JPH01239752A - イオントラップ形質量分析計 - Google Patents
イオントラップ形質量分析計Info
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- JPH01239752A JPH01239752A JP63066715A JP6671588A JPH01239752A JP H01239752 A JPH01239752 A JP H01239752A JP 63066715 A JP63066715 A JP 63066715A JP 6671588 A JP6671588 A JP 6671588A JP H01239752 A JPH01239752 A JP H01239752A
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- JP
- Japan
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- ion
- voltage
- ions
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- Other Investigation Or Analysis Of Materials By Electrical Means (AREA)
- Electron Tubes For Measurement (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(イ)産業上の利用分野
本発明は、特定イオンの捕捉効率を向」二させたイオン
トラップ形質量分析計に関する。
トラップ形質量分析計に関する。
(ロ)従来の技術
従来、電界を利用した質量分析計には、4本の電極棒を
平行に配置して二次元的な四重極電界を形成し、特定質
量数のイオンのみをこの電界を通過させて検出する四重
補形のもと、回転双曲面に形成されたリング電極とキャ
ップ電極間にイオン捕捉電圧を印加して両電極間に三次
元円電極電界を形成し、特定質量数のイオンのみをこの
電界に捕捉するイオントラップ形のものとがある。
平行に配置して二次元的な四重極電界を形成し、特定質
量数のイオンのみをこの電界を通過させて検出する四重
補形のもと、回転双曲面に形成されたリング電極とキャ
ップ電極間にイオン捕捉電圧を印加して両電極間に三次
元円電極電界を形成し、特定質量数のイオンのみをこの
電界に捕捉するイオントラップ形のものとがある。
前背のらは、構造が比較的簡単であるが、4本の電極棒
の配置、平行度、真直度等において高精度が要求される
ために加工が困難であり、また、電界内にイオンを外部
から導入するため、収束レンズ系が必要で、かつ、汚染
し易い等の難点がある。これに対して、後台のらは、リ
ング電極とキャップ電極を同軸的な回転体として積み重
ねて組み立てることができるために、精度良い電極を容
易に構成することができ、また、電極内部で試料をイオ
ン化できるため、収束レンズ系が不要で、かつ、汚染ら
少なく、さらに、原理上、高感度、高分解能が得られる
可能性がある等の利点を有する。
の配置、平行度、真直度等において高精度が要求される
ために加工が困難であり、また、電界内にイオンを外部
から導入するため、収束レンズ系が必要で、かつ、汚染
し易い等の難点がある。これに対して、後台のらは、リ
ング電極とキャップ電極を同軸的な回転体として積み重
ねて組み立てることができるために、精度良い電極を容
易に構成することができ、また、電極内部で試料をイオ
ン化できるため、収束レンズ系が不要で、かつ、汚染ら
少なく、さらに、原理上、高感度、高分解能が得られる
可能性がある等の利点を有する。
(ハ)発明が解決しようとする課題
ところで、上述したイオントラップ形質量分析計を用い
て特定の質量数をもつイオンを検出するには、従来、次
のようにして行っている。まず、第5図のフローチャー
トにおいて、検出目的とする特定質量数のイオンが捕捉
