JPH01254677A - 2―オキソ―1,3―ジオキソラン誘導体 - Google Patents
2―オキソ―1,3―ジオキソラン誘導体Info
- Publication number
- JPH01254677A JPH01254677A JP7825688A JP7825688A JPH01254677A JP H01254677 A JPH01254677 A JP H01254677A JP 7825688 A JP7825688 A JP 7825688A JP 7825688 A JP7825688 A JP 7825688A JP H01254677 A JPH01254677 A JP H01254677A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- formula
- groups
- aryl
- oxo
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、香料、医薬或いは農薬の合成中間体として有
用な従来の文献には記載されていない新規化合物及びそ
れらの製法に関する。
用な従来の文献には記載されていない新規化合物及びそ
れらの製法に関する。
更に詳しくは、本発明は、医薬、農薬もしくは香料物質
として有用な例えば、下記式(a)式中、Rbは低級ア
ルキル基及びアリール基よりなる群から選ばれた基を示
す、 で表されるフラノン類の合成の際の中間体とじて有用な
新規な下記式(1) 式中、R1は低級アルキル基及びアリール基よりなる群
から選ばれた基を示し、波線はシス又はトランス結合を
示す、 で表される2−オキソ−1,3−ジオキソラン誘導体に
関する。
として有用な例えば、下記式(a)式中、Rbは低級ア
ルキル基及びアリール基よりなる群から選ばれた基を示
す、 で表されるフラノン類の合成の際の中間体とじて有用な
新規な下記式(1) 式中、R1は低級アルキル基及びアリール基よりなる群
から選ばれた基を示し、波線はシス又はトランス結合を
示す、 で表される2−オキソ−1,3−ジオキソラン誘導体に
関する。
更に本発明は、上記式(1)の化合物を包含して下記式
(1) =1 式中、R2はアルキル基、アルケニル基、゛アリール基
及び複素環式基よりなる群から選ばれた基を示し、R3
及びR4は、夫々、水素原子、アルキル基、アルケニル
基、アルキニル基、アリール1人、アラルキル基、シク
ロアルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基
、アルキルチオ基、アルコキシアルキル晶、複素環式基
及びオルガノシリル!(よりなる群から選ばれた基を示
し、波線はシス又はトランス結合を示す、 で表される2−オキソ−]、]3−ジオキソラン誘導の
製法にも関する。
(1) =1 式中、R2はアルキル基、アルケニル基、゛アリール基
及び複素環式基よりなる群から選ばれた基を示し、R3
及びR4は、夫々、水素原子、アルキル基、アルケニル
基、アルキニル基、アリール1人、アラルキル基、シク
ロアルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基
、アルキルチオ基、アルコキシアルキル晶、複素環式基
及びオルガノシリル!(よりなる群から選ばれた基を示
し、波線はシス又はトランス結合を示す、 で表される2−オキソ−]、]3−ジオキソラン誘導の
製法にも関する。
(従来の技術)
従来、上記式(a)化合物に包含される香料物質として
有用な例えば、2,2−ジメチル−5−フェニル−2(
H)−3−フラノン[上記式(a)において、Rbがフ
ェニル基である場合の化合物)の合成法に関して、下記
反応式で示した方法が知られている(Chemistr
