JPH01225548A - 塩化ビニルフイルム及びその製造方法 - Google Patents
塩化ビニルフイルム及びその製造方法Info
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- JPH01225548A JPH01225548A JP5226488A JP5226488A JPH01225548A JP H01225548 A JPH01225548 A JP H01225548A JP 5226488 A JP5226488 A JP 5226488A JP 5226488 A JP5226488 A JP 5226488A JP H01225548 A JPH01225548 A JP H01225548A
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- vinyl chloride
- plasma
- pvc
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は防汚効果の優れた塩化ビニル（以下塩ビと略記
する）フィルム及びその製造方法に関する０ （従来の技術） 塩ビフィルムは安価なため、各種用途に用いられている
。特に可塑剤を含む軟式塩ビは、農業用、デスクマット
、テーブルクロス等とその用途は広い、しかし可塑剤が
揮発して少なくなると、硬くなってしまったり、破れた
シするという欠点を有していた。可塑剤のブリード防止
を行ないその欠点を改良するために、各種樹脂コート、
電子線架橋、低温プラズマ処理、低温プラズマ重合ある
いは塩ビそのものの改質、さらには可塑剤の選択等が検
討されてきたが、未だ十分な性能を付与できるまでに到
っていない。
する）フィルム及びその製造方法に関する０ （従来の技術） 塩ビフィルムは安価なため、各種用途に用いられている
。特に可塑剤を含む軟式塩ビは、農業用、デスクマット
、テーブルクロス等とその用途は広い、しかし可塑剤が
揮発して少なくなると、硬くなってしまったり、破れた
シするという欠点を有していた。可塑剤のブリード防止
を行ないその欠点を改良するために、各種樹脂コート、
電子線架橋、低温プラズマ処理、低温プラズマ重合ある
いは塩ビそのものの改質、さらには可塑剤の選択等が検
討されてきたが、未だ十分な性能を付与できるまでに到
っていない。
このように塩ビの可塑剤の防ブリードに関する研究は多
々あるが、塩ビに外部から浸入する汚れ等の浸入防止を
狙った加工の検討は比較的少ない。
々あるが、塩ビに外部から浸入する汚れ等の浸入防止を
狙った加工の検討は比較的少ない。
デスクマット、テーブルクロス等の用途の場合は可塑剤
の表面移行防止というよシも、外部から浸入する汚れを
防止する方が、より重要な技術であることは言うまでも
ない。
の表面移行防止というよシも、外部から浸入する汚れを
防止する方が、より重要な技術であることは言うまでも
ない。
この分野の従来の技術としては、フッ素系又はシリコン
系の防汚剤を１段あるいは２段で塗付ニートするか、紫
外線で架橋する防汚剤を塗付後紫外線架橋するか、絶体
に汚れてはこまる場合は、数十μのテフロンフィルムを
塩ビ表面に接着するといった技術がある。しかし、テフ
ロンのフィルム接着以外での防汚効果は比較的小さく、
性能的に今−歩であり、テフロンフィルムの接着の場合
は特別に高価な加工となり、特殊用途に限定されるとい
う状況である。
系の防汚剤を１段あるいは２段で塗付ニートするか、紫
外線で架橋する防汚剤を塗付後紫外線架橋するか、絶体
に汚れてはこまる場合は、数十μのテフロンフィルムを
塩ビ表面に接着するといった技術がある。しかし、テフ
ロンのフィルム接着以外での防汚効果は比較的小さく、