される三次元四重極電界が形成されるように予めイオン
捕捉電圧(U+VsinωtSUは直流電圧、V 5i
n(IJ tは高周波電圧)を初期設定しくステップ■
)、このイオン捕捉電圧をリング電極とキャップ電極間
に印加してイオンを選択的に捕捉する(ステップ■)。
て特定の質量数をもつイオンを検出するには、従来、次
のようにして行っている。まず、第5図のフローチャー
トにおいて、検出目的とする特定質量数のイオンが捕捉
される三次元四重極電界が形成されるように予めイオン
捕捉電圧(U+VsinωtSUは直流電圧、V 5i
n(IJ tは高周波電圧)を初期設定しくステップ■
)、このイオン捕捉電圧をリング電極とキャップ電極間
に印加してイオンを選択的に捕捉する(ステップ■)。
次に、捕捉したイオンが全て放出されるようにイオン捕
捉電圧を再設定しくステップ■)、これにより捕捉した
特定質量数のイオンを三次元四重極電界から放出させて
(ステップ■)そのイオンをイオン検出器で検出するよ
うにしている(ステップ■)。
捉電圧を再設定しくステップ■)、これにより捕捉した
特定質量数のイオンを三次元四重極電界から放出させて
(ステップ■)そのイオンをイオン検出器で検出するよ
うにしている(ステップ■)。
このように、従来では、上記のステップ■においてイオ
ン捕捉とイオン選択とを同時に行っているので、イオン
の捕捉効率が悪かった。すなわち、イオンは生成または
導入された時の位置、速度、イオン捕捉電圧(直流電圧
と高周波電圧)、高周波電圧の位相等によってその後の
軌道が定まり、電界内に留どまるものと、発散するもの
とに分かれる。したがって、最初からイオン捕捉電圧(
直流電圧と高周波電圧)の値が大きいと、その条件を満
たすイオンの存在確率が低くなり、そのためイオン捕捉
効率が極度に悪くなって結果的に検出感度の低下をもた
らしていた。
ン捕捉とイオン選択とを同時に行っているので、イオン
の捕捉効率が悪かった。すなわち、イオンは生成または
導入された時の位置、速度、イオン捕捉電圧(直流電圧
と高周波電圧)、高周波電圧の位相等によってその後の
軌道が定まり、電界内に留どまるものと、発散するもの
とに分かれる。したがって、最初からイオン捕捉電圧(
直流電圧と高周波電圧)の値が大きいと、その条件を満
たすイオンの存在確率が低くなり、そのためイオン捕捉
効率が極度に悪くなって結果的に検出感度の低下をもた
らしていた。
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであっ
て、イオントラップ形質量分析計において、イオン生成
あるいは導入時のイオン捕捉効率を高め、検出感度を向
上させることを目的とする。
て、イオントラップ形質量分析計において、イオン生成
あるいは導入時のイオン捕捉効率を高め、検出感度を向
上させることを目的とする。
(ニ)課題を解決するための手段
本発明は、上記の目的を達成するために、リング電極と
キャップ電極間にイオン捕捉電圧(U+V sinωt
)を印加して前記両電極間に三次元四重極電界を形成す
るイオントラシブ形質1分析計において、次の構成を採
る。
キャップ電極間にイオン捕捉電圧(U+V sinωt
)を印加して前記両電極間に三次元四重極電界を形成す
るイオントラシブ形質1分析計において、次の構成を採
る。
すなわち、本発明のイオントラップ形質量分析計は、前
記イオン捕捉電圧を、広質量範囲のイオンを前記電界内
に捕捉する第1設定値、特定質量数のイオンのみが捕捉
状態が保たれる第2設定値およびこの第2設定値により
捕捉されたイオンを前記電界内から放出する第3設定値
の3段階に渡って設定する電圧設定手段と、この電圧設
定手段で設定される前記第11第2、第3の各設定値を
イオン生成時からイオン放出時までの間に順次切り換え
選択する選択信号を所定のタイミングで出力するシーケ
ンス制御手段と、このシーケンス制御手段で選択された
前記第1、第2、第3の各設定値に応じて前記リング電
極とキャップ電極間に対応するイオン捕捉電圧を印加す
