ
クの成形法には、射出成形、射出圧縮成形、圧縮成形、
押し出し成形、連続キャスト成形、セルキャスト成形等
があるが、射出成形が主に使われており、光カードの案
内溝も上述した方法で製造されている。
By the way, in order to record and reproduce information with high reliability, it is necessary to scan the recording film with a laser beam with good brightness and accuracy. Therefore, it is necessary to form a guide groove, which is a target to be followed by a laser beam, precisely and stably within the surface of the recording film. For DRAW format optical discs, the guide groove is usually a glass disk coated with photoresist with a diameter of 1 mm.
Using laser light in the sensitive wavelength range of the photoresist focused around μm, the laser spot is sent at a constant speed from the inner circumference to the outer circumference (or from the outer circumference to the inner circumference) to form a continuous spiral track-shaped exposure trace, and then A resist pattern is formed by development, and a stamper having this shape is made by applying a technique such as Ni plating, and this stamper is used as a mold to form a guide groove on a plastic disk. Plastic molding methods include injection molding, injection compression molding, compression molding,
There are extrusion molding, continuous cast molding, cell cast molding, etc., but injection molding is mainly used, and the guide groove of the optical card is also manufactured by the above-mentioned method.

〈発明が解決しようとする課題〉 しかしながら、光カードにおける案内溝は光ディスクに
おけるスパイラルトラック状よりも平行線状のものが今
のところ主流である。この形状だと例えばレーザ光を用
いて案内溝の露光跡を形成させる際にレーザ光に対して
基板を二次元運動させなければならないことから、数μ
mの間隔の平行線の露光跡をずれなくしかも正確に形成
するには操作がかなり困難となり、そのため装置も複雑
になる。さらにここで良好な案内溝の露光跡が形成され
ても次の現像方法も既存のままではスパイラルトラック
状の案内溝には対応できても平行線状の案内溝にはその
ままでは対応できず、やはりそのために装置も改良しな
ければならない。さらに、光カードは今のところ光ディ
スクに比べその厚みが約0.8 vmと薄いために射出
成形法ではその作製が困難である。
<Problems to be Solved by the Invention> However, at present, guide grooves in optical cards are mainly in the form of parallel lines rather than in the form of spiral tracks in optical disks. With this shape, for example, when forming an exposure trace of a guide groove using a laser beam, the substrate must be moved two-dimensionally with respect to the laser beam, so the
In order to accurately form exposure traces of parallel lines with an interval of m, the operation becomes quite difficult and the apparatus becomes complicated. Furthermore, even if a good exposure trace of the guide groove is formed here, the next developing method can be applied to a spiral track-shaped guide groove, but it cannot be applied to a parallel line-shaped guide groove as it is. For this purpose, the equipment must also be improved. Furthermore, since optical cards are currently thinner than optical disks, at about 0.8 μm, it is difficult to manufacture them by injection molding.

〈課題を解決するための手段〉 本発明は、上記課題を解決するためになされたもので、
光カードの光記録部に記録スポットを正確に位置決めす
るために設けられる光カードの案内溝の製造方法におい
て、平滑性の高い基板上にレジストを塗布し、案内溝を
含む光記録部の所定パターンを有するマスクを用いて露
光を行ない、その後現像して前記基板上に該所定パター
ンを模写したレジストパターンを形成してレジスト原盤
を作製し、該レジスト原盤より作製したスタンパを用い
て圧縮成形し、案内溝を形成することを特徴とする光カ
ードの案内溝の製造方法である。
<Means for Solving the Problems> The present invention has been made to solve the above problems.
In a method of manufacturing a guide groove for an optical card, which is provided for accurately positioning a recording spot in an optical recording part of an optical card, a resist is applied on a highly smooth substrate, and a predetermined pattern of an optical recording part including the guide groove is manufactured. A resist pattern is formed on the substrate by exposure using a mask having a mask, and then developed to form a resist pattern replicating the predetermined pattern on the substrate to produce a resist master, and compression molding is performed using a stamper made from the resist master, This is a method of manufacturing a guide groove for an optical card, the method comprising forming a guide groove.

〈実施例〉 本発明を実施例を用いて詳細に説明する。<Example> The present invention will be explained in detail using examples.

