JPH01223938A - X線ct装置 - Google Patents

X線ct装置

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JPH01223938A
JPH01223938A JP63047575A JP4757588A JPH01223938A JP H01223938 A JPH01223938 A JP H01223938A JP 63047575 A JP63047575 A JP 63047575A JP 4757588 A JP4757588 A JP 4757588A JP H01223938 A JPH01223938 A JP H01223938A
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JP
Japan
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projection data
ray
data
projection
correction
Prior art date
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Pending
Application number
JP63047575A
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English (en)
Inventor
Osamu Takiguchi
修 滝口
Koichi Hirokawa
広川 浩一
Hiroshi Sasaki
寛 佐々木
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Hitachi Healthcare Manufacturing Ltd
Original Assignee
Hitachi Medical Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野] 本発明は、データサンプリング方向の計測データゲイン
のばらつきを補正可能のX線CT装置に関するものであ
る。
〔従来の技術〕
X線CT装置において、X線曝射強度の変動やデータ計
測系プリンアンプ出力ゲインの変化が生じると、計測デ
ータゲインが変化し、満足する再構成画像が得られない
そこで計測データゲインの補正をしなければならないが
、従来、次のような方法が一般的である。
それは、エアーを計測する専用のX線検出器(リファレ
ンス・ディテクタ)を備え、その計測データをオフセッ
ト値と考えて計測データゲインのばらつきを補正する方
法(リファレンス補正法)である。
このリファレンス補正法の補正概念を計算式で表せば次
式(1)の通りである。
= XD、、 e −RDa   −−−(1)ただし
、CD!、θ:サンプリング角度θにおけるiチャンネ
ルの補正結果。
eXP (RDθ):サンプリング角度θにおけるリフ
ァレンス出力。
eXP(XD=、θ):サンプリング角度θにおけるi
チャンネルの計測デー タ。
このようなリファレンス補正法には、大別して次のA、
82方法がある。まずA方法は、データサンプリング用
X線検出器の最外側チャネルをリファレンス・ディテク
タとして使用する方法であり、またB方法は、データサ
ンプリング用X線検出器とは別個に、専用のリファレン
ス・ディテクタを装備(一般にはX線源近傍に配置)す
る方法である。
〔発明が解決しようとする課題〕
上記A方法は、特に第3世代CT装置において有効な方
法で、 (1)専用のりアレンス・ディテクタが不要であり、そ
のディテクタのコストを低く抑えられる、(2)データ
サンプリング用X線検出器の最近接位置にリファレンス
・ディテクタが配置されることとなるため、X線源近傍
に配置した場合におけるような位置依存によるX線線質
の変化の影響を受けにくい、 (3)データサンプリング用X線検出器とリファレンス
・ディテクタが一体構成されるため、両者間の特性のば
らつきを抑えることができる、などの利点がある。しか
し、想定したFOV(Fieldof View)以上
の大きな被写体をスキャンした場合、リファレンス・デ
ィテクタに大きな減弱体(=被写体)の投影データがか
かってしまい、著しい補正誤差を生じる。すなわち特定
のサンプリング角度のみ、投影データが負の方向に誤差
をもつことになり、再構成画像に、CT価値変動部分的
シェーディング発生などの悪影響を及ぼす。
B方法では、リアレンス・ディテクタの位置を任意に選
定できるため、FOV以上の大きな被写体をスキャンし
ても六方法におけるような問題は生じない。しかし、A
方法の利点として挙げた項目(1)〜(3)については
