JPH01237397A - 真空ポンプ - Google Patents
真空ポンプInfo
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- JPH01237397A JPH01237397A JP63063380A JP6338088A JPH01237397A JP H01237397 A JPH01237397 A JP H01237397A JP 63063380 A JP63063380 A JP 63063380A JP 6338088 A JP6338088 A JP 6338088A JP H01237397 A JPH01237397 A JP H01237397A
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- Japan
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- purge gas
- gas
- temperature
- pump
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- Structures Of Non-Positive Displacement Pumps (AREA)
- Non-Positive Displacement Air Blowers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、排気口を大気圧とする真空ポンプに係り、特
に半導体製造装置等の排気に好適な真空ポンプに関する
。
に半導体製造装置等の排気に好適な真空ポンプに関する
。
従来の装置は、特開昭62−153597号に記載のよ
うな構造となっている。この構造を第5図、第6図を用
いて説明する。
うな構造となっている。この構造を第5図、第6図を用
いて説明する。
吸込口1aと吐出口1bを有するケーシング1内には、
この軸心方向に沿って複数のステータ2が配置されてお
り、このステータ間にはロータ3が駆動軸4に固定され
配置されている。この駆動軸を駆動するためモータロー
タ5aが固定されている。このモータロータ5aに対向
面には、モータステータ5bが設けられている。駆動軸
は、油潤滑油軸受6,7により支承されている。
この軸心方向に沿って複数のステータ2が配置されてお
り、このステータ間にはロータ3が駆動軸4に固定され
配置されている。この駆動軸を駆動するためモータロー
タ5aが固定されている。このモータロータ5aに対向
面には、モータステータ5bが設けられている。駆動軸
は、油潤滑油軸受6,7により支承されている。
上記ステータ2とロータ3からなるポンプ機構の吸込口
1a側は、遠心圧縮ポンプ段A4構成しく2) ており、その下流側は、渦流圧縮ポンプ段Bを構成して
いる。上部軸受6と渦流圧縮ポンプ段Bとの間の軸貫通
部の回転部材3aに対向する静止部材2aには、パージ
ガス環状溝11が設けられパージガス路12を経て外部
よりパージガスが導入されるようになっている。このパ
ージガスの一方はポンプ流路に流れ、ポンプを半導体製
造装置の排気等に使用する場合にポンプが吸い込む腐食
性ガスやダスト等を含むガスが駆動機構部に侵入し、駆
動機構部の各部品を腐食させたり、ダストの侵入によっ
て駆動機構部損傷するのを妨いでいる。
1a側は、遠心圧縮ポンプ段A4構成しく2) ており、その下流側は、渦流圧縮ポンプ段Bを構成して
いる。上部軸受6と渦流圧縮ポンプ段Bとの間の軸貫通
部の回転部材3aに対向する静止部材2aには、パージ
ガス環状溝11が設けられパージガス路12を経て外部
よりパージガスが導入されるようになっている。このパ
ージガスの一方はポンプ流路に流れ、ポンプを半導体製
造装置の排気等に使用する場合にポンプが吸い込む腐食
性ガスやダスト等を含むガスが駆動機構部に侵入し、駆
動機構部の各部品を腐食させたり、ダストの侵入によっ
て駆動機構部損傷するのを妨いでいる。
もう一方は、駆動機構部へ流れ、軸受潤滑油がポンプ側
へ侵入するのを防いでいる。
へ侵入するのを防いでいる。
上記従来技術は、パージガスの温度の点について配慮が
されておらず、飽和蒸気圧の低いプロセスガスを排気す
る場合に上記ポンプ最終段において、前記プロセスガス
が析出堆積する問題があった。即ち、ポンプ最終段にお
いては、常温のパージガスと遠心段、渦流段により圧縮