本発明における光カードの案内溝の製造方法の内容は以
下の通りである。
The details of the method for manufacturing a guide groove of an optical card according to the present invention are as follows.

i)マスクの作製 光カードの光記録部の範囲内に案内溝が一定の間隔で存
在するパターンをもつマスクの作製方法としでは、エツ
チング技術を応用する方法、切削技術を応用する方法等
が考えられるが、数μmオーダーのパターンであればエ
ツチング技術を応用する方法が特に望ましい。エツチン
グ技術を応用する方法の例としては、平滑な基板上(主
にガラス基板)に腐食される金属、合金等の薄膜を真空
蒸着、スパッタリング等の方法で作製し、その薄膜上に
フォトレジストを塗布する。レジストの種類には通常の
紫外線照射型のレジスト、Deep uV(遠紫外線)
レジスト、電子線レジスト、X線レジスト等があり、使
用する光源とそれにより案内溝のパターンを精密且つ正
確に再現できるレジストを選び使用する。そして案内溝
のパターンおよびプリフォーマットのパターン等をレジ
スト上に露光跡として形成し、現像した後、露出された
金属、合金等の薄膜をエツチングして案内溝のパターン
が濃淡状に描かれたマスクが得られる。
i) Fabrication of a mask As a method for fabricating a mask having a pattern in which guide grooves are present at regular intervals within the optical recording area of an optical card, there are methods that apply etching technology, methods that apply cutting technology, etc. However, if the pattern is on the order of several μm, a method using etching technology is particularly desirable. An example of a method that applies etching technology is to create a thin film of corroded metal, alloy, etc. on a smooth substrate (mainly a glass substrate) by vacuum evaporation, sputtering, etc., and then apply photoresist on the thin film. Apply. Types of resist include regular ultraviolet irradiation type resist, deep uV (far ultraviolet rays)
There are resists, electron beam resists, X-ray resists, etc., and the light source used and the resist that can precisely and accurately reproduce the pattern of the guide grooves are selected and used. Then, the guide groove pattern and preformat pattern are formed as exposure traces on the resist, and after development, the exposed thin film of metal, alloy, etc. is etched, and the guide groove pattern is drawn in shading in a mask. is obtained.

近年、特に微細パターンを要する半導体装置の製造に際
し、電子線露光技術開発の躍進により電子線描画装置が
フォトマスク製作に導入され高精度な微細パターンのフ
ォトマスクが得られている。
In recent years, particularly in the manufacture of semiconductor devices that require fine patterns, electron beam lithography equipment has been introduced to photomask production due to advances in the development of electron beam exposure technology, and photomasks with highly accurate fine patterns have been obtained.

そのような訳で、現在のところは、案内溝の寸法精度が
高度に要求されるものであれば、上記の電子線描画装置
を用いた方法で、案内溝のパターンが描かれたフォトマ
スクを作製することが望ましい。さらにこの方法を上回
る方法が開発され実用化されれば勿論それでマスクを作
製することが望ましい。
For this reason, at present, if a high degree of dimensional accuracy is required for the guide grooves, a photomask with a guide groove pattern drawn using the above-mentioned electron beam lithography system is used. It is desirable to create one. Furthermore, if a method superior to this method is developed and put into practical use, it would of course be desirable to use that method to produce masks.

ii )原盤の作製 光カードの記録部の範囲内に案内溝が一定の間隔で存在
するパターンをもつマスクを用いてレジスト原盤の作製
を行う。
ii) Preparation of master disc A resist master disc is manufactured using a mask having a pattern in which guide grooves are present at regular intervals within the recording area of the optical card.

レジストパターンを形成するために下地材料(原板)と
しては、金属や樹脂も考えられるが、比較的簡単に高い
表面精度で加工できる利点を持ち、安定な素材であり、
また一般によく使われているガラスが現在のところ最適
である。原板として使用するガラス板はその表面の平滑
性を向上させれるため、充分に研磨し、その後研磨材を
除去して、超音波洗浄、有機溶剤等による洗浄を行うと
いった前処理を施す。
Metals and resins are also considered as the base material (original plate) for forming resist patterns, but they have the advantage of being relatively easy to process with high surface accuracy, and are stable materials.
Glass, which is commonly used, is currently the best choice. In order to improve the smoothness of the surface of the glass plate used as the original plate, it is sufficiently polished, the abrasive material is then removed, and pretreatment is performed such as ultrasonic cleaning, cleaning with an organic solvent, etc.

次に案内溝のパターンを原板上に形成させるためにレジ
ストの塗布を行う。
Next, a resist is applied to form a pattern of guide grooves on the original plate.

