JPH01223449A - 0−キノンジアジド化合物を含有する感光材料の現像液 - Google Patents

0−キノンジアジド化合物を含有する感光材料の現像液

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JPH01223449A
JPH01223449A JP5050088A JP5050088A JPH01223449A JP H01223449 A JPH01223449 A JP H01223449A JP 5050088 A JP5050088 A JP 5050088A JP 5050088 A JP5050088 A JP 5050088A JP H01223449 A JPH01223449 A JP H01223449A
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野上 彰
Masabumi Uehara
正文 上原
Mieji Nakano
中野 巳恵治
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    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/32Liquid compositions therefor, e.g. developers
    • G03F7/322Aqueous alkaline compositions

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明はO−キノンジアジド化合物を感光成分とする感
光材料の処理に用いられる改良された現像液に関するも
のである。
[従来技術] 0−キノンジアジド化合物は活性光線の照射によりジア
ゾ基が分解しカルボキシ基を含有する化合物となること
が知られている。従って0−キノンジアジド化合物を含
む感光層は、画像露光後アルカリ性現像液により処理さ
れると露光部分が除去され未露光部が画像となるので、
所謂ポジーポジ型感光性成分として特に近年感光性印刷
版の感光層あるいはフォトエツチング用フォトレジスト
組成物等に極めて重用されている。特に0−キノンジア
ジド化合物にアルカリ可溶性樹脂を混合した組成が径流
性、実用性から有利に使用されている。
これらO−キノンジアジド化合物含有感光層の現像剤と
しては第三リン酸ソーダ、苛性ソーダ、硅酸ソーダ等の
単独あるいは混合された水溶液が用いられている。しか
し苛性ソーダ水溶液、又は第三リン酸ソーダ水溶液など
は現像時間によってはアルミニウムなどの金属へのエツ
チング作用が強く金属支持体の感光材料には不適当であ
る。また、現像が極めて不安定に行なわれ、甚だしい場
合は現像時間の僅かの超過で画像が欠落してしまうこと
がある。また反復使用による現像能力の低下が著しく一
定容量に対する感光材料の処理可能なm<処理能力)は
非常に少ない。そこで近年珪酸アルカリ水溶液が比較的
有利に使用されている。
例えば珪酸ソーダは金属に対するエツチング作用が乏し
いことと同日に硅酸ソーダの成分である酸l素(St 
02 )と酸化ナトリウム(Na20)の含有比率(一
般にs; 02 /Na 20のモル比で°表わす)と
濃度によっである程度現像性の調整が可能とされるため
有用である。すなわち5i02が多くなるに従い現像力
が抑制され現像安定性が高まり、Na2Oが多くなると
現像力が高まり現像安定性が低下する。ここで云う現像
安定性とは現像時間に対する画像の安定性のことでNa
2Oのみが多くなると短時間で画像の欠落が起り易くな
る。
以上述べたように珪酸アルカリはアルカリ強度を高めれ
ば現像力、処理能力に秀れるが現像安定性に欠は現像安
定性を得るためにはアルカリ濃度を低くしなければなら
ず従って処理能力に欠けることになる。従ってアルカリ
強度の高い状態で現像安定性を得ることができれば現象
力、現像安定性、処理能力いずれにも秀れた現像液を得
ることができる。
上記の欠点を改良する目的で特定の非イオン型界面活性
剤を現像液に添加する技術が特開昭60−129750
号公報に記載されているが、一般にこれら非イオン型界
面活性剤は強アルカリ水溶液中での溶解性が悪く、′a
縮化に適さないという問題がある。
[発明の目的〕 本発明の目的は、感光成分として0−キノンジアジド化
合物を含有する感光材料に対して現像力、現像安定性及
び処理能力いずれにも秀れた現像液を提供することにあ
る。
更に本発明の目的は、高度に濃縮可能な水系アルカリ現
像液を提供することにある。
[発明の構成] 本発明者らは鋭意研究の結果、前記の目的は、感光成分