され200〜300℃程度の高温になったプロセスガス
が混合し、その結果としてプロセスガスの温度が飽和蒸
気圧温度より下るが、このためプロセスガスがポンプ最
終段に析出堆積するという問題があった。
されておらず、飽和蒸気圧の低いプロセスガスを排気す
る場合に上記ポンプ最終段において、前記プロセスガス
が析出堆積する問題があった。即ち、ポンプ最終段にお
いては、常温のパージガスと遠心段、渦流段により圧縮
され200〜300℃程度の高温になったプロセスガス
が混合し、その結果としてプロセスガスの温度が飽和蒸
気圧温度より下るが、このためプロセスガスがポンプ最
終段に析出堆積するという問題があった。
本発明の目的は、プロセスガスがポンプ最終段において
析出、堆積することを防ぐことにある。
析出、堆積することを防ぐことにある。
上記目的は、パージガスを加熱することにより達成され
る。
る。
加熱されたパージガスは、200〜300℃の高温にな
ったプロセスガスと混合しても、常温のときのパージガ
スとは違って、加熱温度が適当に選ばれていればプロセ
スガスの温度を飽和蒸気圧温度以上に保つことができる
。
ったプロセスガスと混合しても、常温のときのパージガ
スとは違って、加熱温度が適当に選ばれていればプロセ
スガスの温度を飽和蒸気圧温度以上に保つことができる
。
従って、プロセスガスはポンプ最終段で析出堆積するこ
となく、ガスのまま吐出口へと排気されることになる。
となく、ガスのまま吐出口へと排気されることになる。
以上のことを第3図のドライエツチング装置等で発生す
るA Q C12aの飽和蒸気圧線図を使って説明する
。常温のパージガスがポンプに流入すると、常温のパー
ジガスと最終渦流圧縮ポンプ段まで順次圧縮され高温に
なっている例えばD点の温度のA fl CQ sと常
温のパージガスが混合する。
るA Q C12aの飽和蒸気圧線図を使って説明する
。常温のパージガスがポンプに流入すると、常温のパー
ジガスと最終渦流圧縮ポンプ段まで順次圧縮され高温に
なっている例えばD点の温度のA fl CQ sと常
温のパージガスが混合する。
混合することによって、混合したガスに示めるA n
CQ sの割合つまり分圧が下り、混合後のガスの温度
も低下し、例えば0点の温度となる。0点では、A Q
CQ sは固体であるので、A Q CQ sは前記
最終渦流圧縮ポンプ段のロータ、ステータが形成する流
路内面に析出堆積することになる。
CQ sの割合つまり分圧が下り、混合後のガスの温度
も低下し、例えば0点の温度となる。0点では、A Q
CQ sは固体であるので、A Q CQ sは前記
最終渦流圧縮ポンプ段のロータ、ステータが形成する流
路内面に析出堆積することになる。
一方、ヒータ等によってパージガスを加熱した場合は、
A n CQ sガスとパージガスの混合後の温度の低
下は、常温のパージガスの場合に比べると小さくなり、
混合後のガスの温度は例えばE点の温度となる。E点で
は、A Q CQ sは気体のままであるので、A Q
Cn sは析出堆積することなく吐出口へ排気される
ことになる。従って、パージガスに対する加熱量を適当
に選び、A Q CQ sガスとパージガスの混合後の
温度をF点の温度、即ち、飽和蒸気圧温度以上に保てば
、A Q CQ aを凝固させることなく吐出口へ排気
することができる。
A n CQ sガスとパージガスの混合後の温度の低
下は、常温のパージガスの場合に比べると小さくなり、
混合後のガスの温度は例えばE点の温度となる。E点で
は、A Q CQ sは気体のままであるので、A Q
Cn sは析出堆積することなく吐出口へ排気される
ことになる。従って、パージガスに対する加熱量を適当
に選び、A Q CQ sガスとパージガスの混合後の
温度をF点の温度、即ち、飽和蒸気圧温度以上に保てば
、A Q CQ aを凝固させることなく吐出口へ排気
することができる。
以下、本発明の一実施例を第1図、第2図により説明す
る。
る。
第1図において、吸込口1aと吐出口1bを有するケー
シング1内には、この軸心方向に沿って複数のステータ
2が配置されており、このステータ間には、ロータ3が
駆動軸4に固定され配置されている。この駆動軸4を駆
動するためのモータロータ5aが駆動軸に固定されてい
る。駆動軸4は、油潤滑軸受6,7により支承されてい
る。
シング1内には、この軸心方向に沿って複数のステータ