性能的に今−歩であり、テフロンフィルムの接着の場合
は特別に高価な加工となり、特殊用途に限定されるとい
う状況である。
（発明が解決しようとする課題）
従って本発明の課題は、外部から浸入する汚れを防止す
る塩ビフィルムを得ることにある。
る塩ビフィルムを得ることにある。
（課題を解決するための手段）
本発明者等は塩ビデスクマット、テーブルクロス等の可
塑剤のプリードエり外部からの汚れの浸入をきらう用途
に注目し、防汚効果の非常にすぐれた加工を見い出した
。
塑剤のプリードエり外部からの汚れの浸入をきらう用途
に注目し、防汚効果の非常にすぐれた加工を見い出した
。
すなわち本発明は
［１，塩化ビニルフィルムの少なくとも片面に、ケイ素
化合物の膜厚０．０２〜０．３μのグツズ１重合膜を有
し、さらにその表面に樹脂コート層を有することを特徴
とする塩化ビニルフィルム〇２、 塩化ビニルフィルム
の少なくとも片面に、ケイ素化合物モノマーを使用して
そのプラズマ重合膜を膜厚０．０２〜０．３μに形成さ
せ、さらにその狭面に樹脂をコートすることを特徴とす
、６［化ビニルフィルムの展進方法。 」に関
するものである。
化合物の膜厚０．０２〜０．３μのグツズ１重合膜を有
し、さらにその表面に樹脂コート層を有することを特徴
とする塩化ビニルフィルム〇２、 塩化ビニルフィルム
の少なくとも片面に、ケイ素化合物モノマーを使用して
そのプラズマ重合膜を膜厚０．０２〜０．３μに形成さ
せ、さらにその狭面に樹脂をコートすることを特徴とす
、６［化ビニルフィルムの展進方法。 」に関
するものである。
本発明で言う塩ビフィルムとは、塩ビをベースに、可塑
剤、艶消し剤、顔料、無機物、酸化防止剤等各種添加剤
を含んでいてもよく、さらにポリ１−を一部改質したも
のでも良い。フィルムは、レース状等の形態も含む、当
然プリント等が施こしてあってもさしつかえない。
剤、艶消し剤、顔料、無機物、酸化防止剤等各種添加剤
を含んでいてもよく、さらにポリ１−を一部改質したも
のでも良い。フィルムは、レース状等の形態も含む、当
然プリント等が施こしてあってもさしつかえない。
少なくとも片面とは、塩ビの使用される状況に応じて両
面あるいは片面に薄膜を形成させることを意味する。
面あるいは片面に薄膜を形成させることを意味する。
本発明者等は、防汚処理に関して巾広く検討し、プラズ
マを利用すれば、ごく表面だけの改質で比較的効果が出
しやすいことを発見した。例えばアルゴン等の無機ガス
による架橋処理、 ＣＦ４等によるフッ素化処理も従来
加工皿の効果があること、また０２Ｆ４等によるフッ素
系プラズマ重合膜も効果は大きいが１重合膜自体が着色
しているために塩どの品位がさがることなどを発見し喪
。その結果防汚効果も大きく、膜自体の着色のないケイ
素系モノマーによる低温プラズマ重合膜を見出した。
マを利用すれば、ごく表面だけの改質で比較的効果が出
しやすいことを発見した。例えばアルゴン等の無機ガス
による架橋処理、 ＣＦ４等によるフッ素化処理も従来
加工皿の効果があること、また０２Ｆ４等によるフッ素
系プラズマ重合膜も効果は大きいが１重合膜自体が着色
しているために塩どの品位がさがることなどを発見し喪
。その結果防汚効果も大きく、膜自体の着色のないケイ
素系モノマーによる低温プラズマ重合膜を見出した。
この膜の特徴は、可塑剤の防ブリード効果は比較的少な
いが、外部から浸入する汚れに対しては非常に有効であ
る。これは膜自体の架橋程度の緻密さからくるのか離型
性の良さが反映しているのか明確には断言できない。
いが、外部から浸入する汚れに対しては非常に有効であ
る。これは膜自体の架橋程度の緻密さからくるのか離型
性の良さが反映しているのか明確には断言できない。