y Lefters、1973.425〜426参j
jjj )。
有用な例えば、2,2−ジメチル−5−フェニル−2(
H)−3−フラノン[上記式(a)において、Rbがフ
ェニル基である場合の化合物)の合成法に関して、下記
反応式で示した方法が知られている(Chemistr
y Lefters、1973.425〜426参j
jjj )。
り
しかしながら、かかる従来提案された方法に於いては、
反応工程数が長く、また、反応操作が煩雑であり、更に
加えて収率が低いという難点がある。
反応工程数が長く、また、反応操作が煩雑であり、更に
加えて収率が低いという難点がある。
(発明が解決しようとする問題点)
本発明の目的は、香料、医薬或いは農薬などを合成する
に際し、上記従来提案のごとき難点を回避し、安価1つ
人手容易な原わ[を用いて簡単な操作で合成することの
できる例えば、上記式(a)の化合物のごときフラノン
類の合成に有用な中間体及びそれらの製造方法を提供す
ることにある。
に際し、上記従来提案のごとき難点を回避し、安価1つ
人手容易な原わ[を用いて簡単な操作で合成することの
できる例えば、上記式(a)の化合物のごときフラノン
類の合成に有用な中間体及びそれらの製造方法を提供す
ることにある。
(問題点を解決するための手段)
本発明者らは、上記式(a)の化合物を簡単に製造する
方法について鋭意研究を行ってきた。その結果、下記式
(3)の末端アセチレンアルコールもしくは下記式(4
)のアセチレンアルコールから容易に合成することので
きる本発明の新規な上記式(1)の化合物を使用すれば
、上記式(a)の化合物が好純度且つ好収率でしかも工
業的に簡単な操作で有利に合成できることを見出し本発
明を完成した。更に研究を進めた結果、本発明の上記式
(1)の化合物を包含して下記式(1)−1の化合物も
容易に合成できることを見出し本発明を完成した。
方法について鋭意研究を行ってきた。その結果、下記式
(3)の末端アセチレンアルコールもしくは下記式(4
)のアセチレンアルコールから容易に合成することので
きる本発明の新規な上記式(1)の化合物を使用すれば
、上記式(a)の化合物が好純度且つ好収率でしかも工
業的に簡単な操作で有利に合成できることを見出し本発
明を完成した。更に研究を進めた結果、本発明の上記式
(1)の化合物を包含して下記式(1)−1の化合物も
容易に合成できることを見出し本発明を完成した。
本発明の上記式(1)の化合物を包含して式(1)−1
を合成するには、(A)末端アセチレンアルコールを原
料とする場合は、下記式(2)%式%(2) 式中、R2はアルキル基、アルケニル基、アリール基及
び複素環式基よりなる群から選ばれた基を示し、Xはハ
ロゲン原子を示す、で表される酸ハロゲン化物と下記式
(3)式中、R3及びR4は夫々、水素原子、アルキル
基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アラル
キル基、シクロアルキル糸、アルコキシ基、アルコキシ
カルボニル基、アルキルチオ基、アルコキシアルキル基
み、複素環式基及びオルガノシリルJ7%よりなる群か
らなる群から選ばれた県を示す、 で表される末端アセチレンアルコールと炭酸ガスとを、
周期率表箱■族金属触媒及び第一銅イオンの存在下に反
応させることにより行われる。
を合成するには、(A)末端アセチレンアルコールを原
料とする場合は、下記式(2)%式%(2) 式中、R2はアルキル基、アルケニル基、アリール基及
び複素環式基よりなる群から選ばれた基を示し、Xはハ
ロゲン原子を示す、で表される酸ハロゲン化物と下記式
(3)式中、R3及びR4は夫々、水素原子、アルキル
基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アラル