、A方法の場合とは逆、すなわち短所となる。特に、リ
ファレンス・ディテクタの位置依存によるX線線質の変
化の影響を大きく受けることや、検出器特性のばらつき
が生じることは、再構成画像の安定化、高画質化の大き
な障害となっていた。
本発明の目的は、リファレンス・ディテクタを用いるこ
となく、したがってリファレンス・ディテクタの存在に
起因する全ての問題点が解決でき、CT値変動1部分的
シェーディング発生のない、安定で高画質の再構成画像
が得られるX線CT装置を提供することにある。
〔課題を解決するための手段〕
上記目的は、被写体の投影データの検出器チャンネル方
向への加算値又は検出器1チャンネル当たりの投影デー
タの平均値を、各サンプリング角度間で一定にする演算
を行い、この演算結果に基づいて計測データゲインの理
論値に対する誤差を求め、そのばらつきを補正する補正
手段を設けることにより達成される。
〔作用〕
上記手段は次のような原理に基づいて考えられたもので
あり、下記式に基づき計測データゲインのばらつきの補
正を行うものである。すなわち第2図において、いま図
示形状の被写体1を想定し、これに、固定した座標系x
−yを定義する。そして、そこでの座標(x、  y)
においてX線吸収係数の分布をf  (x、y)で表す
。次に、座標系X−yに対し、角度θだけ傾いた新たな
座標系X−Yを定義すると、その座標(X、Y)と前記
座標(x、y)との間の座標の変換は、 ここで、Y軸を光軸中心2とした強度I0のX線ビーム
をX線源3より照射すれば、被写体部分子  (x、y
)を透過した後のX線強度Iと前記照射X線強度■。と
の比1/Io(=X線減衰率)は、1/1o=eXP(
f Z f ((Xcosθ−Y、4噸、(χsin”
 十ycosθ) ) dY)・・・・・・(3) により与えられる。
このX線強度の減衰率1/I。の対数変換g(X。
θ)は、サンプリング角度θにおける投影データ(プロ
ファイル)4と呼ばれ、次式(3)にて表わされる。
このような投影データg(x、  θ)を0≦θ≦2π
において与え、吸収係数分布f(X、y)を求めること
がCT装置における画像再構成の原理である。
ここで、照射X線強度I0なと、計測の諸条件が完全に
一定でり、X方向のサンプリングピッチが座標(X、Y
)を均一に査定する理想スキャン系を想定する時、投影
データのX方向への合計値(投影データの面積) SU
M(θ)は、StlM (の=エニg(X、θ)dX 
    −づN)7− f ((Xcosθ−Ystn
の+ (Xsi、、θ+YCO3θ))dY−dχ=J
二’i”oo f (x + y) dy・d8   
      ・・・・・曲(5)となり、サンプリング
角度θに依存しない一定値となる。
この性質を利用し、実計測投影データの面積をMSU旧
θ)と定義し上式(4)における理論値SIJM (θ
)、を定数SUMとして与えると、サンプリング角度θ
に依存した計測ゲインの誤差E、、 (θ)は、下式(
6)%式% したがって実際の補正は、サンプリング角度θ。
検出器チャンネルXにおける補正結果をCx、θと測ゲ
インの誤差で、またg(×、θ)はサンプリング角度θ
でのチャンネルXでの実計測投影データである。) となり、前述補正手段は上式(7)に基づき、演算し、
補正するものである。
なお、以上は投影データ検出器チャンネル方向への加算
値(投影データの面積)に基づいて演算。
補正する場合について述べたが、下式(8)〜(10)
式による検出器1チャンネル当たりの投影データの平均
値に基づいて演算、補正する場合も、上述原理が当ては
まることは勿論である。
AV C8’) =5”’上g(X、 θ)dXo  
n =−SUM(θ)・・・・・・・・・(8)MAV(θ
)=−MSUM(θ)・・・・・・・・・(9)AVE
、、(θ)=土E1.(θ)・・・・・・(10)(た
だし、AV (θ)は投影データのX方向の平均値(理
論値) 、MAV(θ)は実計測投影データの平均値、
^VEr、はサンプリング角度に依存した計測ゲインの
誤差Errの投影データX方向の平均値である。その他
は、上式(3)〜(7)の場合と同様である。) また以上の説明は、いわゆる第3世代のCT装置につい
てであったが、その他のスキャン形式OCT装置につい
ても基本的な原理は上述と同様である。
〔実施例〕
以下、図面を参照して本発明の詳細な説明する。第1図
は本発明によるX線CT装置の一実施例を示すブロック
図で、図中11はx′IIIA源、多チャンネルX線検
出器、スキャナ及びプリアンプなどからなるX線データ
計測手段である。投影データ発生回路12は、X線デー
タ計測手段11からの計測データに対してオフセット補