として0−キノンジアジド化合物を含有する感光材料の
処理に用いられる水系アルカリ現像液であって、更に、
少なくとも珪酸アルカリ、芳香族カルボン酸類及び非イ
オン型界面活性剤を含有することを特徴とする感光材料
の現像液を提供することにより達成された。
[発明の具体的構成] 本発明の現像液に用いられるII Mアルカリとしては
珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、珪酸アンモニウム等が
あげられる。珪酸アルカリの使用時の濃度は2〜20[
1%が望ましい。また、Tff酸アルカリに他のアルカ
リ剤を併用することも好ましい。併用し得る他のアルカ
リ剤としては、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、第
三リン酸ナトリウム、第ニリン酸ナトリウム、第三リン
酸カリウム、第ニリン酸カリウム、第三リン酸アンモニ
ウム、第ニリン酸アンモニウム、重炭酸±トリウム、炭
酸すトリウム、炭酸カリウム、炭酸アンモニウムなどの
ような無機アルカリ剤、モノ−、ジー、またはトリエタ
ノールアミンおよび水酸化テトラアルキルアンモニアの
ような有機アルカリ剤等が有用である。
上記アルカリ剤の現像液中における含有のは0.05〜
20重儀の範囲で用いるのが好適であり、より好ましく
は0.1〜10重fft%である。
本発明の現像液に用いられる芳香族カルボン酸類として
は、安息香酸、ナフトエ酸、又はこれらの2換体が主に
効果的であり、特に安息香酸又はその置換体が有効であ
る。例えば、安息香酸、サリチル酸、p−アルキル安息
香酸、フクル酸、アミノ安息香酸、1−ナフトエ酸、2
−ナフトエ酸、2−ヒトOキシー3−ナフトエ酸等が挙
げられる。
上記芳香族カルボン酸は、非イオン型界面活性剤の珪酸
アルカリ水溶液に対する溶解性を高める動きも有してい
る。通常、珪酸アルカリのS度が高いほど、非イオン型
界面活性剤は溶解しにくくなるが、前記のような芳香族
カルボン酸を添加すると溶解性が向上し、濃縮率を^(
することもできる。前記芳香族カルボン酸の含有量は使
用時に0.1〜10重伍%の範囲が好ましく、更に好ま
しくは1〜5重a%の範囲で1ある。
本発明の現像液に用いられる非イオン型界面活性剤は種
々のものが使用できる。非イオン型界面活性剤は大別す
るとポリエチレングリコール型と多価アルコール型に分
類することができ、本発明にはどちらも使用できるが、
効果の大きさの点からポリエチレングリコール型の非イ
オン型界面活性剤が好ましく、その中でもエチレンオキ
シ基(−CH2CH20−)を3以上有し、かつHLB
値(HLBはHydrophile−L 1pophi
 1e3alanCeの略)が5以上(より好ましくは
8〜20)の非イオン型界面活性剤がより好ましい。
また、非イオン型界面活性剤のうち、エチレンオキシ基
とプロピレンオキシ基の両者を有するものが特に好まし
く、そのなかでHLB値が8以上のものがより好ましい
本発明に用いられる非イオン型界面活性剤の好ましい例
として下記−紋穴[1]〜[8]で表される化合物が挙
げられる。
[1]   R−0−(C11,ClI20)nilC
I。
[3]   R−0−(CIItCIIO)ia−(C
II2CII20)nll[6]   ’10(CJ4
0)’−(CJiO)b−(CJ40)cH[8]  
 HO−(C1l:CIIzO)nll以下余白 l−1−z [1]〜[8]式において、Rは水素原子又は1価の有
機基を表す。該有機基としては、例えば直鎮もしくは分
岐の炭素数1〜30の、置換基(例えばアリール基(フ
ェニル等)“)を有していてもよいアルキル基、アルキ
ル部分が上記アルキル基であるアルキルカルボニル基、
置換基(例えばヒドロキシル基、上記のようなアルキル
基等)を有していてもよいフェニル基等が挙げられる。
a、b、c、m、n、x及びyは各々1〜40の整数を
表す。
次に本発明に用いられる非イオン型界面活性剤の具体例
を示す。
ポリエチレングリコール、ポリオキシエチレンラウリル
エーテル、ポリオキシエチレンノニルエーテル、ポリオ
キシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンステ
アリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル
、ポリオキシエチレンベヘニルエーテル、ポリオキシエ
チレンポリオキシプロピレンセチルエーテル、ポリオキ
シエチレンポリオキシプロピレンベヘニルエーテル、ポ
リオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリオキシ
エチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレ
ンステアリルアミン、ポリオキシエチレンオレイルアミ
ン、ポリオキシエチレンステアリン酸アミド、ポリオキ
シエチレンオレイン酸アミド、ポリオキシエチレ′ンヒ
マシ油、ポリオキシエチレンアごエチルエーテル、ポリ
オキシエチレンラノリンエーテル、ポリオキシエチレン
モノラウレート、ポリオキシエチレンモノステアレート
、ポリオキシエチレングリセリルモノオレート、ポリオ
キシエチレングリセルモノステアレート、ポリオキシエ
チレンプロピレングリコールモノスデアレート、オキシ
エチレンオキシブOビレンブOツクポリマー、ジスチレ
ン化フェノールポリエチレンオキシド付加物、トリベン
ジルフェノールポリエチレンオキシド付加物、オクチル
フェノールポリオキシエチレンポリオキシプロピレン付
加物、グリセロールモノステアレート、ソルビタンモノ
ラウレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレ
ート等。
本発明に用いる非イオン型界面活性剤の重層平均分子量
は300〜10000の範囲が好ましく、500〜50
00の範囲が特に好ましい。非イオン型界面活性剤の現
像液中の濃度は0.001〜1 ’C重因%が好ましく
、0.01〜1重i%の範囲が特に好ましい。
非イオン型界面活性剤は1種を単独で含有させても、又
2種以上を併用してもよい。
本発明の現性液を適用しうる感光材料としては0−キノ
ンジアジド化合物を感光成分として含有するものであれ
ばいかなるものでもよく、例えば感光性平版印刷版、カ
ラーブルーフフィルム、フォトマスクフィルム、プリン
ト配線用レジスト、コンタクトリスフィルム等があるが
、特に感光性平版印刷版において本発明は効果的である
本発明に係る感光材料に用いられる0−キノンジアジド
化合物としてはフェノール性水酸基を有する化合物の0
−キノンジアジドスルホン酸エステルまたは0−キノン
ジアジドカルボン酸エステルおよび芳香族アミノ化合物
の0−キノンジアジドスルホン酸または0−キノンジア
ジドカルボン酸アミドが包含され、好ましくはO−キノ
ンジアジドスルホン酸とフェノール性水Wi基を有する
化合物とのエステル化合物である。
前記71ノール性水酸基を有する化合物としては、−価
、二価又は三価のフェノール類、ナフト−ル類、ヒドロ
キシベンゾフェノン類等の単岱体、フェノール類とアル
デヒド又はケトンとの重縮合樹脂が挙げられる。これら
のうら、フェノール性水11基を2個以上有する化合物
が好ましく、特に該水酸基を3UA有する化合物が特に
好ましい。
前記重縮合樹脂としては、フェノール類とアルデヒド又
はケトンとを特に酸性触媒存在下で縮合させたものが好
ましLX0該フェノール類どしては、例えば、フェノー
ル、0−クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾール
、3.5−キシレノール、カルバクロール、チモール、
p−アルキルN(炭素原子数1〜8fi!I)置換フェ
ノール等の一価フエノール、カテコール、レゾルシン、
ヒドロキノン等の二価フェノール、ピロガロール、フロ
ログルシン等の三価フェノール等が挙げられる。これら
のうち好ましいのは、二価、三価の多価フェノールで、
更に好ましいのはピロガロールである。又、前記アルデ
ヒドとしては、ホルムアルデヒド、ベンズアルデヒド、
アセトアルデヒド、クロトンアルデヒド、フルフラール
等が挙げられる。このうち好ましいものは、ホルムアル
デヒド及びベンズアルデヒドである。更に、前記ケトン
としては、アセトン、メチルエチルケトン等が挙げられ
、好ましいのはアセ1〜ンである。
前記重縮合樹脂の合成の際に用いられる酸性触媒どして
は、塩酸、しゅう酸、硫酸、リン酸、オキシ塩化リン等
の無機酸や有m酸が挙げられ、前記フェノール類とアル
デヒド又はケトンとの配合比は゛、フェノール類1モル
部に対しアルデヒド又はケトンが0.7〜1.0モル部
が好ましい。但し、反応溶媒としてアルデヒド又はケト
ンが用いられる場合は、上記の配合比に限定されない。
反応溶媒としては、例えばメタノール、エタノール等の
アルコール類、アセトン、水、テトラヒドロフラン等が
用いられる。
反応物は所定温度(−5〜120℃)、所定時間(3〜
48時間)反応後、減圧上加熱し、水洗して脱水させて
得るか、又は水結析させて得ることができる。
前記重縮合樹脂の具体的な例としては、フェノール・ホ
ルムアルデヒド樹脂、l−クレゾール・ホルムアルデヒ