キル基、シクロアルキル糸、アルコキシ基、アルコキシ
カルボニル基、アルキルチオ基、アルコキシアルキル基
み、複素環式基及びオルガノシリルJ7%よりなる群か
らなる群から選ばれた県を示す、 で表される末端アセチレンアルコールと炭酸ガスとを、
周期率表箱■族金属触媒及び第一銅イオンの存在下に反
応させることにより行われる。
又、(B)アセチレンアルコールを原料とする場合は下
記式(4) 式中、R2はアルキル基、アルケニル基、アリール基及
び複素環式基よりなる群から選ばれた基を示し、R3及
びR4は、夫々、水素原子、アルキル基、アルケニル系
、アルキニル基、アリール基、アラルキルノル、シクロ
アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、
アルキルチオ基、アルコキシアルキル基、複素環式基及
びオルガノシリル基よりなる群から選ばれた基を示す、 で表されるアセチレンアルコールを有機溶媒中、炭酸ガ
スと反応させることにより行われる。
記式(4) 式中、R2はアルキル基、アルケニル基、アリール基及
び複素環式基よりなる群から選ばれた基を示し、R3及
びR4は、夫々、水素原子、アルキル基、アルケニル系
、アルキニル基、アリール基、アラルキルノル、シクロ
アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、
アルキルチオ基、アルコキシアルキル基、複素環式基及
びオルガノシリル基よりなる群から選ばれた基を示す、 で表されるアセチレンアルコールを有機溶媒中、炭酸ガ
スと反応させることにより行われる。
本発明の式(1)の化合物を包含して式(1)−1の化
合物の製造方法を反応式で示すと、例えば下記のとおり
である。
合物の製造方法を反応式で示すと、例えば下記のとおり
である。
(A)末端アセチレンアルコールを特徴とする特許
(B)アセチレンアルコールを原料とする場合本発明の
上記式(1)の化合物を包含して上記式(1)−1の化
合物の製造方法を、上記反応式に従って以下に詳細に説
明する。
上記式(1)の化合物を包含して上記式(1)−1の化
合物の製造方法を、上記反応式に従って以下に詳細に説
明する。
(A)法
原料として用いられる前記式(3)のアセチレンアルコ
ールは、例えば、5ynthesis。
ールは、例えば、5ynthesis。
777 (1977)に記載される方法によって、容易
に合成することができる。
に合成することができる。
本発明の反応は、−船釣にはオートクレーブ中で末端ア
セチレンアルコール化合物[式(3)]、酸ハロゲン化
物式[(2)]及び炭酸ガスとを第一銅イオン及び周期
率表第■族遷移触媒の存在下に接触させることにより行
われる。その際、反応の進行と共に生成するハロゲン化
水素を捕捉するために、塩基の共存下に行うのが好適で
ある。
セチレンアルコール化合物[式(3)]、酸ハロゲン化
物式[(2)]及び炭酸ガスとを第一銅イオン及び周期
率表第■族遷移触媒の存在下に接触させることにより行
われる。その際、反応の進行と共に生成するハロゲン化
水素を捕捉するために、塩基の共存下に行うのが好適で
ある。
本反応は、無溶媒でも或いは溶媒中でも進行するので、
溶媒を用いるか否かは用いる出発原料の性状や反応条件
を考慮して適宜選択すれば良い。
溶媒を用いるか否かは用いる出発原料の性状や反応条件
を考慮して適宜選択すれば良い。
本発明で用いる上記式(2)の酸ハロゲン化物R2C0
XにおいてR2の例としては、例えば、メチル、エチル
、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチ
ル、5ec−ブチル、tert−ブチル、ペンチルなど