2が配置されており、このステータ間には、ロータ3が
駆動軸4に固定され配置されている。この駆動軸4を駆
動するためのモータロータ5aが駆動軸に固定されてい
る。駆動軸4は、油潤滑軸受6,7により支承されてい
る。
上記モータロータ5aに対向する面のモータケース8に
は、モータステータ5bが設けられている。上記駆動軸
4の下端は、油溜めケーシング9内の油に浸漬されてお
り、この駆動軸4の軸心に穿った油路10を通って扱い
上げ軸受6,7を潤滑する。
は、モータステータ5bが設けられている。上記駆動軸
4の下端は、油溜めケーシング9内の油に浸漬されてお
り、この駆動軸4の軸心に穿った油路10を通って扱い
上げ軸受6,7を潤滑する。
上記ステータ2とロータ3からなるポンプ機構の吸込口
1a側は、遠心圧縮段Aを植成しており、その下流側は
、渦流圧縮段Bを構成している。
1a側は、遠心圧縮段Aを植成しており、その下流側は
、渦流圧縮段Bを構成している。
上部軸受6と渦流圧縮ポンプ段Bとの間の軸貫通部の回
転部材3aに対向する静止部材2aには、第2図に示す
ようにラビリンスシールあるいは、ねじシール15を設
けるようにしてもよい。
転部材3aに対向する静止部材2aには、第2図に示す
ようにラビリンスシールあるいは、ねじシール15を設
けるようにしてもよい。
静止部材2aには、パージガス環状溝11が設けられ、
パージガス環状溝11に連通しているパージガス流路1
2とその中に加熱手段20例えばヒータが挿入されてお
り、外部から供給される常温のパージガスを加熱できる
ようになっている。
パージガス環状溝11に連通しているパージガス流路1
2とその中に加熱手段20例えばヒータが挿入されてお
り、外部から供給される常温のパージガスを加熱できる
ようになっている。
上記ヒータとしては、スパイラル状のシースヒータある
いは、棒ヒータあるいは、円筒形セラミックヒータなど
が使用される。上記ヒータの電源には、インバータに備
えられている低電圧電源を使用しても良い。また、ヒー
タには加熱温度を調節するために温度調節器が備えられ
ている。
いは、棒ヒータあるいは、円筒形セラミックヒータなど
が使用される。上記ヒータの電源には、インバータに備
えられている低電圧電源を使用しても良い。また、ヒー
タには加熱温度を調節するために温度調節器が備えられ
ている。
上記パージガス環状溝11と最終渦流圧縮ポンプ段との
間の静止部材2aには吐出ガス環状溝13が設けられ、
吐出口1bのガスを吐出ガス路14を介して導くように
構成されている。モータケース8の上部には、この内外
を連通ずる小孔16が設けられており、モータケース8
内は常に大気圧に保たれる。
間の静止部材2aには吐出ガス環状溝13が設けられ、
吐出口1bのガスを吐出ガス路14を介して導くように
構成されている。モータケース8の上部には、この内外
を連通ずる小孔16が設けられており、モータケース8
内は常に大気圧に保たれる。
本実施例によれば、モータ5a、5bにより駆動される
遠心ポンプ段Aと渦流ポンプ段Bの作用によって圧縮さ
れ200℃〜300’Cの高温になっているプロセスガ
スとパージガス流路に設けられている加熱手段によって
加熱されたパージガスがポンプ最終段において混合する
ときに、混合後のプロセスガスの温度の低下を常温のパ
ージガスを用いる場合に比べて小さくおさえることがで
きる。従って、半導体製造装置等で発生する飽和蒸気圧
の低いプロセスガスを排気する場合においても、プロセ
スガスの温度を飽和蒸気圧温度よりも高く保つことがで
きるので、飽和蒸気圧の低いプロセスガスがポンプ最終
段において、析出、堆積することを防ぐ効果がある。ま
た、本実施例では加熱する手段としてスパイラル状のシ
ースヒータ、あるいは棒ヒータ、あるいは円筒形セラミ
ックヒータをパージガス流路に設ける方式をとっている
ので、パージガスを効率よく加熱できるだけではなく、
加熱手段の設置スペースも小さくおさえることができる
。さらに、ヒータには温度調節器が備えられているので
、プロセスガスの種類、プロセスガスの流量等の条件に
より変化するパージガスに対する加熱温度の調節も行う
ことができる。
遠心ポンプ段Aと渦流ポンプ段Bの作用によって圧縮さ
れ200℃〜300’Cの高温になっているプロセスガ
スとパージガス流路に設けられている加熱手段によって
加熱されたパージガスがポンプ最終段において混合する
ときに、混合後のプロセスガスの温度の低下を常温のパ