レジストの種類には通常の紫外線照射型のレジスト、D
eep UV  (遠紫外線)レジスト、電子線レジス
ト、X線レジスト等があり、使用する光源とそれにより
案内溝のパターンを精密かつ正確に再現できるレジスト
を選び使用する。これらの中で露光装置等も含めて比較
的簡単に取り扱えるものは通常の紫外線照射型のフォト
レジストである。
Types of resist include regular ultraviolet irradiation type resist, D
There are eep UV (deep ultraviolet) resists, electron beam resists, X-ray resists, etc., and the light source used and the resist that can precisely and accurately reproduce the guide groove pattern are selected and used. Among these, those that can be handled relatively easily including exposure equipment are ordinary ultraviolet irradiation type photoresists.

そして現像中で露光部が溶は出すポジ型のものが一般に
よく用いられている。その代表的なものには、AZシリ
ーズ(Hoechs を社)、旧cro Po5jt 
シリーズ(Shipley社) 、0FPRシリーズ(
東京応化) 、KMPRシリーズ(Kodak社)等が
ある。ネガ型(露光部が硬化する)と比較して、耐薬品
性や原板となるガラスへの接着性の点で必ずしも勝った
ものとはいえないが、解像力の点で優れており、微細パ
ターンの形成に良く用いられている。
Generally, positive-type materials in which the exposed areas dissolve during development are often used. Typical examples include the AZ series (manufactured by Hoechs), the former cro Po5jt
series (Shipley), 0FPR series (
Tokyo Ohka), KMPR series (Kodak), etc. Although it cannot necessarily be said to be superior in terms of chemical resistance and adhesion to the glass base plate compared to the negative type (the exposed area hardens), it is superior in terms of resolution and is suitable for forming fine patterns. It is often used for forming.

フォトレジストの塗布方法には、デツピング法やローラ
コータ法、スプレー法等があるが、ガラス板上に滴下し
たレジストを回転による遠心力によって飛散させ、ガラ
ス表面に成膜するスピニング法が、その精度と実用上の
簡便さから望ましい方法といえる。そして膜厚は一般に
レジストの濃度とスピナーの回転数で制御できるため、
希望するHり厚にレジストの塗布ができる。また一般に
、ガラスとフォトレジストとの接着性は良くないので、
塗布前には接着力強化のためにガラス表面に表面改質剤
による処理を施す。ポジ型レジストの組成は、一般に、
キノンジアジド系の光分解剤と、フェノールノボラック
樹脂及び溶剤から構成されるため疎水性を示すのでガラ
ス表面を疎水性に改質することで接着性を向上させる0
表面改質剤としてはへキサメチルジシラザン、有機クロ
ルシラン等のシランカップリング剤が効果的である。
There are various methods for applying photoresist, such as the tapping method, roller coater method, and spraying method, but the spinning method, in which the resist dropped onto a glass plate is scattered by the centrifugal force of rotation and a film is formed on the glass surface, is superior in its precision and accuracy. This is a desirable method because of its practical simplicity. The film thickness can generally be controlled by the resist concentration and spinner rotation speed.
The resist can be applied to the desired H thickness. Also, in general, the adhesion between glass and photoresist is not good, so
Before application, the glass surface is treated with a surface modifier to strengthen adhesion. The composition of positive resist is generally
Since it is composed of a quinone diazide photodegrading agent, a phenol novolak resin, and a solvent, it exhibits hydrophobicity, so it improves adhesion by modifying the glass surface to be hydrophobic.
As a surface modifier, silane coupling agents such as hexamethyldisilazane and organic chlorosilane are effective.

レジストの塗布膜厚は必要とする案内溝の深さと合わせ
るのが一般的である。他に露光量を制御して案内溝の深
さだけレジストを削るようにする方法もあるが、かなり
高度な技術を要する。
Generally, the thickness of the resist coating is matched to the required depth of the guide groove. Another method is to control the exposure amount so that the resist is removed by the depth of the guide groove, but this requires quite advanced technology.

塗布後、塗布膜から溶剤を除去するためにプリベータを
行ない、そして案内溝のパターンが描かれたマスクを用
いて露光を行う。露光装置には密着型と投影型とがある
が、案内溝のパターンを高精度且つ正確に焼付けが可能
であればどちらを使用しても良い。
After coating, a prebater is performed to remove the solvent from the coating film, and then exposure is performed using a mask on which a pattern of guide grooves is drawn. There are two types of exposure apparatus: a contact type and a projection type, and either type may be used as long as the pattern of the guide groove can be printed with high precision and accuracy.