のごときアルキル基、殊に低級アルキル基;例えば、フ
ェニル、ナフチル、シンナミル、ベンジル、フェニルエ
チル、メトキシフェニル、ヒドロキシフェニルのごとき
ベンゼン環に他の置換基をもつアリール基;ビニル、プ
ロペニル、アリル、ブテニル、ペンテニル、ブタジェニ
ルなどのごときアルケニル基、チエニル、フリル、ピリ
ジルなどのどとき複素環式基、特にヘテロ原子として、
S、O,Nを1〜2個含有する5〜6員の複素環式基な
どが包含され、又これらのR2基には反応に不活性な置
換基が結合していてもよく、この場合の反応に不活性な
置換基としては、例えば、ジアルキルアミノ基、カルバ
モイル基、アシル基、アルコキシ基、アルコキシカルボ
ニル基、ハロゲン原子、スルホニル基、スルフィニル基
、スルフェニル基、シアノ基、アシロキシ基、シリル基
、ニトロ基、ホルミル基などを挙げることができる。又
、Xとしては、臭素、ヨウ素、塩素などのごときハロゲ
ンを例示することができる。又、上記式(1)の化合物
におけるR1の低級アルキル及びアリール基についても
上述のR2のアルキル基及びアリール基と同様の基をあ
げることができる。
XにおいてR2の例としては、例えば、メチル、エチル
、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチ
ル、5ec−ブチル、tert−ブチル、ペンチルなど
のごときアルキル基、殊に低級アルキル基;例えば、フ
ェニル、ナフチル、シンナミル、ベンジル、フェニルエ
チル、メトキシフェニル、ヒドロキシフェニルのごとき
ベンゼン環に他の置換基をもつアリール基;ビニル、プ
ロペニル、アリル、ブテニル、ペンテニル、ブタジェニ
ルなどのごときアルケニル基、チエニル、フリル、ピリ
ジルなどのどとき複素環式基、特にヘテロ原子として、
S、O,Nを1〜2個含有する5〜6員の複素環式基な
どが包含され、又これらのR2基には反応に不活性な置
換基が結合していてもよく、この場合の反応に不活性な
置換基としては、例えば、ジアルキルアミノ基、カルバ
モイル基、アシル基、アルコキシ基、アルコキシカルボ
ニル基、ハロゲン原子、スルホニル基、スルフィニル基
、スルフェニル基、シアノ基、アシロキシ基、シリル基
、ニトロ基、ホルミル基などを挙げることができる。又
、Xとしては、臭素、ヨウ素、塩素などのごときハロゲ
ンを例示することができる。又、上記式(1)の化合物
におけるR1の低級アルキル及びアリール基についても
上述のR2のアルキル基及びアリール基と同様の基をあ
げることができる。
しかして、前記式(2)の酸ハロゲン化物の具体例とし
ては、例えば、酢酸クロリド、イソ酪酸クロリド、ピバ
リン酸プロミド等のごときアルキル酸ハロゲン化物;安
息香酸クロリド、桂皮酸クロリド、p−メトキシ安息香
酸クロリド、p−アミノ安息香酸クロリドなどのごとき
芳香族酸ハロゲン化物及びその芳香核に上記の如き反応
に不活性な置換基を有する置換体;アクリル酸クロリド
、クロトン酸プロミド、セネシオン酸クロリド、チグリ
ン酸クロリドなどのごとき不飽和アルケニル酸ハロゲン
化物などを好ましく挙げることができる。
ては、例えば、酢酸クロリド、イソ酪酸クロリド、ピバ
リン酸プロミド等のごときアルキル酸ハロゲン化物;安
息香酸クロリド、桂皮酸クロリド、p−メトキシ安息香
酸クロリド、p−アミノ安息香酸クロリドなどのごとき
芳香族酸ハロゲン化物及びその芳香核に上記の如き反応
に不活性な置換基を有する置換体;アクリル酸クロリド
、クロトン酸プロミド、セネシオン酸クロリド、チグリ
ン酸クロリドなどのごとき不飽和アルケニル酸ハロゲン
化物などを好ましく挙げることができる。
本発明で用いる前記式(3)の末端アセチレンアルコー
ル化合物において、R3及びR4の具体例としては、例