ド樹脂、■−1p−混合クレゾール・ホルムアルデヒド
樹脂、フェノール・クレゾール・ホルムアルデヒド樹脂
、フェノール・ベンズアルデヒド樹脂、クレゾール・ベ
ンズアルデヒド樹脂、レゾルシン・ベンズアルデヒド5
uit、レゾルシン・ホルムアルデヒド樹脂、ピロガロ
ール・ホルムアルデヒド樹脂、ピロガロール・アセトン
樹脂、ピロガロール・ベンズアルデヒドMt4@、ハイ
ドロキノ、ン・ホルムアルデヒド樹脂、カテコール・ホ
ルムアルデヒド樹脂等が挙げられる。これらのうち好ま
しいのは、ビロガO−ル・ホルムアルデヒド樹脂、レゾ
ルシン・ベンズアルデヒド樹脂及びビロガO−ル・アセ
トン樹脂である。最も好ましいのはピロガロール・アセ
トン樹脂である。
前記重縮合樹脂の分子量(ポリスチレン標準)は、重石
平均分子伍MWで5.OX 102〜7.0×103、
数平均分子ffiMnで4.OX’i Q2〜3.5×
103の範囲内にあることが好ましく、更に、好ましく
は、Mwが7.OX 1Q 2〜2.5x103で、M
nが9,0×102〜2.0×103の範囲内の値であ
る。
該樹脂の分子量の測定は、GPC(ゲルパーミェーショ
ンクロマトグラフィー法)によって行う。
数平均分子路M n及び重石平均分子f1Mwの算出は
、拓植盛男、宮林達也、田中誠之著゛°日本化学会誌”
  aoo頁〜805頁(1972年)に記載の方法に
より、オリゴマー領域のピークを均す(ピークの山と谷
の中心を結ぶ)方法にて行うものとする。
上記0−キノンジアジド化合物は、前記フェノール類を
適当な溶媒、例えば、ジオキサン等に溶解させて、これ
に0−キノンジアジドスルホン酸クロライドを投入し、
加熱撹拌しながら、炭酸アルカリを当宿点まで滴下する
ことによりエステル化させて得られる。
前記エステル化合物において、フェノール類のoH基に
対する0−ナフトキノンジアジドスルホン酸クロライド
の縮合率(OH基1個に対する反応率%)は、15〜8
0%が好ましく、より好ましくは20〜40%である。
該縮合率は、元素分析によりスルホニル基の硫黄原子の
含有借を求めて計算する。
また、これら0−キノンジアジド化合1カは単独で使用
することもアルカリ可溶性樹脂と混合して用いることも
できる。
アルカリ可溶性樹脂には、ノボラック型フェノール樹脂
が含まれ、具体的にはフェノールホルムアルデヒド樹脂
、クレゾールホルムアルデヒド樹脂、フェノールクレゾ
ール混合ホルムアルデヒド樹脂、クレゾールキシレノー
ル混合ホルムアルデヒド樹脂、などが含まれる。更に特
開昭50−125806号に記載されているように、上
記のようなブヱノール樹脂に共に、t−ブチルフェノー
ルホルムアルデヒド樹脂のような炭素数3〜8のアルキ
ルiri換されたフェノールまたはクレゾールとホルム
アルデヒドとの縮合物とを併用したものも適用できる。
0−キノンジアジド化合物を感光成分とする感光層には
、必要に応じて更°に染料、可塑剤、プリントアウト性
能を与える成分などの添加剤を加えることができる。
0−キノンジアジド化合物を感光成分とする感光層の単
位面積当りの量は好ましくは約0.5〜7U/’m”の
範囲について本発明を適用できる。
本発明の現性液を適用する感光材料の画e露光はそれぞ
れの感光材料について常法に従えばよい。
前記の感光材料に使用される支持体としては、紙、プラ
スチック(例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
スチレンなど)、ラミネート紙、アルミニウム(アルミ
ニウム合金も含む)、亜鉛、銅などのような金属の板、
二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セ
ルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン
、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセ
タールなどのようなプラスチックのフィルム、上記の如
き金属がラミネートもしくは蒸着された紙もしくはクロ
ームメツキが施された鋼板などが挙げられ、これらのう
ち特に感光性平版印刷版においてはアルミニウムおよび
アルミニウム被覆された複合支持体が好ましい。
またアルミニウム材の表面は、保水性を高め感光層と密
着性を向上させる目的で粗面化処理されていることが望
ましい。
粗面化方法としては、一般に公知のブラシ研磨法、ボー
ル研磨法、電解エツチング、化学的エツチング、液体ホ
ーニング、サンドブラスト等の方法およびこれらの組合
せが挙げられ、好ましくはブラシ研磨法、電解エツチン
グ、化学的エツチングおよび液体ホーニングが挙げられ