露光後レジストを現像して案内溝のパターンがガラス板
上に形成されたガラス原盤(レジスト原盤)が得られる
。これが現在のところ比較的簡単な原盤の作製方法であ
るが、使用するレジストおよび露光方法等は何も上述の
方法に限られるものではなく、要するに目的とする案内
溝のパターンおよびプリフォーマットのパターン等が描
かれた原盤が高精度かつ正確に作製され、しかも基本的
なフォトリソグラフィ施設および通常の実験施設に於い
て製作が可能であればどのように組み合わせても良い。
After exposure, the resist is developed to obtain a glass master (resist master) on which a pattern of guide grooves is formed on the glass plate. This is currently a relatively simple method for producing a master disc, but the resist used, exposure method, etc. are not limited to the above methods, and in short, the desired guide groove pattern, preformat pattern, etc. Any combination may be used as long as the master on which the images are drawn can be produced with high precision and accuracy, and can be produced in basic photolithography facilities and ordinary experimental facilities.

ji)案内溝の作製 レジスト原盤(ガラス原盤)よりスタンパを起こす方法
としては一般的なニッケル電鋳法で行うのが望ましいが
、何もこれに限ったことではなくレジスト原盤(ガラス
原盤)の再現性が良好であれば良い。
ji) Preparation of guide grooves It is preferable to use the general nickel electroforming method to create a stamper from the resist master (glass master), but this is not limited to this method. It is fine as long as the properties are good.

スタンパから案内溝をプラスチックに作製するには圧縮
成形法で行う。光ディスクにおいては射出成形法で案内
溝を作製しているが、厚みが1ffIIl以下のプラス
チックを成形することはこの方法では困難であるため圧
縮成形法で行う。使用するプラスチックはポリ塩化ビニ
ル、ポリカーボネート、ポリメタクリル酸メチル、ポリ
オレフィン等の熱可塑性樹脂が望ましい。
Compression molding is used to create guide grooves from the stamper in plastic. In optical discs, guide grooves are produced by injection molding, but since it is difficult to mold plastic with a thickness of 1 ffII or less using this method, compression molding is used. The plastic used is preferably a thermoplastic resin such as polyvinyl chloride, polycarbonate, polymethyl methacrylate, or polyolefin.

以下、具体的に説明する。This will be explained in detail below.

第1図はある光カードの光記録部の平面図のパターン1
を表した模式図である。案内溝2の幅は2.5 μmで
12μmピッチで並んでいる。図面では左端付近にプリ
フォーマットのパターン3が存在している。これらのパ
ターンを電子線描画装置を用いた方法でクロムマスク4
に複製する。
Figure 1 shows pattern 1 of a plan view of the optical recording section of an optical card.
FIG. The guide grooves 2 have a width of 2.5 μm and are arranged at a pitch of 12 μm. In the drawing, preformat pattern 3 exists near the left end. These patterns are printed on a chrome mask 4 using an electron beam lithography system.
Copy to.

第2図はレジスト原盤作製方法の手順を示したもので、
(a)は露光前の原盤であり、ガラス板5の表面上には
レジスト層6が積層されている。ガラス板5はその表面
を酸化セリウム(CeOz)を研磨材として充分に研磨
して平滑性を高め、研磨材を除去した後、超音波洗浄、
希塩酸、蒸留水による洗浄を行ない、そして充分に乾燥
させた。レジス)J1i6は^Z−1350をスピンコ
ークで0.07μmの厚みに塗布した。塗布前にはプラ
イマーF−20を表面上に展開し、2000rρm 、
20secガラス板をスピンさせて表面改質を行った。
Figure 2 shows the steps of the resist master production method.
(a) shows the master disc before exposure, and a resist layer 6 is laminated on the surface of the glass plate 5. The surface of the glass plate 5 is thoroughly polished using cerium oxide (CeOz) as an abrasive to improve its smoothness, and after removing the abrasive, it is subjected to ultrasonic cleaning,
It was washed with dilute hydrochloric acid and distilled water, and thoroughly dried. Regis) J1i6 was coated with Z-1350 to a thickness of 0.07 μm using spin coke. Before coating, spread primer F-20 on the surface and apply at 2000rpm.
Surface modification was performed by spinning the glass plate for 20 seconds.

レジスト(AZ−1350)塗布条件は、AZ−135
0をAZシンナで固形含有率9%に調製し、200rp
m、 30secにて成膜した。そして、80°C% 
20m+nのプリベータを行った。
Resist (AZ-1350) coating conditions are AZ-135
0 to a solid content of 9% with AZ thinner and 200 rpm.
The film was formed for 30 seconds. And 80°C%
A 20m+n pre-beta was performed.

