JPH01253607A - 材料面の表面あらさ検出装置 - Google Patents
材料面の表面あらさ検出装置Info
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- JPH01253607A JPH01253607A JP1041997A JP4199789A JPH01253607A JP H01253607 A JPH01253607 A JP H01253607A JP 1041997 A JP1041997 A JP 1041997A JP 4199789 A JP4199789 A JP 4199789A JP H01253607 A JPH01253607 A JP H01253607A
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Classifications
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/30—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring roughness or irregularity of surfaces
-
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- G01B11/303—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring roughness or irregularity of surfaces using photoelectric detection means
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、移動している材料面の表面あらさを光学的
に検出する方法に関するものであり、この方法において
は、材料面上に微細な光輝点を発生せしめ、その反射光
線を受光装置へ通す。この発明は更に、この方法を実施
するための装置に関するものでもある。
に検出する方法に関するものであり、この方法において
は、材料面上に微細な光輝点を発生せしめ、その反射光
線を受光装置へ通す。この発明は更に、この方法を実施
するための装置に関するものでもある。
表面あらさは、主としてダイヤモンドチップを用いるい
わゆる触針式測定方法による直接機械的表面あらさ測定
法により測定される。この標準的測定方法は、事実上す
べての技術面に対し確かに普遍的に用いることができる
が、しかしこの方法は比較的手間がかかり、材料面に傷
を付ける。更にまた、それは移動中の材料に対し測定を
実施し得ないという不利点がある。
わゆる触針式測定方法による直接機械的表面あらさ測定
法により測定される。この標準的測定方法は、事実上す
べての技術面に対し確かに普遍的に用いることができる
が、しかしこの方法は比較的手間がかかり、材料面に傷
を付ける。更にまた、それは移動中の材料に対し測定を
実施し得ないという不利点がある。
直接の光学式表面あらさ測定方法も既に使用されている
が、この方法では、例えば、微細な光輝点、高さ物差と
しての対物レンズの追従焦点合わせをもつ光学走査ヘッ
ドfOPTIG COMMUNICATLONS、4o
1ume 31.No、31979)が設けられている
か、または、高さ寸法をもつ非追従焦点対物レンズ(E
P 0234997)を通しての光学走査が、二つの受
領信号の差によって得られる。前の場合は、すべてのあ
らさ範囲に対し、接触なしの一般的測定を行ない得るこ
とが明らかに可能である。
が、この方法では、例えば、微細な光輝点、高さ物差と
しての対物レンズの追従焦点合わせをもつ光学走査ヘッ
ドfOPTIG COMMUNICATLONS、4o
1ume 31.No、31979)が設けられている
か、または、高さ寸法をもつ非追従焦点対物レンズ(E
P 0234997)を通しての光学走査が、二つの受
領信号の差によって得られる。前の場合は、すべてのあ
らさ範囲に対し、接触なしの一般的測定を行ない得るこ
とが明らかに可能である。
しかしながら、この方法は比較的手間がかかり(Ca、
50(lHzまでも)、調整および振動に対して比較
的敏感である。後の場合は、測定をより敏速に行ない得
る。しかしながら、ここでは高さ測定範囲が限定されて
おり、また振動に対して感度が比較的高い。
50(lHzまでも)、調整および振動に対して比較
的敏感である。後の場合は、測定をより敏速に行ない得
る。しかしながら、ここでは高さ測定範囲が限定されて
おり、また振動に対して感度が比較的高い。
例えば、材料面により発生させられた散乱投写光を光学
的に計測することにより、平均あらさに関する間接表示
を得ることができる(DE 3037622Al)。
的に計測することにより、平均あらさに関する間接表示
を得ることができる(DE 3037622Al)。
この簡単な積分方法は、振動に対して鈍感である。しか
しながら、それは−1測定が、使用光線の波長んよりも
小さなあらさ高さに限定されており、かつ、特定の外形
形状上の表明が不可能であるので不利である。その上、
得られる測量値が不確かであり、表面あらさまたは特徴
的あらさ数を明確にさせる明瞭な組合わせを妨げるか、
またはより一層困難(こさせる。
しながら、それは−1測定が、使用光線の波長んよりも
小さなあらさ高さに限定されており、かつ、特定の外形
形状上の表明が不可能であるので不利である。その上、
得られる測量値が不確かであり、表面あらさまたは特徴
的あらさ数を明確にさせる明瞭な組合わせを妨げるか、
またはより一層困難(こさせる。
この発明は、当初に述べた種類の装置を櫂供することを
目的になされたのであって、この装置によれば、上記の
不利点が克服され、かつ特にまた、使用されている光線
の波長えよりも大きなあらさ高さをもった迅速な移動材
料に対する対応的な迅速かつ振動に鈍感な測定も可能で
ある。
目的になされたのであって、この装置によれば、上記の
不利点が克服され、かつ特にまた、使用されている光線
の波長えよりも大きなあらさ高さをもった迅速な移動材
料に対する対応的な迅速かつ振動に鈍感な測定も可能で
ある。
この目的は、この発明によれば、材A4面の各走査点に
対し、反射光線の反射角と、従って、それぞれの表面傾
斜値とを測定し、一連の走査点に沿って得られた傾斜値
から表面あらさを再構成し、反射角の測定に対し、各場
合において散乱反射光線の主方向を検出し、かつ、一連
の走査点に沿った傾斜値の積分によって、一連の走査点
に沿った表面あらさまたはあらさ領域を再構成すること
によって解決される。
対し、反射光線の反射角と、従って、それぞれの表面傾
斜値とを測定し、一連の走査点に沿って得られた傾斜値
から表面あらさを再構成し、反射角の測定に対し、各場
合において散乱反射光線の主方向を検出し、かつ、一連
の走査点に沿った傾斜値の積分によって、一連の走査点
に沿った表面あらさまたはあらさ領域を再構成すること
によって解決される。
この構成の結果、比較的敏速に、すなわち比較的高測定
速度をもって移動している材料に対しても表面あらさの
測定を行なうことができる。ここでは発生ずる外形高さ
は、使用されている光の波長2.よりもかなり大きくあ
り得る。これらの場合においては、得られる傾斜値から
関連表面あらさを常に明白に再構成することができる。
速度をもって移動している材料に対しても表面あらさの
測定を行なうことができる。ここでは発生ずる外形高さ
は、使用されている光の波長2.よりもかなり大きくあ
り得る。これらの場合においては、得られる傾斜値から
関連表面あらさを常に明白に再構成することができる。
この発明は、例えば、直接回転ラインにある車体部品用
の冷間圧延シートメタルの表面あらさの検査にも適する
。
の冷間圧延シートメタルの表面あらさの検査にも適する
。
車体用のシートメタルのあらさ範囲(Ra=08から2