、これらのうちで特に電解エツチングの使用を含む粗面
化方法が特に好ましい。また、電解エツチングの際に用
いられる電解浴としては、酸、アルカリまたはそれらの
塩を含む水溶液あるいは有機溶剤を含む水性溶液が用い
られ、これらのうちで特に塩酸、硝酸またはそれらの塩
を含む電解液が好ましい。ざらに粗面化処理の施された
アルミニウム板は、必要に応じて酸またはアルカリの水
溶液にてデスマット処理される。
こうして得られたアルミニウム板°は陽極酸化処理され
ることが望ましく、特に好ましくは、@酸またはリン酸
を含む浴で処理する方法が挙げられる。また、さらに必
要に応じて封孔処理、その他弗化ジルコニウム酸カリウ
ム水溶液への浸漬などによる表面処理を行うことができ
る。
また、本発明の現像液を用いる現像処理は現像処理工程
の他に必要ならば現像処理工程後、現像停止処理工程(
停止処理液は使い捨て方式や循環使用の方式を含む)、
不感脂化処理工程の各4個々の処理工程、現像停止処理
工程どそれに引き継ぐ不感脂化処理工程、現像処理工程
と不感脂化処理と組合せた処理工程、或いは現像停止処
理工程と不感脂化処理工程とを組合せた例えば特開昭5
4JOO1号公報の処理工程等を含んでいてもよい。
[実施例1 以下、具体的実施例により本発明を更に詳細に説明する
実施FA1 電解エツチング法により砂目立てし、その後、陽極酸化
処理、更に熱水封孔処理を行なった厚さ0.24mmの
アルミニウム板に下記のの感光液を回転塗布機により塗
布し、100℃で4分間乾燥し、平版印刷版材料を得た
・ナフトキノン−(1,2)−ジアジド−(2)−5−
スルホン酸クロライドとレゾルシン−ベンズアルデヒド
樹脂との縮合物(特開昭56−1044号公報実施例1
に記載されたもの)3.50 ・m−クレゾール−ホルムアルデヒドノボラック樹脂“
MP−707”(群栄化学工業(…製)g ・ナフトキノン−(1,2)−ジアジド−(2)−4−
スルホン酸クロライド    0.15G・ビクトリア
ピュアブルーBO)( (保土ケ谷化学工業■製)       0.29・メ
チルセロソルブ          100g乾燥後の
塗布躾厚重務は、2.5 Q/fであった。
この平版印刷版材料の上にポジ型透明原稿を密着し、2
kwメタルハライドランプを光源とし、80gw/ C
rの放射照度で70秒間°露光したものを2枚作成した
。これらを下記の現像液(I)で各々PS版用自動現像
機”PSA86G”(コニカ■製)を用い現像を行なっ
た。
現像液(I) ・ケイ酸ナトリウム (JISケイ酸ソーダ3号)      332 g・
水酸化カリウム水溶液(48重四%)   250Q・
安息香酸              75 g・エマ
ルゲン147 (花王側社製 ノニオン型界面活性剤)10g・純水 
              96001J上記作製し
た感光性平版印刷版のうち1枚を25℃、40秒の条件
で現像処理し、他の1枚を30℃、40秒の条件で現像
処理したところ、共に同様な仕上りが得られ、IIIf
!、網点及び画像温度において差が見られなかった。
実施例2 ブラシ研磨法にて砂目立てし、次に硝酸浴で電解エツチ
ング処理し、その後陽極酸化処理を行なった厚さ0.2
4111のアルミニウム板に下記の感光液組成物を回転
塗布機により塗布し、100℃で4分間乾燥し平版印刷
版材料を得た。
感光液組成物 ・ナフトキノン−(1,2)−ジアジド−(2)−5−
スルホン酸クロライドとピロガロール・アセトン樹脂と
の縮合物(米国特許第3.635.708号明taS、
実施例1に記載の方法で合成したもの)       
         3.59・−一クレゾールーホルム
アルデヒドノボラック樹脂(住友ベークライト社製) 
     80・p−t−ブチルフェノール・ホルムア
ルデヒド樹脂                0.1
50・オイルブルー#603 (オリエント化学社製)        o、ig・ク
リスタルバイオレット      O,1g・メチルセ
ロソルブアセテート     100g乾燥後の塗布量
は2.4 a/11Iであった。この平版印刷版材料の
上に焼度チエツク用プルナーチャートシステム及びステ
ップタブレツ!・(イーストマンコダック社INo、2
>を密着し°、2kwメタルハライドランプを光源とし
、8.On+w/ (112の放射照度で70秒間露光
したものを2枚用意し、これらを下記の現像液(I)で
実施例1と同じように現像した。
現像液(II) ・ケイ酸すトリウム LJISケイ酸ソーダ3号)      4001)・
水酸化カリウム           150g・p 
−tert−ブチル安息香酸      ao g・エ