る電源回路とを(jlえている。
記イオン捕捉電圧を、広質量範囲のイオンを前記電界内
に捕捉する第1設定値、特定質量数のイオンのみが捕捉
状態が保たれる第2設定値およびこの第2設定値により
捕捉されたイオンを前記電界内から放出する第3設定値
の3段階に渡って設定する電圧設定手段と、この電圧設
定手段で設定される前記第11第2、第3の各設定値を
イオン生成時からイオン放出時までの間に順次切り換え
選択する選択信号を所定のタイミングで出力するシーケ
ンス制御手段と、このシーケンス制御手段で選択された
前記第1、第2、第3の各設定値に応じて前記リング電
極とキャップ電極間に対応するイオン捕捉電圧を印加す
る電源回路とを(jlえている。
(ホ)作用
上記構成において、イオン生成あるいは導入時には、シ
ーケンス制御手段により電圧設定手段で設定されている
第1設定値が選択されるので、イオン捕捉電圧が十分小
さくなり、広い質里範囲のイオンが電界内に捕捉される
。このため、捕捉効率が高くなる。次に、第2設定値が
選択されるので、特定質m数のイオンのみが捕捉状態の
まま保たれ、他の質量数を6つイオンは発散してしまう
。
ーケンス制御手段により電圧設定手段で設定されている
第1設定値が選択されるので、イオン捕捉電圧が十分小
さくなり、広い質里範囲のイオンが電界内に捕捉される
。このため、捕捉効率が高くなる。次に、第2設定値が
選択されるので、特定質m数のイオンのみが捕捉状態の
まま保たれ、他の質量数を6つイオンは発散してしまう
。
引き続いて、第3設定値が選択されるので、上記の第2
設定値で捕捉されたイオンが電界内から放出され、この
放出された特定質量数のイオンがイオン検出器で検出さ
れる。
設定値で捕捉されたイオンが電界内から放出され、この
放出された特定質量数のイオンがイオン検出器で検出さ
れる。
(へ)実施例
第1図はこの実施例のイオントラップ形質量分析計の全
体構成図である。同図において、符号lはイオントラッ
プ形質量分析計の全体を示し、2はリング電極、4a、
4bはキャップ電極で、これらの電極間2.4a、4b
で囲まれる空間部Sには後述する電源回路からイオン捕
捉電圧(LJ−IVsinωtSUは直流電圧、■は高
周波電圧の振幅)が印加されることにより三次元四盾極
電界が形成される。6は試料をイオン化するために熱電
子を放出するフィラメント、8はエミッションゲート、
I0はエミッション制御器で、エミッション制御器10
からエミッションゲート8に対して正電圧パルスを加え
ることでキャップ電極4aの中央口を通して前記の空間
部Sに熱電子が入射される。
体構成図である。同図において、符号lはイオントラッ
プ形質量分析計の全体を示し、2はリング電極、4a、
4bはキャップ電極で、これらの電極間2.4a、4b
で囲まれる空間部Sには後述する電源回路からイオン捕
捉電圧(LJ−IVsinωtSUは直流電圧、■は高
周波電圧の振幅)が印加されることにより三次元四盾極
電界が形成される。6は試料をイオン化するために熱電
子を放出するフィラメント、8はエミッションゲート、
I0はエミッション制御器で、エミッション制御器10
からエミッションゲート8に対して正電圧パルスを加え
ることでキャップ電極4aの中央口を通して前記の空間
部Sに熱電子が入射される。
I4は空間部Sに一端が開口した試料導入管で、この試
料導入管14から導入された試料ガスが熱電子と衝突し
てイオン化される。14は電極間の空間部Sに捕捉され
たイオンを検出する二次電子増倍管等からなるイオン検
出器、16はイオン検出2t14から出力される検出信
号のゲート回路である。
料導入管14から導入された試料ガスが熱電子と衝突し
てイオン化される。14は電極間の空間部Sに捕捉され
たイオンを検出する二次電子増倍管等からなるイオン検
出器、16はイオン検出2t14から出力される検出信
号のゲート回路である。
18は電圧設定手段で、電極2.4a、4bに印加する
イオン捕捉電圧(U+ V sinωt)を、広質量範