.5 um)の結果として、当初に述べた積分散乱投写
光の評価にはC02(尤=10.5μm)だけしか使用
し得ないのに、この発明の方法や装置では、かなり取扱
い易いレーザダイオードをを放射線源として使用し得る
。その上、この発明の測定方法はまた、例えば1.oo
ltmの外形高さをも表面あらさとし1 ] て直接使用し得る。
.5 um)の結果として、当初に述べた積分散乱投写
光の評価にはC02(尤=10.5μm)だけしか使用
し得ないのに、この発明の方法や装置では、かなり取扱
い易いレーザダイオードをを放射線源として使用し得る
。その上、この発明の測定方法はまた、例えば1.oo
ltmの外形高さをも表面あらさとし1 ] て直接使用し得る。
一連の走査点に沿う表面あらさまたはあらさ領域の再構
成は、一連の走査点に沿った傾斜値の積分法または加法
により行なわれる。
成は、一連の走査点に沿った傾斜値の積分法または加法
により行なわれる。
発見される主角または傾斜値は、随意暫定的に貯えられ
るか、または緩衝されるので、実際の測定プロセスは、
常に次の計算手段から独立して高速で行なわれる。
るか、または緩衝されるので、実際の測定プロセスは、
常に次の計算手段から独立して高速で行なわれる。
例えば、チップ形成機にかけられて来た面のあらさ測定
中に、主として加工方向を横断する表面あらさを知る必
要がある。そのような場合においては、材料面の移動方
向またCJ加工方向を横断する光輝点の周期的走査運動
発生のための準備が行なわれる。
中に、主として加工方向を横断する表面あらさを知る必
要がある。そのような場合においては、材料面の移動方
向またCJ加工方向を横断する光輝点の周期的走査運動
発生のための準備が行なわれる。
特に、平均あらさRa、15よび/またはあらさRzの
平均深さのような通常のあらさ測定パラメータは、この
再構成された表面あらさから便宜」二形成される。
平均深さのような通常のあらさ測定パラメータは、この
再構成された表面あらさから便宜」二形成される。
移動材料面上に光輝点を発生さセるためのレーザダイオ
ードと、受光装置とを備えたこの発明の装置は、予定の
反射角範囲内で材料面から反射された光を検出する受光
装置が、散乱反射光線の主角にそれぞれ対応する1対の
出力信号(Ua、 Uf )を放出するために位置感応
受光装置として連結されていることを特徴とする。
ードと、受光装置とを備えたこの発明の装置は、予定の
反射角範囲内で材料面から反射された光を検出する受光
装置が、散乱反射光線の主角にそれぞれ対応する1対の
出力信号(Ua、 Uf )を放出するために位置感応
受光装置として連結されていることを特徴とする。
従って、各点で反射光線の角度と、斯くして関連材料の
表面傾斜を検出するために、材料面の表面あらさが便宜
−ヒ微細な光輝点をもって走査される。たとえ反射光線
の散乱が生じても、反射角を直接かつ問題なく確実に検
出できるようにするために、材料面から反射した散乱光
線の平面内に横たわっている予測し得る範囲の散乱角を
位置感応受光装置が検出するが、位置依存反応行動の結
果として、主角に依存する1対の出力信号を直接受渡す
ために、この散乱角の範囲は可及的大きくなっている。
表面傾斜を検出するために、材料面の表面あらさが便宜
−ヒ微細な光輝点をもって走査される。たとえ反射光線
の散乱が生じても、反射角を直接かつ問題なく確実に検
出できるようにするために、材料面から反射した散乱光
線の平面内に横たわっている予測し得る範囲の散乱角を
位置感応受光装置が検出するが、位置依存反応行動の結
果として、主角に依存する1対の出力信号を直接受渡す
ために、この散乱角の範囲は可及的大きくなっている。
この発明の装置の実際的な、そして特に便宜十の実施例
によれば、位置感応受光装置が、光輝点のまわりの円弧
上に配置されている複数の光電コンバータ、好ましくは
フォトダイオードを含んでいる。これらの電光コンバー
タまた(ま)オドダイオードは、好ましくは、主角(ド
イツ語文字で、「重力角の中心」)、または主角に依存
する信号対が、出力に際し直接依存するよう位置感応受
光装置に結合させである。
によれば、位置感応受光装置が、光輝点のまわりの円弧
上に配置されている複数の光電コンバータ、好ましくは
フォトダイオードを含んでいる。これらの電光コンバー
タまた(ま)オドダイオードは、好ましくは、主角(ド
イツ語文字で、「重力角の中心」)、または主角に依存
する信号対が、出力に際し直接依存するよう位置感応受
光装置に結合させである。
光電コンバータは、光輝点がそれぞれの関連コンバータ
上にレンズによって像影されるよう関連円弧上に互いに
密接して横たわらせておくか、または便宜上配置してお
くことができ、レンズは、もう一つの円弧上に相互に密
接させて配置してお(ことができる。
上にレンズによって像影されるよう関連円弧上に互いに
密接して横たわらせておくか、または便宜上配置してお
くことができ、レンズは、もう一つの円弧上に相互に密
接させて配置してお(ことができる。
位置感応受光装置は好ましくは、受光装置の円弧の比較
的大きな角範囲内に反射した全散乱光線を常に受入れる
。
的大きな角範囲内に反射した全散乱光線を常に受入れる
。
この装置の更にもう一つ実際的な展開は、光電コンバー
タの出力信号が、連結抵抗へ通過させられること、およ
びそれぞれの反射角または主角に依存する出力信号が、
連結抵抗において切離され得ることを特徴としている。
タの出力信号が、連結抵抗へ通過させられること、およ
びそれぞれの反射角または主角に依存する出力信号が、
連結抵抗において切離され得ることを特徴としている。
この装置は好ましくは、連結抵抗が二つの連結部分に分
割され、それぞれの反射角または主角に依存する出力信
号が二つの部分電圧内に細分され、1部分の電圧が、連
結抵抗の1端と、基準電位で横たわっている二つの連結
抵抗間の中心点との間で分離可能となっており、かつ他
部分の電圧が、連結抵抗の他端と、この中心点との間で
分離可能となるように作られている。例えば、散乱反射
光の重力の中心に関する直接情報が、ニーつの部分の電
圧の差および和の商から発見される。この目的のために
、主角または反射角に依存する出力信号、または位置感
応受光装置の二つの部分の出力電圧は、好ましくは電子
評価回路へ通過させられて、主角または主角を表示する
測定値に正比例する測定値が形成される。
割され、それぞれの反射角または主角に依存する出力信
号が二つの部分電圧内に細分され、1部分の電圧が、連
結抵抗の1端と、基準電位で横たわっている二つの連結
抵抗間の中心点との間で分離可能となっており、かつ他
部分の電圧が、連結抵抗の他端と、この中心点との間で
分離可能となるように作られている。例えば、散乱反射
光の重力の中心に関する直接情報が、ニーつの部分の電
圧の差および和の商から発見される。この目的のために
、主角または反射角に依存する出力信号、または位置感
応受光装置の二つの部分の出力電圧は、好ましくは電子
評価回路へ通過させられて、主角または主角を表示する
測定値に正比例する測定値が形成される。
重力の中心または反射角から表、面傾斜値を形成するた
めの手段、更にまた前記傾斜値から表面あらさを再構成
するための手段、および好ましくはまた特に、再構成さ
れた表面あらさから平均あらさ値Ragよび/またはあ
らさRzの平均深さのようなあらさパラメータを形成す
るための手段もまた電子評価回路内に設けられている。
めの手段、更にまた前記傾斜値から表面あらさを再構成
するための手段、および好ましくはまた特に、再構成さ
れた表面あらさから平均あらさ値Ragよび/またはあ
らさRzの平均深さのようなあらさパラメータを形成す
るための手段もまた電子評価回路内に設けられている。
材料面上の連続関連点の走査周波を設定する調整装置も
同時に評価装置と組合されている。なかんずく、それぞ
れの輸送速度に対し走査周波を採用できるようにするた
めに、それぞれの材料輸送速度を検出するための手段を
設けることができる。