えば、水素原子;メチル、エチル、n−プロピル、イソ
プロピル、n−ブチル、5ec−ブチル、tert−ブ
チルなどのごときアルキル基;フェニル、ナフチルなど
のアリール基;ビニル、フリル、プロペニル、ブテニル
、ブタジェニルなどのアルケニル基;ベンジル、β−フ
ェニルエチルなどのアラルキル基;シクロヘキシル、シ
クロオクチルなどのシクロアルキル基;エチニル、フェ
ニルエチニルなどのアルキニル基;及びチエニル、フリ
ル、ピリジルなどの複素環式基:メトキシカルボニル、
エトキシカルボニルなどのアルコキシカルボニル基;メ
トキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシなどのアルコ
キシ基;メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオなどの
アルキルチオ基;メトキシエチル、工l・ギシメチル、
メトキシプロピルなどのアルコキシアルキル基;オルガ
ノシリル基などの基をあげることができる。上記のR3
及びR4は同一の基であっても良いし、或いは相異なっ
ても良い。
ル化合物において、R3及びR4の具体例としては、例
えば、水素原子;メチル、エチル、n−プロピル、イソ
プロピル、n−ブチル、5ec−ブチル、tert−ブ
チルなどのごときアルキル基;フェニル、ナフチルなど
のアリール基;ビニル、フリル、プロペニル、ブテニル
、ブタジェニルなどのアルケニル基;ベンジル、β−フ
ェニルエチルなどのアラルキル基;シクロヘキシル、シ
クロオクチルなどのシクロアルキル基;エチニル、フェ
ニルエチニルなどのアルキニル基;及びチエニル、フリ
ル、ピリジルなどの複素環式基:メトキシカルボニル、
エトキシカルボニルなどのアルコキシカルボニル基;メ
トキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシなどのアルコ
キシ基;メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオなどの
アルキルチオ基;メトキシエチル、工l・ギシメチル、
メトキシプロピルなどのアルコキシアルキル基;オルガ
ノシリル基などの基をあげることができる。上記のR3
及びR4は同一の基であっても良いし、或いは相異なっ
ても良い。
しかして、本発明で用いる式(3)の末端アセチレンア
ルコール化合物の具体例としては、プロパギルアルコー
ル、3−ブチン−2−オール、6−ヘブチンー2−オー
ル、2−メチル−3−ブチン−2−オール、1−ペンテ
ン−4−イン−3−オール、1−ヘキセン−5−イン−
4−オール、3−ビニル−1−ペンテン−4−イン−3
−オール、l−フェニル−2−プロピン−1−オール、
1−ベンジル−2−プロピン−1−オール、1−p−)
ジル−2−プロピン−1−オール、1−シクロへキシル
−2−プロピン−1−オール、1゜1−ジフェニル−2
−プロピン−1−オール、1−ピロリル−2−プロピン
−1−オール、1−フリル−2−プロピン−1−オール
、1−チエニル−2−プロピン−1−オールなどを挙げ
ることができる。
ルコール化合物の具体例としては、プロパギルアルコー
ル、3−ブチン−2−オール、6−ヘブチンー2−オー
ル、2−メチル−3−ブチン−2−オール、1−ペンテ
ン−4−イン−3−オール、1−ヘキセン−5−イン−
4−オール、3−ビニル−1−ペンテン−4−イン−3
−オール、l−フェニル−2−プロピン−1−オール、
1−ベンジル−2−プロピン−1−オール、1−p−)
ジル−2−プロピン−1−オール、1−シクロへキシル
−2−プロピン−1−オール、1゜1−ジフェニル−2
−プロピン−1−オール、1−ピロリル−2−プロピン