本発明のケイ素系化合物モノマーとは、ｌ
ＣＨ３，Ｃ２Ｈ５，ＣＨ２＝ＣＨ，Ｈ，Ｑのいずれか）
で表わされるアルコキシシラン系ケイ素化合物または 表。
で表わされるアルコキシシラン系ケイ素化合物または 表。
ＣＨ，Ｑ、α、αＣＨ２のいずれか）で表わされるクロ
ロシラン系ケイ素化合物 または Ｙ −Ｒ−Ｓｌ −Ｘ （４ＪＡ Ｌ Ｙ ＦｉＣＨ
２＝ＣＨ，ＣＨ２−ＣＨＣＨ２Ｏ。
ロシラン系ケイ素化合物 または Ｙ −Ｒ−Ｓｌ −Ｘ （４ＪＡ Ｌ Ｙ ＦｉＣＨ
２＝ＣＨ，ＣＨ２−ＣＨＣＨ２Ｏ。
ＮＨ２，ＳＨ，α、 Ｃ−ＣＨ５，ＮＨＲ’ＮＨ２（Ｒ
’：アルキル〇 基）のいずれか、Ｒはアルキル基、ＸはＯＣＨ３゜０Ｃ
２Ｈ１％のいずれか）で表わされるシランカップリング
系ケイ素化合物 または （但しＲ１−Ｒ２はＨ，ＣＨｓ、 Ｃ２Ｈ５，５ｉ（Ｃ
Ｈａ）３ 。
’：アルキル〇 基）のいずれか、Ｒはアルキル基、ＸはＯＣＨ３゜０Ｃ
２Ｈ１％のいずれか）で表わされるシランカップリング
系ケイ素化合物 または （但しＲ１−Ｒ２はＨ，ＣＨｓ、 Ｃ２Ｈ５，５ｉ（Ｃ
Ｈａ）３ 。
ＣＦ３ＣＯ８ｉ（ＣＨａ）３． ＣＦ３ＣＯ８ｉ（ＣＨ
ｓ）３のいずれか）であるシラザン系ケイ素化合物 または のいずれか）である反応性シロキサンオリゴマー系ケイ
素化合物 を言う。代表的なものにトリメトキシシラン、トリメト
キシビニルシラン、トリエトキシシラン、トリエトキシ
ビニルシラン、トリメトキシクロルシラン、トリメチル
メトキシシラン、ジメトキシビニルシラン、ジメ・チル
メトキシビニルシラン、トリフチルビニルシラン。トリ
エチルビニル７ラン、ビニルトリクロロシラン、へ中サ
メチルジシラザン、ジメチルトリメチルシリルアミン、
アミノシロキサン、クロロシロキサン等がある。
ｓ）３のいずれか）であるシラザン系ケイ素化合物 または のいずれか）である反応性シロキサンオリゴマー系ケイ
素化合物 を言う。代表的なものにトリメトキシシラン、トリメト
キシビニルシラン、トリエトキシシラン、トリエトキシ
ビニルシラン、トリメトキシクロルシラン、トリメチル
メトキシシラン、ジメトキシビニルシラン、ジメ・チル
メトキシビニルシラン、トリフチルビニルシラン。トリ
エチルビニル７ラン、ビニルトリクロロシラン、へ中サ
メチルジシラザン、ジメチルトリメチルシリルアミン、
アミノシロキサン、クロロシロキサン等がある。
ケイ素系化合物をプラズマ装置内に供給する場合、キャ
リアーガスとしてアルゴン、チッ素等の不活性ガスと混
合して使用してもさしつかえないし、さらに緻密な膜を
形成させるために酸素等と混合してもよく、塩ビ□との
密着性を上げるためにメタン等のガスを混合して使用し
てもかまわない０本発明で言うプラズマ重合とは、低温
プラズマ放電を利用した重合法をいい、放電時に重合性
モノマーを１種以上供給しながら重合膜を形成させる方
法を言う。
リアーガスとしてアルゴン、チッ素等の不活性ガスと混
合して使用してもさしつかえないし、さらに緻密な膜を
形成させるために酸素等と混合してもよく、塩ビ□との
密着性を上げるためにメタン等のガスを混合して使用し
てもかまわない０本発明で言うプラズマ重合とは、低温
プラズマ放電を利用した重合法をいい、放電時に重合性
モノマーを１種以上供給しながら重合膜を形成させる方
法を言う。
低温プラズマとは、放電中に生成されるプラズマが平均
電子エネルギー１０ ｅＶ（１０’ 〜１０’Ｋ）、電
子密度１０９〜１０１２ａｎ−３で特徴づけられると同
時に、電子温度とガス温度との間に平衡が成立しない由
に非平衡プラズマとも言われる。
電子エネルギー１０ ｅＶ（１０’ 〜１０’Ｋ）、電
子密度１０９〜１０１２ａｎ−３で特徴づけられると同
時に、電子温度とガス温度との間に平衡が成立しない由
に非平衡プラズマとも言われる。