同時に評価装置と組合されている。なかんずく、それぞ
れの輸送速度に対し走査周波を採用できるようにするた
めに、それぞれの材料輸送速度を検出するための手段を
設けることができる。
もう一つの実施例によれば、光電コンバータと関連して
いる円弧を含む平面内において、光輝点が材料面上をあ
ちこちと移動できるようになっている。このようにして
、例えば、チップ形成方法によって加工されて来た表面
に関する加工方向に対し、横断状の表面あらさを発生さ
せる可能性もある。榎準的表面条件が存在する限り、こ
の表面の領域に沿って単に走査するだけで充分である。
いる円弧を含む平面内において、光輝点が材料面上をあ
ちこちと移動できるようになっている。このようにして
、例えば、チップ形成方法によって加工されて来た表面
に関する加工方向に対し、横断状の表面あらさを発生さ
せる可能性もある。榎準的表面条件が存在する限り、こ
の表面の領域に沿って単に走査するだけで充分である。
これのために特に適している装置の便宜上の設計は、光
学コリメータ方式によって発生させられた並列ビームが
、定角速度で周期的に偏向させられ、テレセントリック
FO一対物レンズによって材料面上の光輝点に転換でき
、その光輝点が、定速かっ定岑射角で移動させられるよ
うに設計されている。光輝点が常に定速で移動されられ
、かつ走入射角で発生させられるので、常に信頼性の高
い測、定が保証される。
学コリメータ方式によって発生させられた並列ビームが
、定角速度で周期的に偏向させられ、テレセントリック
FO一対物レンズによって材料面上の光輝点に転換でき
、その光輝点が、定速かっ定岑射角で移動させられるよ
うに設計されている。光輝点が常に定速で移動されられ
、かつ走入射角で発生させられるので、常に信頼性の高
い測、定が保証される。
この発明のその他の有利な実施例は、以下の説明により
明らかてあらう。
明らかてあらう。
次に、本発明の実施例を図面に基づいて、説明する。
迅速に移動している材料面10の表面あらさを検出する
ため、第1図に略図で示されている光学あらさ探針は、
光源としてレーザグイオード12をふくんでおり、前記
光源の放射区域は、材料面10上に光輝点14を形成す
るために、以下更にくわしく説明される光学方式によっ
て像影される。位置感応受光装置16が設けられており
、この装置が、図面の平面内において、材料面10によ
る反射で散乱している光線の散乱角範囲をピックアップ
する。散乱範囲は、はぼ半円形を形成する円弧によって
予定されている。光電コンバータを形成している複計の
フォトダイオード20が、円弧上に互いに相並んで配置
されている。
ため、第1図に略図で示されている光学あらさ探針は、
光源としてレーザグイオード12をふくんでおり、前記
光源の放射区域は、材料面10上に光輝点14を形成す
るために、以下更にくわしく説明される光学方式によっ
て像影される。位置感応受光装置16が設けられており
、この装置が、図面の平面内において、材料面10によ
る反射で散乱している光線の散乱角範囲をピックアップ
する。散乱範囲は、はぼ半円形を形成する円弧によって
予定されている。光電コンバータを形成している複計の
フォトダイオード20が、円弧上に互いに相並んで配置
されている。
材料面10から反射した散乱光線1i:、’fM状レン
ズ42によりピックアップされて、半円形上に分布され
ているフ4トダイオード20上に集中される。
ズ42によりピックアップされて、半円形上に分布され
ているフ4トダイオード20上に集中される。
組合せ光学方式付きのレーザダイオード12は、送信機
によっておおい隠されている材料面から反射した光線を
避Jlるために、図面の平面に対し垂直の平面内におい
て、受光装置16に関し傾斜させられている。環状レン
ズ42もまた断面がほぼ半円形であるが、しかしながら
、関連円形の半径が、フォトダイオード20と関連して
いる円形の半径よりも小さい。
によっておおい隠されている材料面から反射した光線を
避Jlるために、図面の平面に対し垂直の平面内におい
て、受光装置16に関し傾斜させられている。環状レン
ズ42もまた断面がほぼ半円形であるが、しかしながら
、関連円形の半径が、フォトダイオード20と関連して
いる円形の半径よりも小さい。
連結抵抗24は、円弧上に配置されているフォトダイオ
ード20と連合していて、この連結抵抗は、複数の個々
の抵抗Rjから形成されている。
ード20と連合していて、この連結抵抗は、複数の個々
の抵抗Rjから形成されている。
連結抵抗24は、二つの連結部分26.28に分割され
ている。中央で円弧上に配置されているフ引)・ダイオ
ード20は、部分抵抗26.28間に横たわっている中
心点30と連結していて、接地電位点Mを有している。
ている。中央で円弧上に配置されているフ引)・ダイオ
ード20は、部分抵抗26.28間に横たわっている中
心点30と連結していて、接地電位点Mを有している。
このようにして実現されている位置感応受光装置には、
円弧上の中心に配置された受光器ダイオードの各側に更
に同数のフォトダイオード20がある。それ以上のダイ
オード20の出力は、それぞれ関連部分の連結抵抗列2
Gまたは28の二つの抵抗R1間に横たわっている連結
点と、または連結抵抗24の左側または右側外部連結点
と連結している。
円弧上の中心に配置された受光器ダイオードの各側に更
に同数のフォトダイオード20がある。それ以上のダイ
オード20の出力は、それぞれ関連部分の連結抵抗列2
Gまたは28の二つの抵抗R1間に横たわっている連結
点と、または連結抵抗24の左側または右側外部連結点
と連結している。
関連円弧の左側外縁部に配置されているフォトダイオー
ドは、連結抵抗24の左側外部連結点と連結しており、
また、円形体上の右側外縁部に配置されているフ4トダ
イ才−i・は、連結抵抗24の右側外部連結点と連結し
ている。更に内側に向けて横たわっているそれぞれのフ
ォトダイオードの出力は、更に内側に向けて配置されて
いる連結抵抗24の次の連結点にそれぞれ送られる。
ドは、連結抵抗24の左側外部連結点と連結しており、
また、円形体上の右側外縁部に配置されているフ4トダ
イ才−i・は、連結抵抗24の右側外部連結点と連結し
ている。更に内側に向けて横たわっているそれぞれのフ
ォトダイオードの出力は、更に内側に向けて配置されて
いる連結抵抗24の次の連結点にそれぞれ送られる。
斯くして、この説明された位置感応受光装置16は、散
乱反射光の重力中心または反射角と関連した角度に依存
する出力信号を受渡ずが、この出力信号は、連結抵抗2
4から二つの部分電圧の形式で、分離できるようになっ
ている。
乱反射光の重力中心または反射角と関連した角度に依存
する出力信号を受渡ずが、この出力信号は、連結抵抗2
4から二つの部分電圧の形式で、分離できるようになっ
ている。
部分電圧IJaは、左側部分連結抵抗列2G、ずなわぢ
、連結抵抗24の最左側連結部とアースとの間で分離さ
れる。第2部分電圧Ul)は、連結抵抗24の最左側連
結部子と、接地電位点M、すなわち、中心点30との間
に生ずる。
、連結抵抗24の最左側連結部とアースとの間で分離さ
れる。第2部分電圧Ul)は、連結抵抗24の最左側連
結部子と、接地電位点M、すなわち、中心点30との間
に生ずる。
迅速に通過移動している運動方向は、矢印りて示しであ
る。
る。
従って、材料面10から反射した散乱光線のそれぞれの
重量の中心角に依存する測定値は、二つの部分電圧Ua
オよびUl)によって直接測定される。
重量の中心角に依存する測定値は、二つの部分電圧Ua
オよびUl)によって直接測定される。
発光する光輝点14を発生させるビームは、図面の平面
内において、材料面]0上へほとんど垂直に突当る。受
光装置16のフォトダイオードド20によって形成され
る部分円形体は、入射ビームによって形成される直線に
関して調心される、すなわち、材料面が平面ミラーであ
ると考えられた場合に生ずる正反射ビームは、円弧の中