−1−オール、1−フリル−2−プロピン−1−オール
、1−チエニル−2−プロピン−1−オールなどを挙げ
ることができる。
本発明で用いる第一銅イオンとしては、例えば塩化第一
銅、ヨウ化第−銅、シアン化第−銅、臭化第一銅などを
好ましく例示することができる。
銅、ヨウ化第−銅、シアン化第−銅、臭化第一銅などを
好ましく例示することができる。
又、本発明で用いる遷移金属錯体触媒としては、周期律
表第■族金属を含有する化合物であれば、いずれの金属
を含有するものでも使用可能であるが、特にパラジウム
系、ニッケル系、コバルト系、鉄系、ルテニウム系、ロ
ジウム系及び白金系触媒が好ましい、パラジウム系触媒
としては、例えば、テトラキストリフェニルホスフィン
パラジウム、トリストリフェニルホスフィンパラジウム
、テトラキストリフェニルアルシンパラジウム、ジベン
ジリデンアセトンパラジウム、カルボニルトリストリフ
ェニルホスフィンパラジウム、無水マレイン酸ビストリ
フェニルホスフィンパラジウムなどの零価パラジウム錯
体;ジクロロビストリフェニルホスフィンパラジウム、
ジクロルビスベンゾニトリルパラジウム、ジブロモビス
トリフェニルアルシンパラジウム、ジクロル−1,1−
ビスジフェニルホスフイノフエロセンバラジウム、ジク
ロル−1,1−ビスジフェニルアルジノフェロセンパラ
ジウム、ジクロル−α、ω−ビスジフェニルホスフィノ
アルカンパラジウム(アルカンは炭素数1−10の直鎖
、分枝鎖のもの)、ジクロル−α、α−ジフェニルホス
フィノー〇−キシレンパラジウム、塩化パラジウム、酢
酸パラジウム、ビスアセタトビストリフェニルホスフィ
ンパラジウムなどの二価パラジウム塩又は錯体;ヨード
バラトリルビストリフェニルアルシンパラジウム、ヨー
ドフェニルビストリフェニルホスフィンパラジウム、ク
ロロベンゾイルビストリフェニルホスフィンパラジウム
、ヨードメチルビストリブチルホスフィンパラジウム、
ジメチル−1,2−ビスジフェニルホスフィノエタンパ
ラジウム、ジヒドリドビストリシクロへキシルホスフィ
ンパラジウムなどの有機又は水素化パラジウム錯体など
を挙げることができるが、さらに、反応系中で有機ハロ
ゲン化物と反応して有機パラジウムハロゲン化物を生ず
るパラジウム化合物も、パラジウム系触媒の前駆体とし
て反応系に添加することができる。また、これらの触媒
にホスフィン類、ホスファイト類、ホスフィナイト類、
第3級アミン類、ピリジン塩基類、ビピリジンなどの配
位子を添加し、反応に用いても良い。
表第■族金属を含有する化合物であれば、いずれの金属
を含有するものでも使用可能であるが、特にパラジウム
系、ニッケル系、コバルト系、鉄系、ルテニウム系、ロ
ジウム系及び白金系触媒が好ましい、パラジウム系触媒
としては、例えば、テトラキストリフェニルホスフィン
パラジウム、トリストリフェニルホスフィンパラジウム
、テトラキストリフェニルアルシンパラジウム、ジベン
ジリデンアセトンパラジウム、カルボニルトリストリフ
ェニルホスフィンパラジウム、無水マレイン酸ビストリ
フェニルホスフィンパラジウムなどの零価パラジウム錯
体;ジクロロビストリフェニルホスフィンパラジウム、
ジクロルビスベンゾニトリルパラジウム、ジブロモビス
トリフェニルアルシンパラジウム、ジクロル−1,1−
ビスジフェニルホスフイノフエロセンバラジウム、ジク
ロル−1,1−ビスジフェニルアルジノフェロセンパラ
ジウム、ジクロル−α、ω−ビスジフェニルホスフィノ
アルカンパラジウム(アルカンは炭素数1−10の直鎖
、分枝鎖のもの)、ジクロル−α、α−ジフェニルホス
フィノー〇−キシレンパラジウム、塩化パラジウム、酢
酸パラジウム、ビスアセタトビストリフェニルホスフィ
ンパラジウムなどの二価パラジウム塩又は錯体;ヨード