プラズマ重合を行なう装置としては特に制約がなく、連
続式、バッチ式、内部電極式、外部電極式いずれでも良
い。
続式、バッチ式、内部電極式、外部電極式いずれでも良
い。
通常放電時の真空度は０．０１〜５ Ｔｏｒｒ程度に保
たれ、出力は０．ＩＷ／ｃｒＡ〜５Ｗ／ｃＡ程度である
。処理時間は数秒〜数分が一般的であシ、膜厚を０．０
２〜０．３μ程度にすることが望ましい。膜厚が０．０
２μ未満だと防汚効果が少なく、膜厚０．３μをこえる
と膜自体が硬くもろくなる傾向にあシ望ましくない。
たれ、出力は０．ＩＷ／ｃｒＡ〜５Ｗ／ｃＡ程度である
。処理時間は数秒〜数分が一般的であシ、膜厚を０．０
２〜０．３μ程度にすることが望ましい。膜厚が０．０
２μ未満だと防汚効果が少なく、膜厚０．３μをこえる
と膜自体が硬くもろくなる傾向にあシ望ましくない。
膜厚の測定はスライドガラス上にカバーグラスをおいた
ものをプラズマ処理装置のサンプルをセットした電極上
におき、プラズマ重合後カバーグラスを除去し、スライ
ドグラスにできた段差を汗渉顕微鏡により測定する。
ものをプラズマ処理装置のサンプルをセットした電極上
におき、プラズマ重合後カバーグラスを除去し、スライ
ドグラスにできた段差を汗渉顕微鏡により測定する。
このように塩ビ表面にケイ素化合物のプラズマ重合膜を
形成させることによシ、外部からの汚れの浸入を防止し
、しかも表面硬度、耐擦傷性、耐薬品性、耐光性、印刷
特性等の向上した塩ビフィルムが製造できる。
形成させることによシ、外部からの汚れの浸入を防止し
、しかも表面硬度、耐擦傷性、耐薬品性、耐光性、印刷
特性等の向上した塩ビフィルムが製造できる。
しかし実用上の観点からみると０．０２〜０．３μの薄
膜のみで防汚性能を付与しているため、その薄膜が使用
中に剥離したり、削りとられた場合に、防汚効果がなく
なる場合も想定される。したがって実用上は、そのプラ
ズマ薄膜を保護する目的で。
膜のみで防汚性能を付与しているため、その薄膜が使用
中に剥離したり、削りとられた場合に、防汚効果がなく
なる場合も想定される。したがって実用上は、そのプラ
ズマ薄膜を保護する目的で。
薄膜の上にさらに保護層を形成させることが望ましい。
保護層としては膜厚１μ〜２０μ程度のものが望ましく
、コーティング樹脂として特に制約はないが、シリコン
系防汚剤、フッ素系防汚剤、あるいはウレタン系の保護
膜がより望ましい。
、コーティング樹脂として特に制約はないが、シリコン
系防汚剤、フッ素系防汚剤、あるいはウレタン系の保護
膜がより望ましい。
以下実施例にしたがって説明する。
実施例１
可塑剤を３０重量％含有する透明塩ビフィルムの片面に
ビニルトリメトキシシラン溶液を２０℃に温度コントロ
ールしながら真空中にペーパーライズさせ、ガスとして
３Ｑｃｃ／分の流量になるように流量計によりコントロ
ールしてペルジャー内に導入する。
ビニルトリメトキシシラン溶液を２０℃に温度コントロ
ールしながら真空中にペーパーライズさせ、ガスとして
３Ｑｃｃ／分の流量になるように流量計によりコントロ
ールしてペルジャー内に導入する。
プラズマ重合装置は放電をおこさせる電源として１３．
５６ ＭＨｚの高周波電源を有し、平行平板電極の一方
に塩ビフィルムを置いた。放電を行なうＸ 生変ｆｉ
Ｏ，３Ｔｏｒｒ テ、出力は０．５Ｗ／ｃ！Ａで、時間
を変化させてプラズマ重合を行なった。
５６ ＭＨｚの高周波電源を有し、平行平板電極の一方
に塩ビフィルムを置いた。放電を行なうＸ 生変ｆｉ
Ｏ，３Ｔｏｒｒ テ、出力は０．５Ｗ／ｃ！Ａで、時間
を変化させてプラズマ重合を行なった。
これらのプラズマ重合後のサンプルをＡとする。
Ａのプラズマ重合面の上に防汚処理剤であるフッ素系ポ
リマー樹脂をコーターで塗布し、約３μの厚さの保護膜