心に配置されたフ才l・ダイード−にに落下する。もし
、二つの部分電圧UaおよびUbが同サイズのものであ
るならば、光輝点により衝突される表面要素における反
射の重力中心角は、ゼロに等しい、すなわち、前記要素
はマクロ面に関し傾斜を有しない。もし、部分電圧U1
)が、部分電圧Uaよりも犬きければ、第1図における
散乱反射光線は第1図において右方へ傾斜している。対
照的に、もし部分電圧IJaの方が大きければ、これは
、第1図の平面内において、散乱反射光線が、左方へ傾
斜した結果である。
内において、材料面]0上へほとんど垂直に突当る。受
光装置16のフォトダイオードド20によって形成され
る部分円形体は、入射ビームによって形成される直線に
関して調心される、すなわち、材料面が平面ミラーであ
ると考えられた場合に生ずる正反射ビームは、円弧の中
心に配置されたフ才l・ダイード−にに落下する。もし
、二つの部分電圧UaおよびUbが同サイズのものであ
るならば、光輝点により衝突される表面要素における反
射の重力中心角は、ゼロに等しい、すなわち、前記要素
はマクロ面に関し傾斜を有しない。もし、部分電圧U1
)が、部分電圧Uaよりも犬きければ、第1図における
散乱反射光線は第1図において右方へ傾斜している。対
照的に、もし部分電圧IJaの方が大きければ、これは
、第1図の平面内において、散乱反射光線が、左方へ傾
斜した結果である。
従って、位置感受光装置16は、それぞれ発生する重力
中心角に依存する二つの部分信号UaおよびUbの形成
における出力信号を直接受渡す。それぞれ発生する重力
中心角を示す明度は、二つの部分電圧の差とこれら部分
電圧の和から形成される商の接線によって形成される。
中心角に依存する二つの部分信号UaおよびUbの形成
における出力信号を直接受渡す。それぞれ発生する重力
中心角を示す明度は、二つの部分電圧の差とこれら部分
電圧の和から形成される商の接線によって形成される。
示されたあらさ探針は、発生させられたレーザ光線の波
長λよりも大きな外形高さまたはあらさ値Raをもつ移
動中の材料を速やかにモニタするために用いることがで
きる。測定は振動に対して実際上鈍感である。従って、
これは、車体部品用の冷間圧延シートメタルの表面あら
さをモニタするため、直接圧延ラインにおいて適用する
ことができる。車体部品用のシートメタルの表面あらさ
範囲は0.8から2.5μmに等しいほぼRaである。
長λよりも大きな外形高さまたはあらさ値Raをもつ移
動中の材料を速やかにモニタするために用いることがで
きる。測定は振動に対して実際上鈍感である。従って、
これは、車体部品用の冷間圧延シートメタルの表面あら
さをモニタするため、直接圧延ラインにおいて適用する
ことができる。車体部品用のシートメタルの表面あらさ
範囲は0.8から2.5μmに等しいほぼRaである。
この場合には、CO□で操作する以外げは操作し得ない
が、この発明の装置およびこの発明の方法においては、
当初に述べたかなり取扱い易い積分散乱投写光評価レー
ザダイオードをもつレーザ光線(ん=10,5μm)を
表面あらさの光学測定のために使用することができる。
が、この発明の装置およびこの発明の方法においては、
当初に述べたかなり取扱い易い積分散乱投写光評価レー
ザダイオードをもつレーザ光線(ん=10,5μm)を
表面あらさの光学測定のために使用することができる。
その上、この発明のあらさ探針は100μmの高さの表
面あらさに対してさえ全面的に使用し得る。
面あらさに対してさえ全面的に使用し得る。
材料面10は今や、反射光線の角度、つまり表面傾斜が
、例えば選定された点順序の各位置に対し検出されるよ
うな方法で、説明されたあらさ投写光の微細な光輝点1
4により走査される。選定された点の順序に沿った傾斜
値の積分によって、それぞれの高さ外形が問題なく再構
成される。
、例えば選定された点順序の各位置に対し検出されるよ
うな方法で、説明されたあらさ投写光の微細な光輝点1
4により走査される。選定された点の順序に沿った傾斜
値の積分によって、それぞれの高さ外形が問題なく再構
成される。
−eに反射光線が散乱しているにもかかわらず、説明さ
れた装置によって反射角を検出することができる。受光
円弧の大きな角範囲上に反射して散乱した全光線は、す
なわちフォトダイオードによってピックアップされる。
れた装置によって反射角を検出することができる。受光
円弧の大きな角範囲上に反射して散乱した全光線は、す
なわちフォトダイオードによってピックアップされる。
これらのダイオードの位置感応連結の結果、重力角の中
心が直接検出され、これが、表面要素の平均傾斜に対応
する関連反射角を設定する。
心が直接検出され、これが、表面要素の平均傾斜に対応
する関連反射角を設定する。
光学あらさ探針に対する光学略図が、拡大作用距離で第
2図に示されている。ここでもま・た矢印りが材料面1
0の移動方向を示している。
2図に示されている。ここでもま・た矢印りが材料面1
0の移動方向を示している。
材料面10上に光輝点14を形成するために、アナモフ
ィック光学コリメータ方式32によって、ひずみが修正
されたレーザダイオード12が、まず初めに無限大で像
影され、次いでもう一つのレンズまたは光学方式34に
よって像影される。
ィック光学コリメータ方式32によって、ひずみが修正
されたレーザダイオード12が、まず初めに無限大で像
影され、次いでもう一つのレンズまたは光学方式34に
よって像影される。
発生させられた光輝点14は、約15μmの直径を有し
ており、20m/Sまでの速度で矢印りの方向に移動さ
せられている材料面10を走査する。
ており、20m/Sまでの速度で矢印りの方向に移動さ
せられている材料面10を走査する。
この材料面10から反射した散乱光線はレンズ22また
はLo、 L+=LnおよびL−+・・・L−。
はLo、 L+=LnおよびL−+・・・L−。
によって、それぞれ関連フォトレシーバダイオード20
またはE。、Eピ・・E、およびE−+ ・・・E−1
上に集中させられる。
またはE。、Eピ・・E、およびE−+ ・・・E−1
上に集中させられる。
受光装置16と関連しているフォトダイオード20は、
次いで連結抵抗24(第1図参照)と連結しているが、
しかしながら、これは第2図には示されていない。連結
抵抗24から分離されている二つの部分電圧UaとUb
の商、またはこれら二つの部分電圧から形成された差お
よび和の商が、反射して散乱している光線の重力中心角
、従って発光する光輝点によって照射された表面要素の
傾斜角に関する直接情報を再び受渡す。もし、最後に述
べた値から接線が形成されるとすれば、そこでこの表面
要素の傾斜が結果的に生ずる。
次いで連結抵抗24(第1図参照)と連結しているが、
しかしながら、これは第2図には示されていない。連結
抵抗24から分離されている二つの部分電圧UaとUb
の商、またはこれら二つの部分電圧から形成された差お
よび和の商が、反射して散乱している光線の重力中心角
、従って発光する光輝点によって照射された表面要素の
傾斜角に関する直接情報を再び受渡す。もし、最後に述
べた値から接線が形成されるとすれば、そこでこの表面
要素の傾斜が結果的に生ずる。
レンズL−0からLnと関連している円弧は、120°
から 160°の開口角を有し得る。この開口角は、本
件の場合においでは140°に達している。
から 160°の開口角を有し得る。この開口角は、本
件の場合においでは140°に達している。
レンズL−,からり。は、関連円弧上に互いbこ密接し
て横たわっている。これらのレンズの各々は、それに突
当る光線を、関連フォトレシーバまたは関連フォトダイ
オードE−oないしE、上へ集中さぜる重力中心角また
は重力信号中心が、2MH,の周波で間会わされる。こ
れは、20m/Sの材料速度で10μmの間隔をもつ表
面上の測定点順序に対応する。関連表面要素の平均傾斜
角が、これらの測定点の各々に対して形成され、その平
均傾斜角の接線が平均傾斜を設定している。この傾斜値