囲のイオンを前記電界内に捕捉する第1設定値、特定質
量数のイオンのみが捕捉状態が保たれる第2設定値およ
びこの第2設定値で捕捉されたイオンを前記電界内から
放出する第3設定値の3段階に渡って設定する。20は
電圧設定手段18で設定される第1、第2、第3設定値
の一つを選択出力するマルチプレクサ、22はシーケン
ス制御手段で、上記の第!、第2、第3の各設定値をイ
オン生成時からイオン放出時までの間に順次切り換え選
択する選択信号を所定のタイミングでマルチプレクサ2
0に出力するとともに、エミッション制御器10に対し
てエミッションゲート8を開くタイミング信号を、また
、ゲート回路16を開くタイミング信号をそれぞれ出力
する。24はシーケンス制御手段22で選択された第1
1第2、第3の各設定値に応じて各電極2.4a、4b
間にイオン捕捉電圧を印加する電源回路である。
イオン捕捉電圧(U+ V sinωt)を、広質量範
囲のイオンを前記電界内に捕捉する第1設定値、特定質
量数のイオンのみが捕捉状態が保たれる第2設定値およ
びこの第2設定値で捕捉されたイオンを前記電界内から
放出する第3設定値の3段階に渡って設定する。20は
電圧設定手段18で設定される第1、第2、第3設定値
の一つを選択出力するマルチプレクサ、22はシーケン
ス制御手段で、上記の第!、第2、第3の各設定値をイ
オン生成時からイオン放出時までの間に順次切り換え選
択する選択信号を所定のタイミングでマルチプレクサ2
0に出力するとともに、エミッション制御器10に対し
てエミッションゲート8を開くタイミング信号を、また
、ゲート回路16を開くタイミング信号をそれぞれ出力
する。24はシーケンス制御手段22で選択された第1
1第2、第3の各設定値に応じて各電極2.4a、4b
間にイオン捕捉電圧を印加する電源回路である。
次に、上記構成において、特定質量数をもつイオンを検
出する場合の制御動作について、第2図のタイミングチ
ャート、第3図のフローチャートおよび第4図のマーシ
ュ曲線を参照して説明する。
出する場合の制御動作について、第2図のタイミングチ
ャート、第3図のフローチャートおよび第4図のマーシ
ュ曲線を参照して説明する。
第4図のマーシュ曲線は、周知のごとく三次元四重極電
界におけるイオン振動の安定度を示すもので、同図にお
いて、縦軸のaZ 、横軸のqzの各パラメータはそれ
ぞれ次式で定義されている。
界におけるイオン振動の安定度を示すもので、同図にお
いて、縦軸のaZ 、横軸のqzの各パラメータはそれ
ぞれ次式で定義されている。
az−−8eU/mro”ω’ (1)qz=
4 eV /mro”ω” (2)(ここに、
eはイオン電荷、Uは直流電圧、■は高周波電圧の振幅
、mはイオン質1、roは電極対象軸の中心からリング
電極までの距離、ωは高周波電圧の角周波数) また、同図において、Z m、、 7. mtで示す曲
線は、リング電極2の軸方向(第1図のZ方向)に対す
るイオンの安定性の境界を示し、両面線間ではイオンか
安定に存在するが、両曲線より外方ではイオンがリング
電極2の軸方向(2方向)に発!牧してしまう。また、
Rml、Rm!で示す曲線は、リング”Iil!2の半
径方向(第1図のr方向)に対するイオンの安定性の境
界を示し、両面線間ではイオンが安定に存在するが、両
曲線より外方ではイオンがリング電極2の半径力・向(
r方向)に発散してしまう。したがって、これら4つの
曲線Z mix Z mt、RIll、、 Rm、で囲
まれた領域Eにおいてのみイオンが安定に存在する。
4 eV /mro”ω” (2)(ここに、
eはイオン電荷、Uは直流電圧、■は高周波電圧の振幅
、mはイオン質1、roは電極対象軸の中心からリング
電極までの距離、ωは高周波電圧の角周波数) また、同図において、Z m、、 7. mtで示す曲
線は、リング電極2の軸方向(第1図のZ方向)に対す
るイオンの安定性の境界を示し、両面線間ではイオンか
安定に存在するが、両曲線より外方ではイオンがリング
電極2の軸方向(2方向)に発!牧してしまう。また、