ージガスを用いる場合に比べて小さくおさえることがで
きる。従って、半導体製造装置等で発生する飽和蒸気圧
の低いプロセスガスを排気する場合においても、プロセ
スガスの温度を飽和蒸気圧温度よりも高く保つことがで
きるので、飽和蒸気圧の低いプロセスガスがポンプ最終
段において、析出、堆積することを防ぐ効果がある。ま
た、本実施例では加熱する手段としてスパイラル状のシ
ースヒータ、あるいは棒ヒータ、あるいは円筒形セラミ
ックヒータをパージガス流路に設ける方式をとっている
ので、パージガスを効率よく加熱できるだけではなく、
加熱手段の設置スペースも小さくおさえることができる
。さらに、ヒータには温度調節器が備えられているので
、プロセスガスの種類、プロセスガスの流量等の条件に
より変化するパージガスに対する加熱温度の調節も行う
ことができる。
また、ヒータの電源にはインバータに備えられている低
電圧電源を使用しても良く加熱のために別の電源を用意
する必要もない。
電圧電源を使用しても良く加熱のために別の電源を用意
する必要もない。
第4図は、本発明の他の実施例を示すものである。この
実施例ではパージガス流路12に加熱する手段20を挿
入するだけではなく、吐出口16に連通する流路30に
も加熱手段23を挿入している。吐出口付近では、ケー
シング1,1cに熱が逃げるためにポンプ最終段から流
れてきたプロセスガスの温度が低下する。このため、パ
ージガスと混合したプロセスガスの温度が十分に高くな
い場合には流路30の内面にプロセスガスが析出。
実施例ではパージガス流路12に加熱する手段20を挿
入するだけではなく、吐出口16に連通する流路30に
も加熱手段23を挿入している。吐出口付近では、ケー
シング1,1cに熱が逃げるためにポンプ最終段から流
れてきたプロセスガスの温度が低下する。このため、パ
ージガスと混合したプロセスガスの温度が十分に高くな
い場合には流路30の内面にプロセスガスが析出。
堆積することがある。これを防ぐために加熱手段23を
流路30に挿入している。本実施例によればこの流路3
0を排気されるガスは、あらかじめ加熱されたパージガ
スとプロセスガスとが混合した比較的温度の高いガスな
ので、従来のパージガスを加熱しない場合と比較して、
加熱手段23の容量を小さくすることができる。
流路30に挿入している。本実施例によればこの流路3
0を排気されるガスは、あらかじめ加熱されたパージガ
スとプロセスガスとが混合した比較的温度の高いガスな
ので、従来のパージガスを加熱しない場合と比較して、
加熱手段23の容量を小さくすることができる。
本発明によれば、半導体製造装置等で発生する飽和蒸気
圧の低いプロセスガスの温度をポンプ最終段において飽
和蒸気圧温度以上に保つことができるので、プロセスガ
スがポンプ最終段で析出堆積するのを防ぐ効果がある。
圧の低いプロセスガスの温度をポンプ最終段において飽
和蒸気圧温度以上に保つことができるので、プロセスガ
スがポンプ最終段で析出堆積するのを防ぐ効果がある。
第1図は本発明の真空ポンプの断面図を示す。
第2図は第1図の要部拡大断面図、第3図は塩化アルミ
ニウム(AMCI2g)の蒸気圧線図、第4図は本発明
の他の実施例を示す断面図である。第5図は従来の真空
ポンプの断面図を示す。第6図は第5図の要部拡大断面
図。 1a・・・吸込口、1b・・吐出口、1・・・ケーシン
グ、2・・・ステータ、3・・ロータ、4・・・駆動軸
、6,7・・・油潤滑軸受、8・・・モータケース、9
・・・油溜めケーシング、10・・・油路、11・・・
パージガス環状溝、12・・・パージガス路、13・・
・吐出ガス環状溝、14・・・吐出ガス路、20・・・
加熱装置(ヒータ)、A・・・遠心圧縮ポンプ段、B・
・・渦流圧縮ポンプ段。
ニウム(AMCI2g)の蒸気圧線図、第4図は本発明
の他の実施例を示す断面図である。第5図は従来の真空
ポンプの断面図を示す。第6図は第5図の要部拡大断面
図。 1a・・・吸込口、1b・・吐出口、1・・・ケーシン
グ、2・・・ステータ、3・・ロータ、4・・・駆動軸
、6,7・・・油潤滑軸受、8・・・モータケース、9
・・・油溜めケーシング、10・・・油路、11・・・
パージガス環状溝、12・・・パージガス路、13・・
・吐出ガス環状溝、14・・・吐出ガス路、20・・・
加熱装置(ヒータ)、A・・・遠心圧縮ポンプ段、B・
・・渦流圧縮ポンプ段。
Claims (1)