が、迅速測定値メモリー内へ供給される。
て横たわっている。これらのレンズの各々は、それに突
当る光線を、関連フォトレシーバまたは関連フォトダイ
オードE−oないしE、上へ集中さぜる重力中心角また
は重力信号中心が、2MH,の周波で間会わされる。こ
れは、20m/Sの材料速度で10μmの間隔をもつ表
面上の測定点順序に対応する。関連表面要素の平均傾斜
角が、これらの測定点の各々に対して形成され、その平
均傾斜角の接線が平均傾斜を設定している。この傾斜値
が、迅速測定値メモリー内へ供給される。
次いで、所望の高さ外形が、−順の傾斜値から、測定点
間隔との積分によるが、または乗数により再構成される
。これから、特に平均あらさ値RaおよびあらさRzの
平均深さのような合成表面あらさパラメータが形成され
る。これらの表面あらさパラメータは、機械的あらさ測
定装置と同じ方法によって、表面あらさから測定するこ
とができる。
間隔との積分によるが、または乗数により再構成される
。これから、特に平均あらさ値RaおよびあらさRzの
平均深さのような合成表面あらさパラメータが形成され
る。これらの表面あらさパラメータは、機械的あらさ測
定装置と同じ方法によって、表面あらさから測定するこ
とができる。
例えば、クロック信号が発生させられ、位置感応ダイオ
−ド装置の二つの部分電圧Ua!−3よびUbが増幅さ
れ、数字化されて、電子調整兼評価回路内で傾斜に転換
させられる。次いで、この高さ外形は、これらの傾斜値
から同じ電子評価回路内で構成されて、最後に所望の表
面あらさ値を計算することができる。
−ド装置の二つの部分電圧Ua!−3よびUbが増幅さ
れ、数字化されて、電子調整兼評価回路内で傾斜に転換
させられる。次いで、この高さ外形は、これらの傾斜値
から同じ電子評価回路内で構成されて、最後に所望の表
面あらさ値を計算することができる。
第3図は、第2図のA−A線での断面図を示している。
この断面図から、レンズL−nからLnと、フ才;・ダ
イオードE−,からE、、とを有する受光装置16、お
よびレーザグイぢ−ド12、光学コリメーティング方式
32および更に対物レンズ34を有する送信機装置が、
相互に関し傾斜しているのがわかる。これは、送信機装
置によって覆われている材料面10から反射する散乱光
線を避けようと意図されたものである。
イオードE−,からE、、とを有する受光装置16、お
よびレーザグイぢ−ド12、光学コリメーティング方式
32および更に対物レンズ34を有する送信機装置が、
相互に関し傾斜しているのがわかる。これは、送信機装
置によって覆われている材料面10から反射する散乱光
線を避けようと意図されたものである。
この発明の光学あらさ探針のもう一つの実施例が、第4
図と第5図に示されているが、この実施例においては、
光輝点14は、フ−t l−ダイオード20またはE−
oからF、、、と関連した円弧を含も平面内で、あちこ
ちと周期的に移動するようになっている。ここでは、光
輝点14の走査運動は、矢印D(第5図参照)により示
されている材料面10の移動方向に対し横断状に行なわ
れる。
図と第5図に示されているが、この実施例においては、
光輝点14は、フ−t l−ダイオード20またはE−
oからF、、、と関連した円弧を含も平面内で、あちこ
ちと周期的に移動するようになっている。ここでは、光
輝点14の走査運動は、矢印D(第5図参照)により示
されている材料面10の移動方向に対し横断状に行なわ
れる。
光学コリメータ方式32によって発生させられた並列ビ
ームは、ミラーホイール38によって周期的に偏向させ
られる。ここではミラーホイール38は、駆動装置40
により一定角速度で駆動される。光学コリメータ方式3
2により発生させられて、ミラーホイール38により一
定角速度で周期的に偏向させられる並列ビームは、材料
面10上で、定速で移動させられて、走入射角で発生さ
せられる光輝点14にテレセントリックFO対物レンズ
36によって転換させられる。
ームは、ミラーホイール38によって周期的に偏向させ
られる。ここではミラーホイール38は、駆動装置40
により一定角速度で駆動される。光学コリメータ方式3
2により発生させられて、ミラーホイール38により一
定角速度で周期的に偏向させられる並列ビームは、材料
面10上で、定速で移動させられて、走入射角で発生さ
せられる光輝点14にテレセントリックFO対物レンズ
36によって転換させられる。
この実施例は、チップ形成方法により加工され、加工方
向に対する横断方向の表面あらさに関心がある場合の表
面のあらさ測定のために特に適している。加工中にこの
方向における外形を検出することができるようにするめ
に、光輝点14は、フォトダイオード20および材料面
10を収容している部分円形の平面内で、最左端の光輝
点位置14′ と、最右端の光輝点位置14″との間を
あちこちと周期的に移動させられる。この移動の方向は
、矢印りによって示され、走査されている材料面の移動
方向に対し横断方向に延びる。もし、基準表面条件が推
定できるならば、先行実施例(第4図)で示したように
、対応する小表面領域を走査するだけで充分である。こ
の領域は、便宜上若干の加工みぞを含んでおり、その外
形がこの方法で検出される。
向に対する横断方向の表面あらさに関心がある場合の表
面のあらさ測定のために特に適している。加工中にこの
方向における外形を検出することができるようにするめ
に、光輝点14は、フォトダイオード20および材料面
10を収容している部分円形の平面内で、最左端の光輝
点位置14′ と、最右端の光輝点位置14″との間を
あちこちと周期的に移動させられる。この移動の方向は
、矢印りによって示され、走査されている材料面の移動
方向に対し横断方向に延びる。もし、基準表面条件が推
定できるならば、先行実施例(第4図)で示したように
、対応する小表面領域を走査するだけで充分である。こ
の領域は、便宜上若干の加工みぞを含んでおり、その外
形がこの方法で検出される。
先行実施例におけるように、この光輝点もまた、はぼ1
0か615LLmの直径であればよい。
0か615LLmの直径であればよい。
6面と、8000rpmで回転している15mmの走査
長さとを有するミラーホイール38により、この光輝点
14の走査運動は、例えば12m/sの速度を達成する
。
長さとを有するミラーホイール38により、この光輝点
14の走査運動は、例えば12m/sの速度を達成する
。
この種の走査速度は、はとんどの場合、材料面10の、
またはチップ形成加工中の関連加工品の、輸送速度より
もやや大きい。従って、周期的に偏向させられる光輝点
14を備えるこのあらさ探針によれば、一般的に関心の
ある加工みぞに対し垂直の方向におけるチップ形成加工
技術により加工されている表面あらさの検出が可能であ
り、更にまた、この表面あらさからの関連特性値の誘導
も可能である。
またはチップ形成加工中の関連加工品の、輸送速度より
もやや大きい。従って、周期的に偏向させられる光輝点
14を備えるこのあらさ探針によれば、一般的に関心の
ある加工みぞに対し垂直の方向におけるチップ形成加工
技術により加工されている表面あらさの検出が可能であ
り、更にまた、この表面あらさからの関連特性値の誘導
も可能である。
第4図と第5図に示されている別形の残余−要素は、同
一部品に関連してはここでも同一参照番号をもつ第2図
と第3図の別形の関蓮要素に対応する。
一部品に関連してはここでも同一参照番号をもつ第2図
と第3図の別形の関蓮要素に対応する。
第6図は、例えば、直接冷間圧延ラインにある車体部品
用の冷間圧延シートメタルの移動材料の平均あらさを連
続的に検査するための測定装置のブロック図を示してい
る。
用の冷間圧延シートメタルの移動材料の平均あらさを連
続的に検査するための測定装置のブロック図を示してい
る。
この装置においては、2つの部分電圧Uaおよびubが
、位置感応受光装置16の関連出力部において分離され
ている。これらの2つの部分電圧は、論理評価回路18