Rml、Rm!で示す曲線は、リング”Iil!2の半
径方向(第1図のr方向)に対するイオンの安定性の境
界を示し、両面線間ではイオンが安定に存在するが、両
曲線より外方ではイオンがリング電極2の半径力・向(
r方向)に発散してしまう。したがって、これら4つの
曲線Z mix Z mt、RIll、、 Rm、で囲
まれた領域Eにおいてのみイオンが安定に存在する。
ここで、U対Vの比すなわち2U/Vを一定に保ちなか
らUとVの一方を変化させると、上記の(+)、(2)
式から分かるように、その軌跡はaz/qz−一定の直
線上を動き(第4図の符号aあるいはbで示す直線)、
この直線の勾配がUとVにより定まる。そこで、2U/
Vの値を小さくすれば直線の勾配も小さくなり、安定領
域Eに入る直線距離が長くなる。しかも、その際にUと
■の各絶対値ら小さくすれば、az、 qzの値がそれ
ぞれ小さくなるので、結果的に安定領域E内に安定に存
在する質量数をもつイオンが増加する。
らUとVの一方を変化させると、上記の(+)、(2)
式から分かるように、その軌跡はaz/qz−一定の直
線上を動き(第4図の符号aあるいはbで示す直線)、
この直線の勾配がUとVにより定まる。そこで、2U/
Vの値を小さくすれば直線の勾配も小さくなり、安定領
域Eに入る直線距離が長くなる。しかも、その際にUと
■の各絶対値ら小さくすれば、az、 qzの値がそれ
ぞれ小さくなるので、結果的に安定領域E内に安定に存
在する質量数をもつイオンが増加する。
したがって、イオン生成時には、まず、シーケンス制御
手段22からエミッション制御器IOに正電圧パルスを
加えることでエミッションゲート8を開き、熱電子を空
間部S内に放出して試料ガスをイオン化する一方、シー
ケンス制御手段22からマルチプレクサ20に選択信号
を与えて電圧設定手段18の第1設定値を選択し、この
第1設定値を電源回路24に与える。これにより、リン
グ電極2とキャップ電極4a、4b間に印加されるU、
Vの値が空間電荷による発散作用が影響しない程度に十
分少く設定される(第2図参照)(ステップ■)。すな
わち、第4図において、2U/Vが小さく、かつ、(1
)、(2)式のaz、 qzの値も小さくなるので、広
質量範囲のイオンが空間部Sの電界に捕捉される(ステ
ップ■)。このため、捕捉効率が高くなる。
手段22からエミッション制御器IOに正電圧パルスを
加えることでエミッションゲート8を開き、熱電子を空
間部S内に放出して試料ガスをイオン化する一方、シー
ケンス制御手段22からマルチプレクサ20に選択信号
を与えて電圧設定手段18の第1設定値を選択し、この
第1設定値を電源回路24に与える。これにより、リン
グ電極2とキャップ電極4a、4b間に印加されるU、
Vの値が空間電荷による発散作用が影響しない程度に十
分少く設定される(第2図参照)(ステップ■)。すな
わち、第4図において、2U/Vが小さく、かつ、(1
)、(2)式のaz、 qzの値も小さくなるので、広
質量範囲のイオンが空間部Sの電界に捕捉される(ステ
ップ■)。このため、捕捉効率が高くなる。
そして、捕捉されたイオンの軌道が中性分子あるいはイ
オンどうしの相互作用によってダンピングされて十分安
定した後、次に、シーケンス制御手段22からエミッシ
ョン制御器IOに加える正7[圧パルスを0にしてエミ
ッションゲート8を閉じる一方、シーケンス制御手段2
2からマルチプレクサ20に選択信号を与えて電圧設定
手段I8の第2設定値を選択し、この第2設定値を電源
回路24に与える。これにより、U、Vの6値が検出目
的とする質量数をもつイオンのみが捕捉される状態に設
定されろ(ステップ■)。すなわち、第4図において、
安定領域Eを僅かに横切る直線aの勾配(2U/V)を
もち、かつ、az、 qzの6値が安定領域E内に存在
する条件を満たすようにU、■の値が設定される。その
結果、特定質1敗のイオンのみが選択的に捕捉され(ス
テップ■)、他の質1数を6つイオンは空間部Sから発
散する。