マルゲンA −500 (花王9M社製 非イオン型界面活性剤)10g・純水
                101(I製後p1
−1を13.00にした。)現像は各々25℃、30秒
と30℃、60秒の2種の条件で行ない、ステップタブ
レットの溶出した段数を調べたところ、前者は3段、後
者は4段であり、溶出段数は1段上昇したのみであった
また、上記現像液は6倍に濃縮してi!!!賀すること
が可能であった。
比較例1 実施例2において用いた現像液1)よりエマルゲンA 
−500を除いた現像液を用いた以外は実施例2と同様
に現像を行なったところ、25℃、30秒条件ではステ
ップタブレットの段数は2.5段、30℃、60秒条件
では45段と2段増加し、実施例2の処理に対し現像性
が大ぎく変動した。
この時、網点はとびぎみであった。
比較例2 実m例2において用いた現鴎液(II)よりp−ter
t−ブチル安息香酸を除いた現像液をI)H2S、00
になるように調製したが、この現像液は3倍に濃縮して
調製するのが限度でm縮性において実施例2の現像液よ
り劣っていた。
[発明の効果] 以上詳細に説明したように、本発明により感光成分とし
て0−キノンジアジド化合物を含有する感光材料の現像
処理において、現像力、現像安定性及び処理能力のいず
れにも優れた現像液を提供することができた。
更に上記処理に用いられるアルカリ水溶液において高度
に濃縮可能な現像液を提供することができた。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)感光成分として0−キノンジアジド化合物を含有
    する感光材料の処理に用いられる水系アルカリ現像液で
    あって、更に、少なくとも珪酸アルカリ、芳香族カルボ
    ン酸類及び非イオン型界面活性剤を含有することを特徴
    とする感光材料の現像液。
  2. (2)前記芳香族カルボン酸類が安息香酸及び安息香酸
    の置換体から選ばれる少なくとも一種であることを特徴
    とする請求項1記載の感光材料の現像液。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE212013000290U1 (de) 2013-03-28 2015-11-06 Eizo Nanao Corporation Bildanzeigevorrichtung zum Einbau in eine Konsole

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4994402A (ja) * 1972-11-02 1974-09-07
JPS59501482A (ja) * 1982-08-13 1984-08-16 ヘキスト アクチエンゲゼルシヤフト ポジ形複写層用の水性アルカリ現像液およびポジ形複写層の現像法
JPS60129750A (ja) * 1983-12-16 1985-07-11 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版の現像液
JPS62168160A (ja) * 1986-01-20 1987-07-24 Konishiroku Photo Ind Co Ltd 感光性平版印刷版の現像液及び現像方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4994402A (ja) * 1972-11-02 1974-09-07
JPS59501482A (ja) * 1982-08-13 1984-08-16 ヘキスト アクチエンゲゼルシヤフト ポジ形複写層用の水性アルカリ現像液およびポジ形複写層の現像法
JPS60129750A (ja) * 1983-12-16 1985-07-11 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版の現像液
JPS62168160A (ja) * 1986-01-20 1987-07-24 Konishiroku Photo Ind Co Ltd 感光性平版印刷版の現像液及び現像方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE212013000290U1 (de) 2013-03-28 2015-11-06 Eizo Nanao Corporation Bildanzeigevorrichtung zum Einbau in eine Konsole

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