の、または受光装置16の後に連結されている調整兼評
価論理回路の前置増幅器44.46によって各5増幅さ
れる。増幅された出力信号U′aおよびU′bは各5、
アナログ/ディジクル・コンバータ48および50へそ
れぞれ通過させられる。増幅され、数字化された信号U
’ aおよびU′bの差および和の商が、2つのアナロ
グ/ディジタル・コンバータ48および50の後に連結
されている算術論理演算機構52内で形成され−で、材
料面10から反射した散乱光線の重力中心の、または表
面要素の関連傾斜角の、それぞれの角のための物差しが
得られる。最後に、この傾斜角の接点が形成されるので
、この表面要素の傾斜が最終的に誘導される。
、位置感応受光装置16の関連出力部において分離され
ている。これらの2つの部分電圧は、論理評価回路18
の、または受光装置16の後に連結されている調整兼評
価論理回路の前置増幅器44.46によって各5増幅さ
れる。増幅された出力信号U′aおよびU′bは各5、
アナログ/ディジクル・コンバータ48および50へそ
れぞれ通過させられる。増幅され、数字化された信号U
’ aおよびU′bの差および和の商が、2つのアナロ
グ/ディジタル・コンバータ48および50の後に連結
されている算術論理演算機構52内で形成され−で、材
料面10から反射した散乱光線の重力中心の、または表
面要素の関連傾斜角の、それぞれの角のための物差しが
得られる。最後に、この傾斜角の接点が形成されるので
、この表面要素の傾斜が最終的に誘導される。
算術論理演算機構52の出力は、高速測定値メモリーと
共に、マイクロ処理装置機構54へ送られて、関連表面
要素の平均傾斜値が暫定的に貯えられる。
共に、マイクロ処理装置機構54へ送られて、関連表面
要素の平均傾斜値が暫定的に貯えられる。
材料速度センサ62が、出力信号をインターフェイス6
0へ受渡して、物体速度を検出し、かつインターフェイ
ス60は、速度情報をマイクロ処理装置機構−54へ受
渡す。
0へ受渡して、物体速度を検出し、かつインターフェイ
ス60は、速度情報をマイクロ処理装置機構−54へ受
渡す。
次いで、所望の高さ外形が、傾斜値の順番から積”分法
゛または加法、すなわち、専用コンピユー多56により
、測定間隔と関連表示スクリーン58す、の乗法によっ
て再構成される。特に、平均あらさ地Raおよび/また
はR,Zの平均深さのような□あらさパラメータが、そ
の際、物体速度の検出の結果として、測定周波は材料輸
送速度と調和させることができる。
゛または加法、すなわち、専用コンピユー多56により
、測定間隔と関連表示スクリーン58す、の乗法によっ
て再構成される。特に、平均あらさ地Raおよび/また
はR,Zの平均深さのような□あらさパラメータが、そ
の際、物体速度の検出の結果として、測定周波は材料輸
送速度と調和させることができる。
第1図は材料面の表面あらさを光学的に検出するための
光学あらさ探針の略図、第2図は拡大作用距離をもつ光
学あらさ探針の光学32゜ 略図、第3図は第2図のA−A線での断面図、第4図は
材料面の光輝点が、周期的な走査運動をするようになっ
ている光学あらさ探針のもう一つの実施例・の光学略図
、第5図は第4図のAT、A線での断面図・第6図は移
動物体の平均あらさを検査するための受光装置の後に連
結されている評価兼調整論理回路のブロック図である。 図゛において、10・・・材料面、12・・・レーザダ
イオード、14・・・光輝点、16・・・受光装置、1
8・・・電子評価!路、20・・・光電コンバータ、2
2・・・レンズ:、24・・・連結抵抗、32・・・ア
ナモフィック光学コリメータ方式、34.36・・・対
物レンズ。
光学あらさ探針の略図、第2図は拡大作用距離をもつ光
学あらさ探針の光学32゜ 略図、第3図は第2図のA−A線での断面図、第4図は
材料面の光輝点が、周期的な走査運動をするようになっ
ている光学あらさ探針のもう一つの実施例・の光学略図
、第5図は第4図のAT、A線での断面図・第6図は移
動物体の平均あらさを検査するための受光装置の後に連
結されている評価兼調整論理回路のブロック図である。 図゛において、10・・・材料面、12・・・レーザダ
イオード、14・・・光輝点、16・・・受光装置、1
8・・・電子評価!路、20・・・光電コンバータ、2
2・・・レンズ:、24・・・連結抵抗、32・・・ア
ナモフィック光学コリメータ方式、34.36・・・対
物レンズ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)材料面上に微細な光輝点を発生させ、その反射光
線を受光装置へ通すようになっている移動材料面の表面
あらさの光学的検出方法において、 前記材料面の各走査点に対し、前記反射光 線の反射角、すなわち斯くしてそれぞれの表面傾斜値を
測定すること;前記表面あらさが一連の前記走査点に沿
って得られた傾斜値から再構成されること;前記反射角
の測定に対し、各場合における散乱反射光線の主方向を
検出すること;および前記表面あらさまたは一連の前記
走査点に沿った外形区分の再構成が、一連の前記走査点
に沿った傾斜値の積分によって得られること、を特徴を
する材料面の表面あらさの光学的検出方法。 (2)請求項第1項記載の方法において、前記光輝点の
周期的走査運動が、前記材料面の移動方向に対し横断方
向に発生させられることを特徴とする材料面の表面あら
さの光学的検出方法。 (3)請求項第1項と第2項のどれか1項に記載の方法
において、特に平均あらさ値Raおよび/またはあらさ
Rzの平均深さのようなあらさ測定パラメータが、再構
成された表面あらさから周知方法で形成されることを特
徴とする材料面の表面あらさの光学的検出方法。 (4)移動材料面(10)上に光輝点(14)を発生さ
せるためのレーザダイオード(12)、および受光装置
(16)を含む請求項第1項から第3項のどれか1項に
記載の方法を実施するための装置であって、所定の反射
角度の範囲内において、前記材料面(10)から反射す
る光線を検出する受光装置(16)が、散乱反射光線の
主要角度にそれぞれ対応する1対の出力信号(Ua、U
b)を受渡すために、位置感応受光装置として連結され
ていることを特徴とする材料面の表面あらさの光学的検
出装置。 (5)請求項第4項記載の装置において、前記受光装置
(16)が、前記光輝点(14)により限定される平面
内における光輝点、および前記材料面(10)の運動方
向、並びに平面ミラーとして仮定された場合における前
記材料面 (10)における鏡面反射の方向のまわりの円弧として
配置されていることを特徴とする材料面の表面あらさの
光学的検出装置。 (6)請求項第5項記載の装置であって、前記受光装置
(16)が、前記円弧上に、1列に密接配置されている
複数の光電コンバータ(20)によって形成されている
ことを特徴とする材料面の表面あらさの光学的検出装置
。 (7)請求項第4項から第6項のどれか1項に記載の装
置であって、前記円弧上に複数のレンズ(22)が互い
に接近して配置され、前記各レンズは各レンズの後に配
置されているそれぞれの光電コンバータ(20)と関連
し、前記関連コンバータ上に光輝点(14)の影像を形
成するようになっていることを特徴とする材料面の表面
あらさの光学的検出装置。 (8)請求項第4項から第7項のどれか1項に記載の装
置であって、前記光電コンバータ (20)と関連している円弧、および随意に前記レンズ
(22)と関連している前記円弧が、慨ね120°から
160°の開口角を有することを特徴とする材料面の表
面あらさの光学的検出装置。 (9)請求項第4項から第8項のどれか1項に記載の装
置において、前記光電コンバータ (20)の出力信号が連結抵抗(24)へ通過させられ
て、それぞれの反射角または主角に依存する1対の出力
信号(Ua、Ub)が、連結抵抗(24)において切離
され得ることを特徴とする材料面の表面あらさの光学的
検出装 置。 (10)請求項第6項から第9項のどれか1項に記載の