- 1、吸込口と吐出口を有するケーシングと、前記ケーシ
ング内に配置されたステータと、前記ステータ間に配置
され駆動軸に固定されたロータと、前記駆動軸を駆動す
るために該軸に設けられたモータロータと、前記モータ
ロータが対向するケーシングに設けられたモータステー
タと前記モータロータと前記モータステータからなるモ
ータの上下端に軸受が設けられており、前記ポンプ機構
下部と前記軸受の上部との間に位置する軸貫通部の回転
部材周囲の静止部材にパージガス環状溝を有し、前記パ
ージガス環状溝にパージガスを外部より供給するパージ
ガス連通孔を構成し、前記吸込口から吸込んだ気体を吐
出口から直接大気に排出することのできる真空ポンプに
おいて、前記パージガス連通孔にパージガスを加熱する
手段を設けたことを特徴とする真空ポンプ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63063380A JPH086708B2 (ja) | 1988-03-18 | 1988-03-18 | 真空ポンプ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63063380A JPH086708B2 (ja) | 1988-03-18 | 1988-03-18 | 真空ポンプ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01237397A true JPH01237397A (ja) | 1989-09-21 |
| JPH086708B2 JPH086708B2 (ja) | 1996-01-29 |
Family
ID=13227633
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63063380A Expired - Lifetime JPH086708B2 (ja) | 1988-03-18 | 1988-03-18 | 真空ポンプ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH086708B2 (ja) |
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04330388A (ja) * | 1991-04-30 | 1992-11-18 | Ebara Corp | 真空ポンプ装置 |
| WO2006051675A1 (ja) * | 2004-11-10 | 2006-05-18 | Osaka Vacuum, Ltd. | ターボ分子ポンプの軸封防塵構造 |
| JP2006177280A (ja) * | 2004-12-24 | 2006-07-06 | Shimadzu Corp | 高速回転機器 |
| JP2006269595A (ja) * | 2005-03-23 | 2006-10-05 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 基板処理装置 |
| JP2007198291A (ja) * | 2006-01-27 | 2007-08-09 | Shimadzu Corp | 回転機器 |
| JP2009175142A (ja) * | 2007-12-27 | 2009-08-06 | Edwards Kk | 物理量計測装置及び該物理量計測装置を備えた磁気浮上装置、真空ポンプ |
| JP2010098092A (ja) * | 2008-10-16 | 2010-04-30 | Fujitsu Microelectronics Ltd | 真空ポンプの運転方法及び半導体装置の製造方法 |
| JP2012248867A (ja) * | 2012-07-25 | 2012-12-13 | Fujitsu Semiconductor Ltd | 真空ポンプの運転方法及び半導体装置の製造方法 |
| WO2014147876A1 (ja) * | 2013-03-22 | 2014-09-25 | 株式会社テクノス | ドライ真空ポンプの内部で副生成物が凝固堆積することを防止する方法及び窒素ガス昇温装置 |
| CN113330219A (zh) * | 2019-02-14 | 2021-08-31 | 普发真空公司 | 干式粗真空泵 |