オンどうしの相互作用によってダンピングされて十分安
定した後、次に、シーケンス制御手段22からエミッシ
ョン制御器IOに加える正7[圧パルスを0にしてエミ
ッションゲート8を閉じる一方、シーケンス制御手段2
2からマルチプレクサ20に選択信号を与えて電圧設定
手段I8の第2設定値を選択し、この第2設定値を電源
回路24に与える。これにより、U、Vの6値が検出目
的とする質量数をもつイオンのみが捕捉される状態に設
定されろ(ステップ■)。すなわち、第4図において、
安定領域Eを僅かに横切る直線aの勾配(2U/V)を
もち、かつ、az、 qzの6値が安定領域E内に存在
する条件を満たすようにU、■の値が設定される。その
結果、特定質1敗のイオンのみが選択的に捕捉され(ス
テップ■)、他の質1数を6つイオンは空間部Sから発
散する。
引き続いて、シーケンス制御手段22からゲート回路1
6に正電圧パルスを加えてゲート回路16を開く一方、
シーケンス制御手段22からマルチプレクサ20に選択
信号を与えて電圧設定手段18の第3設定値を選択し、
この第3設定値を電源回路24に与える。これにより、
第4図において、az、 qzの値は共に安定領域Eか
ら外れた値となるので、ステップ■において画電極2.
4a。
6に正電圧パルスを加えてゲート回路16を開く一方、
シーケンス制御手段22からマルチプレクサ20に選択
信号を与えて電圧設定手段18の第3設定値を選択し、
この第3設定値を電源回路24に与える。これにより、
第4図において、az、 qzの値は共に安定領域Eか
ら外れた値となるので、ステップ■において画電極2.
4a。
4bの空間部Sに捕捉されていたイオンが電界内から放
出される(ステップ■)。そして、この放出された特定
質1数のイオンがイオン検出器I4で検出され(ステッ
プ■)、その検出信号がゲート回路16を介して図外の
信号処理回路に送出されて質量測定の信号処理が行われ
る。
出される(ステップ■)。そして、この放出された特定
質1数のイオンがイオン検出器I4で検出され(ステッ
プ■)、その検出信号がゲート回路16を介して図外の
信号処理回路に送出されて質量測定の信号処理が行われ
る。
なお、第2図において、広質量数範囲のイオン捕捉時(
ステップ■)において、U電圧はOVとしているが、こ
れに限定されるしのではなく、第4図において、直線が
有る程度勾配(2U/V)をもっていても、安定領域E
に含まれる十分少さな値であれば適宜設定することがで
きる。また、捕捉した特定質It数のイオンの放出時(
ステップ■)においては、U電圧のみ変化させているが
、第4図においてaz、qzの値が安定領域Eから外れ
ればよいので、■単独またはU、Vの両者を共に変化さ
せることも可能である。
ステップ■)において、U電圧はOVとしているが、こ
れに限定されるしのではなく、第4図において、直線が
有る程度勾配(2U/V)をもっていても、安定領域E
に含まれる十分少さな値であれば適宜設定することがで
きる。また、捕捉した特定質It数のイオンの放出時(
ステップ■)においては、U電圧のみ変化させているが
、第4図においてaz、qzの値が安定領域Eから外れ
ればよいので、■単独またはU、Vの両者を共に変化さ
せることも可能である。
(ト)効果
本発明によれば、イオン生成あるいは導入時にイオン捕
捉電圧を十分に小さくしてイオンを捕捉し、その後に特
定質量数を捕捉する電圧に再設定するので、従来に比較
して検出感度を大幅に向上させることができる等の優れ
た効果が発揮される。
捉電圧を十分に小さくしてイオンを捕捉し、その後に特
定質量数を捕捉する電圧に再設定するので、従来に比較
して検出感度を大幅に向上させることができる等の優れ
た効果が発揮される。
第1図ないし第3図は本発明の実施例を示すらので、第
1図はイオントラップ形質遣分析計の構成図、第2図は
同装置のイオン捕捉動作のタイミングチャート、第3図
はイオン捕捉動作の説明に供するフローチャートである
。また、第4図はマーシュ曲線の特性図、第5図は従来