装置において、前記光電コンバータ (20)が、フォトダイオードであることを特徴とする
材料面の表面あらさの光学的検出装置。 (11)請求項第4項から第10項のどれか1項に記載
の装置において、各場合において、光導体の端面が、前
記フォトダイオードの代わりに、前記関連サークル上に
配置されていて、前記フォトダイオードが、前記光導体
の前記出力面における位置感応回路内に配置されている
ことを特徴とする材料面の表面あらさの光学的検出装置
。 (12)請求項第4項から第11項のどれか1項に記載
の装置において、前記出力信号、または主角または反射
角に依存する二つの部分電圧(Ua、Ub)が、電子評
価回路(18)へ通過させられて、主角または反射角お
よび好ましくはそれに比例した角度を直接表示する測定
値を形成することを特徴とする材料面の表面あらさの光
学的検出装置。 (13)請求項4項から第12項のどれか1項に記載の
装置において、前記電子評価回路(18)が、前記主角
または前記反射角から、前記表面傾斜値を形成するため
の手段、並びに前記傾斜値から前記表面あらさを再構成
するための手段を含むことを特徴とする材料面の表面あ
らさの光学的検出装置。 (14)請求項第13項記載の装置において、前記電子
評価回路(18)が、それ自体周知の方法で、特に平均
あらさ値Raおよび/または平均あらさ深さRzのよう
な再構成された表面あらさから、あらさ測定パラメータ
を形成するための手段を含むことを特徴とする材料面の
表面あらさの光学的検出装置。 (15)請求項第4項から第14項のどれか1項に記載
の装置において、前記光源がレーザ、特にレーザダイオ
ード(12)であることを特徴とする材料面の表面あら
さの光学的検出装 置。 (16)請求項第4項から第15項のどれか1項に記載
の装置において、前記光輝点(14)を発生させるため
に、前記光源(12)の放出領域が、アナモフイック光
学コリメータ方式 (32)により、材料面(10)上に無限大で像影され
、次いで更にもう一つのレンズ、すなわち対物レンズ(
34、36)によって像影されることを特徴とする材料
面の表面あらさの光学的検出装置。 (17)請求項第4項から第16項のどれか1項に記載
の装置において、導光ファイバ上に連結されたレーザダ
イオードが使用され、この ファイバの出口面が、前記材料面(10)において、レ
ンズまたは光学ミラー方式により像影されることを特徴
とする材料面の表面あらさの光学的検出装置。 (18)請求項第4項から第17項のどれか1項に記載
の装置において、前記光輝点(14)が、前記光電コン
バータ(20)と関連した前記円弧を含む面内において
、前記材料面(10)上をあちこちと周期的に移動し得
るように なっていることを特徴とする材料面の表面あらさの光学
的検出装置。 (19)請求項第18項記載の装置において、前記光学
コリメータ方式(32)により発生させられた並列ビー
ムが、定角速度で周期的に偏向させられて、テレセント
リックFO、対物レンズ(36)により、前記材料面(
10)上の光輝点(14)に変換させられ、前記光輝点
が、定速かつ定入射角で移動させられることを特徴とす
る材料面の表面あらさの光学的検出装 置。 (20)請求項第4項から第19項のどれか1項に記載
の装置において、周期的にあちこちに移動させられる前
記光輝点(14)の前記偏向速度が、前記光輝点(14
)に対し垂直に移動させられる前記材料面(10)の速
度よりも大であることを特徴とする材料面の表面あらさ
の光学的検出装置。
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|---|---|
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|---|---|---|---|
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112304259A (zh) * | 2020-11-25 | 2021-02-02 | 泰州市华发新型建材厂 | 一种铝型材平面度检测设备 |
Families Citing this family (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5243406A (en) * | 1990-07-04 | 1993-09-07 | Fujitsu Limited | Method and apparatus for measuring three-dimensional configuration of wire-shaped object in a short time |
| DE4114671A1 (de) * | 1991-05-06 | 1992-11-12 | Hoechst Ag | Verfahren und messanordnung zur beruehrungslosen on-line messung |
| DE4137673C2 (de) * | 1991-11-15 | 2001-08-02 | Bruker Axs Analytical X Ray Sy | Röntgenreflektometer |
| DE4313094A1 (de) * | 1993-04-22 | 1994-10-27 | Gernot K Brueck | Lasermikroskopie |
| DE4324800C2 (de) * | 1993-07-23 | 1997-05-22 | Olaf Dr Ing Schnabel | Vorrichtung zur Bestimmung von Fehlern von Oberflächen hoher Güte |
| NL9401796A (nl) * | 1994-10-28 | 1996-06-03 | Tno | Documentherkenningsinrichting. |
| US5504303A (en) * | 1994-12-12 | 1996-04-02 | Saint-Gobain/Norton Industrial Ceramics Corp. | Laser finishing and measurement of diamond surface roughness |
| US5608527A (en) * | 1995-03-08 | 1997-03-04 | Optical Dimensions, Llc | Apparatus and method for dynamic measurement of surface roughness |
| GB2310557B (en) * | 1996-02-21 | 2000-05-10 | Rank Taylor Hobson Ltd | Image processing apparatus |
| DE19616245C2 (de) * | 1996-04-15 | 1998-06-18 | Zam Zentrum Fuer Angewandte Mi | Verfahren und Anordnung zum zerstörungsfreien, berührungslosen Prüfen und/oder Bewerten von Festkörpern, Flüssigkeiten, Gasen und Biomaterialien |
| IT1302609B1 (it) | 1998-10-06 | 2000-09-29 | Techint Spa | Procedimento e relativa apparecchiatura per la misurazione delledeviazioni di forma di superfici lavorate. |
| US6247238B1 (en) | 1999-04-15 | 2001-06-19 | Greg Harvey | Laser marking device |