| CN115596699A (zh) * | 2022-10-18 | 2023-01-13 | 北京中科科仪股份有限公司(Cn) | 脂润滑分子泵轴承保护结构、其制造方法及脂润滑分子泵 |
| CN116428185A (zh) * | 2023-04-12 | 2023-07-14 | 北京通嘉宏瑞科技有限公司 | 真空泵以及气体供给系统 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106050746B (zh) * | 2016-06-23 | 2018-06-26 | 江苏大学 | 一种高温泵散热装置 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4818811A (ja) * | 1971-07-12 | 1973-03-09 | ||
| JPS62153597A (ja) * | 1985-12-27 | 1987-07-08 | Hitachi Ltd | 真空ポンプ |
-
1988
- 1988-03-18 JP JP63063380A patent/JPH086708B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4818811A (ja) * | 1971-07-12 | 1973-03-09 | ||
| JPS62153597A (ja) * | 1985-12-27 | 1987-07-08 | Hitachi Ltd | 真空ポンプ |
Cited By (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04330388A (ja) * | 1991-04-30 | 1992-11-18 | Ebara Corp | 真空ポンプ装置 |
| WO2006051675A1 (ja) * | 2004-11-10 | 2006-05-18 | Osaka Vacuum, Ltd. | ターボ分子ポンプの軸封防塵構造 |
| JP2006177280A (ja) * | 2004-12-24 | 2006-07-06 | Shimadzu Corp | 高速回転機器 |
| JP2006269595A (ja) * | 2005-03-23 | 2006-10-05 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 基板処理装置 |
| JP2007198291A (ja) * | 2006-01-27 | 2007-08-09 | Shimadzu Corp | 回転機器 |
| JP2013101145A (ja) * | 2007-12-27 | 2013-05-23 | Edwards Kk | 真空ポンプ |
| JP2009175142A (ja) * | 2007-12-27 | 2009-08-06 | Edwards Kk | 物理量計測装置及び該物理量計測装置を備えた磁気浮上装置、真空ポンプ |
| JP2010098092A (ja) * | 2008-10-16 | 2010-04-30 | Fujitsu Microelectronics Ltd | 真空ポンプの運転方法及び半導体装置の製造方法 |
| JP2012248867A (ja) * | 2012-07-25 | 2012-12-13 | Fujitsu Semiconductor Ltd | 真空ポンプの運転方法及び半導体装置の製造方法 |
| WO2014147876A1 (ja) * | 2013-03-22 | 2014-09-25 | 株式会社テクノス | ドライ真空ポンプの内部で副生成物が凝固堆積することを防止する方法及び窒素ガス昇温装置 |
| CN113330219A (zh) * | 2019-02-14 | 2021-08-31 | 普发真空公司 | 干式粗真空泵 |
| JP2022520431A (ja) * | 2019-02-14 | 2022-03-30 | ファイファー バキユーム | ドライタイプの粗引き真空ポンプ |
| CN115596699A (zh) * | 2022-10-18 | 2023-01-13 | 北京中科科仪股份有限公司(Cn) | 脂润滑分子泵轴承保护结构、其制造方法及脂润滑分子泵 |
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