のイオン捕捉動作の説明に供するフローチャートである
。 ■・・・イオントラップ形質量分析計、2・・・リング
電極、4a、4b・・・キャップ電極、I8・・・電圧
設定手段、22・・・シーケンス制御手段、24・・・
電標回路。
1図はイオントラップ形質遣分析計の構成図、第2図は
同装置のイオン捕捉動作のタイミングチャート、第3図
はイオン捕捉動作の説明に供するフローチャートである
。また、第4図はマーシュ曲線の特性図、第5図は従来
のイオン捕捉動作の説明に供するフローチャートである
。 ■・・・イオントラップ形質量分析計、2・・・リング
電極、4a、4b・・・キャップ電極、I8・・・電圧
設定手段、22・・・シーケンス制御手段、24・・・
電標回路。
Claims (1)
- (1)リング電極とキャップ電極間にイオン捕捉電圧(
U+Vsinωt)を印加して前記両電極間に三次元四
重極電界を形成するイオントラップ形質量分析計におい
て、 前記イオン捕捉電圧を、広質量範囲のイオンを前記電界
内に捕捉する第1設定値、特定質量数のイオンのみが捕
捉状態に保たれる第2設定値およびこの第2設定値によ
り捕捉されたイオンを前記電界内から放出する第3設定
値の3段階に渡って設定する電圧設定手段と、 この電圧設定手段で設定される前記第1、第2、第3の
各設定値をイオン生成時からイオン放出時までの間に順
次切り換え選択する選択信号を所定のタイミングで出力
するシーケンス制御手段と、このシーケンス制御手段で
選択された前記第1、第2、第3の各設定値に応じて前
記リング電極とキャップ電極間に対応するイオン捕捉電
圧を印加する電源回路と、 を備えることを特徴とするイオントラップ形質量分析計
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63066715A JPH01239752A (ja) | 1988-03-18 | 1988-03-18 | イオントラップ形質量分析計 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63066715A JPH01239752A (ja) | 1988-03-18 | 1988-03-18 | イオントラップ形質量分析計 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01239752A true JPH01239752A (ja) | 1989-09-25 |
Family
ID=13323884
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63066715A Pending JPH01239752A (ja) | 1988-03-18 | 1988-03-18 | イオントラップ形質量分析計 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01239752A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110082420A (zh) * | 2019-04-23 | 2019-08-02 | 上海交通大学 | 基于正弦宽频电场下空间电荷测量的电介质陷阱检测系统 |
-
1988
- 1988-03-18 JP JP63066715A patent/JPH01239752A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110082420A (zh) * | 2019-04-23 | 2019-08-02 | 上海交通大学 | 基于正弦宽频电场下空间电荷测量的电介质陷阱检测系统 |
| CN110082420B (zh) * | 2019-04-23 | 2021-06-11 | 上海交通大学 | 基于正弦宽频电场下空间电荷测量的电介质陷阱检测系统 |
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