クロムマスク4を使い密着型露光装置でレジスト層6に
案内溝2のパターンおよびプリフォーマットのパターン
3の露光跡を形成させたのが(b)である。(ト))を
2倍希釈の現像液(MF2412)で40〜60sec
現像してガラス原盤(レジスト原盤)7が得られた。(
C) ガラス原盤(レジスト原盤)7に金を厚さ1000人に
蒸着し導電性膜を形成し、スルファミン酸ニッケル浴を
使った電鋳法でスタンパ8を作製した。
In FIG. 1B, the pattern of the guide groove 2 and the exposure trace of the preformat pattern 3 are formed in the resist layer 6 using a chrome mask 4 using a contact type exposure device. (G)) for 40 to 60 seconds with a 2-fold diluted developer (MF2412).
After development, a glass master (resist master) 7 was obtained. (
C) Gold was deposited to a thickness of 1,000 yen on the glass master (resist master) 7 to form a conductive film, and a stamper 8 was manufactured by electroforming using a nickel sulfamate bath.

スタンパ8に厚みが0.4 mのポリメタクリル酸メ 
〜チルシート9を合わせ約150℃で熱プレス(約10
kg/C1M)を行ない案内溝2が作製された。(d)
〈発明の効果〉 本発明により、基本的なフォトリソグラフィ施設及び通
常の実験施設で、案内溝(プリグループ)を含んだまだ
外部書き込みされていない光記録部の平面図のパターン
を模写したレジスト原盤(ガラス原盤)が容易に得られ
、それからプラスチックに案内溝を容易に複製すること
ができる。
A polymethacrylic acid film with a thickness of 0.4 m is placed on the stamper 8.
- Heat press at about 150℃ with chill sheet 9 (about 10
kg/C1M) and the guide groove 2 was produced. (d)
<Effects of the Invention> According to the present invention, a resist master disk in which a plan view pattern of an optical recording section including a guide groove (pre-group) which has not yet been externally written is copied in a basic photolithography facility and a normal experimental facility. (glass master) is easily obtained, from which guide grooves can be easily replicated in plastic.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

図面は本発明の実施例を示し、第1図は光カードの光記
録部の平面図のパターンを表した模式図であり、第2図
はレジスト原盤作製方法を示す説明図である。 1:光カードの光記録部の平面図のパターン2:案内溝 3ニブリフオーマツトのパターン 4ニクロムマスク 5ニガラス板 6:レジスト層 7:ガラス原盤(レジスト原盤) 8ニスタンパ 9:ポリメタクリル酸メチルシート 特   許   出   願   人 凸版印刷株式会社 代表者 鈴木和夫
The drawings show an embodiment of the present invention, and FIG. 1 is a schematic diagram showing a pattern in a plan view of an optical recording section of an optical card, and FIG. 2 is an explanatory diagram showing a method for producing a resist master disk. 1: Pattern of plan view of optical recording section of optical card 2: Guide groove 3 Pattern of nib reformat 4 Nichrome mask 5 Glass plate 6: Resist layer 7: Glass master (resist master) 8 Nistamper 9: Polymethyl methacrylate Sheet patent application Representative Kazuo Suzuki, Toppan Printing Co., Ltd.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims]  光カードの光記録部に記録スポットを正確に位置決め
するために設けられる光カードの案内溝の製造方法にお
いて、平滑性の高い基板上にレジストを塗布し、案内溝
を含む光記録部の所定パターンを有するマスクを用いて
露光を行ない、その後現像して前記基板上に該所定パタ
ーンを模写したレジストパターンを形成してレジスト原
盤を作製し、該レジスト原盤より作製したスタンパを用
いて圧縮成形し、案内溝を形成することを特徴とする光
カードの案内溝の製造方法。
In a method of manufacturing a guide groove for an optical card, which is provided for accurately positioning a recording spot in an optical recording part of an optical card, a resist is applied on a highly smooth substrate, and a predetermined pattern of an optical recording part including the guide groove is manufactured. A resist pattern is formed on the substrate by exposure using a mask having a mask, and then developed to form a resist pattern replicating the predetermined pattern on the substrate to produce a resist master, and compression molding is performed using a stamper made from the resist master, A method for manufacturing a guide groove for an optical card, the method comprising forming a guide groove.
JP63043590A 1988-02-26 1988-02-26 Manufacture of guide groove of optical card Pending JPH01220154A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63043590A JPH01220154A (en) 1988-02-26 1988-02-26 Manufacture of guide groove of optical card

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JP63043590A JPH01220154A (en) 1988-02-26 1988-02-26 Manufacture of guide groove of optical card

Publications (1)

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JPH01220154A true JPH01220154A (en) 1989-09-01

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