| DE10151332B4 (de) * | 2001-10-22 | 2007-12-06 | Jenoptik Surface Inspection Gmbh | Vorrichtung zur optischen Messung von Oberflächeneigenschaften |
| FR2898410B1 (fr) * | 2006-03-07 | 2008-05-09 | Airbus France Sas | Procede de caracterisation de la tenue en fatigue d'une piece a partir de son profil de surface |
| US8582117B2 (en) | 2011-04-08 | 2013-11-12 | Schmitt Industries, Inc. | Systems and methods for calibrating an optical non-contact surface roughness measurement device |
| KR101629850B1 (ko) | 2015-02-04 | 2016-06-13 | 숭실대학교산학협력단 | 표면 거칠기 측정 센서 장치 및 이를 포함하는 가공 툴 구조체 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5065254A (ja) * | 1973-10-09 | 1975-06-02 | ||
| JPS5559306A (en) * | 1978-10-24 | 1980-05-02 | Fiat Ricerche | Method of and apparatus for inspecting surface roughness of work |
| JPS61185716A (ja) * | 1985-02-13 | 1986-08-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光ビ−ム走査装置 |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB894570A (en) * | 1959-07-15 | 1962-04-26 | British Iron Steel Research | Improvements in or relating to the detection of surface abnormalities |
| US3667846A (en) * | 1969-07-28 | 1972-06-06 | Charles Nater | Optical surface inspection apparatus |
| GB1388189A (en) * | 1972-06-29 | 1975-03-26 | Gallaher Ltd | Optical inspection apparatus |
| CH552197A (de) * | 1972-11-24 | 1974-07-31 | Bbc Brown Boveri & Cie | Einrichtung zum messen der rauhigkeit einer oberflaeche. |
| EP0001178B1 (en) * | 1977-09-09 | 1981-03-18 | The Rank Organisation Limited | An optical sensing instrument |
| DD145956A1 (de) * | 1979-09-12 | 1981-01-14 | Elvira Hundt | Verfahren und vorrichtung zur best mmung der rauhigkeit einer oberflaeche |
| US4583861A (en) * | 1981-08-12 | 1986-04-22 | Tokyo Shibaura Denki Kabushiki Kaisha | Surface condition judging apparatus |
| DE3428435A1 (de) * | 1984-08-01 | 1986-02-06 | Erwin Sick Gmbh Optik-Elektronik, 7808 Waldkirch | Rauheitssonde |
| US4732485A (en) * | 1985-04-17 | 1988-03-22 | Olympus Optical Co., Ltd. | Optical surface profile measuring device |
-
1988
- 1988-02-24 DE DE3805785A patent/DE3805785A1/de not_active Withdrawn
-
1989
- 1989-02-01 EP EP89101742A patent/EP0329986B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1989-02-01 DE DE8989101742T patent/DE58900139D1/de not_active Expired - Lifetime
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- 1989-02-08 AU AU29765/89A patent/AU2976589A/en not_active Abandoned
- 1989-02-15 US US07/311,599 patent/US4973164A/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-02-22 ZA ZA891352A patent/ZA891352B/xx unknown
- 1989-02-22 DD DD89325952A patent/DD283682A5/de not_active IP Right Cessation
- 1989-02-23 NO NO89890777A patent/NO890777L/no unknown
- 1989-02-23 JP JP1041997A patent/JPH01253607A/ja active Pending
- 1989-02-24 KR KR1019890002219A patent/KR0125442B1/ko not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5065254A (ja) * | 1973-10-09 | 1975-06-02 | ||
| JPS5559306A (en) * | 1978-10-24 | 1980-05-02 | Fiat Ricerche | Method of and apparatus for inspecting surface roughness of work |
| JPS61185716A (ja) * | 1985-02-13 | 1986-08-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光ビ−ム走査装置 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112304259A (zh) * | 2020-11-25 | 2021-02-02 | 泰州市华发新型建材厂 | 一种铝型材平面度检测设备 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4973164A (en) | 1990-11-27 |
| EP0329986B1 (de) | 1991-06-12 |
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