を形成させた。このサンプルをＢとする。
リマー樹脂をコーターで塗布し、約３μの厚さの保護膜
を形成させた。このサンプルをＢとする。
比較例として、塩ビの片面に防汚処理剤であるフッ素系
ポリマー樹脂を約３μの厚さで一段コートしたもの、さ
らにその上に同様の処理剤を約５μの厚さでもう一層コ
ートした２段処理のサンプルを作成したりまた塩ビに２
０μの厚さのテフロンフィルムをラミネートしたものも
作成した。
ポリマー樹脂を約３μの厚さで一段コートしたもの、さ
らにその上に同様の処理剤を約５μの厚さでもう一層コ
ートした２段処理のサンプルを作成したりまた塩ビに２
０μの厚さのテフロンフィルムをラミネートしたものも
作成した。
防汚性の評価はもつとも汚れの落ちにくいとされるカレ
ー液を（カレー粉／水の重量比１／４で混合したもの）
試料にスポイトで一滴たらし、２４時間後にティッシュ
でカレーをふきとり、塩ビに残った黄色の色の濃さを判
定した。
ー液を（カレー粉／水の重量比１／４で混合したもの）
試料にスポイトで一滴たらし、２４時間後にティッシュ
でカレーをふきとり、塩ビに残った黄色の色の濃さを判
定した。
膜の耐久性試験は綿布で１００ ｆ／＋１の荷重下で１
００回コスリ、同、様のカレーテストで塩ビに残った黄
色の色の濃さを判定した。
００回コスリ、同、様のカレーテストで塩ビに残った黄
色の色の濃さを判定した。
以下余白
表 １
０−◎ 肉眼でほとんど黄色さを感じない。
○ 肉眼でやや黄色さを感じる。
Δ 肉眼で黄色さを感じる。
× 肉眼ではつ１！シと黄色く見える。
比較例をＩ＆１〜４４．４５〜ム９に、実施例を４１０
〜Ａ１２に示す、プラズマ重合膜の厚さが０．０２〜０
．３μで、その上にコート層を有するＡ１０〜屋１２の
ものは初期性能、耐久性とも従来の加工である２段コー
トを上まわるものであった。
〜Ａ１２に示す、プラズマ重合膜の厚さが０．０２〜０
．３μで、その上にコート層を有するＡ１０〜屋１２の
ものは初期性能、耐久性とも従来の加工である２段コー
トを上まわるものであった。
実施例２
可塑剤を２５重量％、炭酸カルシウムを１０重′＃チ含
有する白色不透明塩ビフィルムを用い、その片面に、メ
チルトリメトキシシラン溶液を実施例１と同様にペルジ
ャー内に導入した。また酸素ガスを１０ ｅｅ ７分で
ペルジャー内に導入し、混合ガスとして使用し、０．４
Ｔｏｒｒの真空度、出力０，３Ｗ／ｃ！Ａで１２０秒
間プラズマ重合を行なった。
有する白色不透明塩ビフィルムを用い、その片面に、メ
チルトリメトキシシラン溶液を実施例１と同様にペルジ
ャー内に導入した。また酸素ガスを１０ ｅｅ ７分で
ペルジャー内に導入し、混合ガスとして使用し、０．４
Ｔｏｒｒの真空度、出力０，３Ｗ／ｃ！Ａで１２０秒
間プラズマ重合を行なった。
このプラズマ重合膜の上にシリコン系の樹脂を５μ程度
の厚さで塗った。
の厚さで塗った。
比較例として、アルゴンガスでプラズマ架橋処理したも
の％ＣＦ４ガスで塩ビ表面をフッ素化したもの、 ０２
Ｆ４ガスでプラズマ処理を行なったものを作成した。
の％ＣＦ４ガスで塩ビ表面をフッ素化したもの、 ０２
Ｆ４ガスでプラズマ処理を行なったものを作成した。
比較例のガス流量は３ Ｑ ００７分、真空°度は０．
３Ｔｏｒｒ１出力は０．３Ｗ／−で１２０秒間処理した
。
３Ｔｏｒｒ１出力は０．３Ｗ／−で１２０秒間処理した
。
実施例烹１８のものは初期性能、耐久性ともプラズマ処
理したものに比較して著しく防汚性ぎ改良されており、
またＣ２Ｆ４重合膜のように黄かっ色の色がついておら
ず品位も良好であった。ノルマルヘキサン４０℃で３時
間可塑剤の抽出テストでは未処理品に比較して、 １／
１０程度になっていた。
理したものに比較して著しく防汚性ぎ改良されており、