正やLog変換などの処理を行う。この投影データ発生
回路12からの投影データは、誤差検出回路13に送ら
れ、上式(6)の計算が行われる。ここでは、式(6)
中のSUMは下式(11)で近似した値を用いた。
(ただし、Nはサンプリング箇所の数、その他は上式(
6)に同じ。) この場合、近似誤差によって全投影データに直流成分(
DC)をもつことになるが、後述直流成分除去回路で除
去される。
14は上式(7)に基づいて計測データゲインの補正を
行う補正回路で、これによりサンプリグ角度に依存した
計測ゲータゲインの誤差が補正される。
この補正回路14からの投影データは逆投影処理回路1
5に送られ、エアー・キャリブレーション、ファントム
・キャリブレーション、リング・アーチファクト低減な
どの各種補正が行われる。直流成分除去手段16は、ぼ
け回復用フィルタ(コンポリニージョン)処理以前に生
じた直流成分(前記誤差検出回路13での式(11)に
よる計算時に生じる直流成分を含む)を除去するもので
ある。前記直流成分は、実際には計測データの差分圧縮
−復元などの処理において自動的に除去されるので、同
処理を行う場合には直流成分除去手段16は独立して設
ける必要がない。    − 以上により得られた投影データ(生データ)は、フィル
タ補正逆投影(Filtered Back Proj
ection)回路17でぼけ回復逆投影処理されて画
像再構成され、その結果(断層像)が画像表示装置18
で表示される。
なお、上述実施例では、計測データゲインのばらつきを
補正する計測データゲイン補正手段を、誤差検出回路1
3は、補正回路14及び直流成分除去手段16で構成し
たが、この構成のみに限定されることはない。
〔発明の効果〕
本発明によればリファレンス・ディテクタを用いること
なく、サンプリング角度に依存した計測データゲインの
ばらつきを補正できる。したがって、リファレンス・デ
ィテクタを用いた場合に生ずる全ての問題点が解消でき
、CT値変動や部分的シェーディング発生のない安定で
高画質の再構成画像が高速で得られ、かつ上記補正のメ
ンテナンスも簡略化できるという効果がある。また本発
明は、実計測のデータを強制的に理論値に合わせ込む手
法の性質上、過補正、偏補正などは極めて発生しに(<
、安定した補正結果が得られ、実用性が高いという効果
もある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明装置の一実施例を示すブロック図、第2
図は同上装置の原理を説明するための図である。 1・・・被写体、3・・・X線源、4・・・投影データ
、11・・・X線データ計測手段、12・・・投影デー
タ発生回路、13・・・誤差検出回路、14・・・補正
回路、15・・・逆投影前処理回路、16・・・直流成
分除去手段、17・・・フィルタ補正逆投影回路、18
・・・画像表示装置。 特許出願人 株式会社日立メディコ 代理人 弁理士  秋 本 正 実(外1名)第 1 
図 第2図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、被写体を挾んでX線源と複数の検出チャンネルをも
    つX線検出器とを対向配置し、これらを一体に前記被写
    体の周囲に回転させつつ所定のサンプリング角度で前記
    X線源からX線を曝射し、前記被写体を透過してきたX
    線を前記X線検出器で計測し、得られた投影データに基
    づいてX線断層像を再構成するX線CT装置において、
    前記被写体の投影データの検出器チャンネル方向への加
    算値又は検出器1チャンネル当たりの前記投影データの
    平均値を、各サンプリング角度間で一定にすべく演算し
    、この演算結果に基づいて計測データゲインの理論値に
    対する誤差を求め、そのばらつきを補正する計測データ
    ゲイン補正手段を具備することを特徴とするX線CT装
    置。
JP63047575A 1988-03-02 1988-03-02 X線ct装置 Pending JPH01223938A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100357742B1 (ko) * 2000-09-18 2002-10-25 한국전기연구원 평판 디지털 엑스-레이 검출기의 특성 오류 정정 방법

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6159279A (ja) * 1984-08-30 1986-03-26 Shimadzu Corp Ect装置

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