またＣ２Ｆ４重合膜のように黄かっ色の色がついておら
ず品位も良好であった。ノルマルヘキサン４０℃で３時
間可塑剤の抽出テストでは未処理品に比較して、 １／
１０程度になっていた。
４１７、＆１８のものはＴＨＦに対して不溶性の膜を有
していたが、Ａ１３の未処理はＴＨＦに容易に溶解した
。さらにＡ５１７ 、４１８のものは５Ｈの鉛筆できず
がつかなかったが、Ａ１３の未処理はきすがついた。
していたが、Ａ１３の未処理はＴＨＦに容易に溶解した
。さらにＡ５１７ 、４１８のものは５Ｈの鉛筆できず
がつかなかったが、Ａ１３の未処理はきすがついた。
このようにシラン重合膜は耐薬品性１表面硬度（耐擦傷
性）の点で改良されていた。また耐光性は未処理が３級
、４１７．ム１８のものは４級と耐光性も向上していた
。
性）の点で改良されていた。また耐光性は未処理が３級
、４１７．ム１８のものは４級と耐光性も向上していた
。
特許出願人 株式会社 り ラ し
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、塩化ビニルフィルムの少なくとも片面に、ケイ素化
合物の膜厚０．０２〜０．３μのプラズマ重合膜を有し
、さらにその表面に樹脂コート層を有することを特徴と
する塩化ビニルフィルム。 ２、塩化ビニルフィルムの少なくとも片面に、ケイ素化
合物モノマーを使用してそのプラズマ重合膜を膜厚０．
０２〜０．３μに形成させ、さらにその表面に樹脂をコ
ートすることを特徴とする塩化ビニルフィルムの製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5226488A JPH01225548A (ja) | 1988-03-04 | 1988-03-04 | 塩化ビニルフイルム及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5226488A JPH01225548A (ja) | 1988-03-04 | 1988-03-04 | 塩化ビニルフイルム及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01225548A true JPH01225548A (ja) | 1989-09-08 |
Family
ID=12909910
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5226488A Pending JPH01225548A (ja) | 1988-03-04 | 1988-03-04 | 塩化ビニルフイルム及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01225548A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03164246A (ja) * | 1989-11-24 | 1991-07-16 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 複合構造体 |
-
1988
- 1988-03-04 JP JP5226488A patent/JPH01225548A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03164246A (ja) * | 1989-11-24 | 1991-07-16 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 複合構造体 |
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