バラトリルビストリフェニルアルシンパラジウム、ヨー
ドフェニルビストリフェニルホスフィンパラジウム、ク
ロロベンゾイルビストリフェニルホスフィンパラジウム
、ヨードメチルビストリブチルホスフィンパラジウム、
ジメチル−1,2−ビスジフェニルホスフィノエタンパ
ラジウム、ジヒドリドビストリシクロへキシルホスフィ
ンパラジウムなどの有機又は水素化パラジウム錯体など
を挙げることができるが、さらに、反応系中で有機ハロ
ゲン化物と反応して有機パラジウムハロゲン化物を生ず
るパラジウム化合物も、パラジウム系触媒の前駆体とし
て反応系に添加することができる。また、これらの触媒
にホスフィン類、ホスファイト類、ホスフィナイト類、
第3級アミン類、ピリジン塩基類、ビピリジンなどの配
位子を添加し、反応に用いても良い。
ニッケル系、コバルト系、鉄系、ルテニウム系、ロジウ
ム系及び白金系触媒についても、」二連のパラジウム系
触媒と同様に、ニッケル、コバルト、鉄、ルテニウム、
ロジウム及び白金の各種の零価錯体;二価又は三価塩又
は錯体;及び有機又は水素化錯体などを例示することが
できる。
ム系及び白金系触媒についても、」二連のパラジウム系
触媒と同様に、ニッケル、コバルト、鉄、ルテニウム、
ロジウム及び白金の各種の零価錯体;二価又は三価塩又
は錯体;及び有機又は水素化錯体などを例示することが
できる。
この反応で生成するハロゲン化水素の捕捉剤としでは種
々の塩基が使用でき、有機塩基及び無機塩基のいずれで
も使用可能である。有機塩基としては、例えば、下記式
(4) 式中、R5、R6及びR7は同一もしくは相異なり、各
々、水素原子;或いはメチル、エチル、プロピル、ブチ
ルなどのアルキル基;シクロヘキシル基;フェニル、ト
リルなとのアリール基:ベンジル基のようなアラルキル
基;又はこれらの有機基に置換基を導入したものなどを
表すことができ、或いはR5、R6及びR7はこれらが
結合しているNと一緒になって、さらにN、O%Sなど
のへテロ原子を含む複素環を形成していてもよく、さら
に、R5、R6及びR7の中の少なくとも1つが連結鎖
となってこれらモノアミンの少なくとも2つが結合した
ジアミン、トリアミンなのポリアミンを構成していても
よい、 で表されるアミン類が包含され、また、無機塩基として
は、例えば、カセイソーダ、カセイカリ、水酸化カルシ
ウムなどの苛性アルカリ;炭酸カルシウム、炭酸ナトリ
ウム、炭酸水素ナトリウムなどの金属炭酸塩;酸化カル
シウム、酸化バリウムなどの塩基性金属酸化物などが挙
げられる0本発明において用いるのに特に好ましいのは
、トリアルキルアミン類である。
々の塩基が使用でき、有機塩基及び無機塩基のいずれで
も使用可能である。有機塩基としては、例えば、下記式
(4) 式中、R5、R6及びR7は同一もしくは相異なり、各
々、水素原子;或いはメチル、エチル、プロピル、ブチ
ルなどのアルキル基;シクロヘキシル基;フェニル、ト
リルなとのアリール基:ベンジル基のようなアラルキル
基;又はこれらの有機基に置換基を導入したものなどを
表すことができ、或いはR5、R6及びR7はこれらが
結合しているNと一緒になって、さらにN、O%Sなど
のへテロ原子を含む複素環を形成していてもよく、さら
に、R5、R6及びR7の中の少なくとも1つが連結鎖
となってこれらモノアミンの少なくとも2つが結合した
ジアミン、トリアミンなのポリアミンを構成していても
よい、 で表されるアミン類が包含され、また、無機塩基として
は、例えば、カセイソーダ、カセイカリ、水酸化カルシ
ウムなどの苛性アルカリ;炭酸カルシウム、炭酸ナトリ
ウム、炭酸水素ナトリウムなどの金属炭酸塩;酸化カル
シウム、酸化バリウムなどの塩基性金属酸化物などが挙
げられる0本発明において用いるのに特に好ましいのは
、トリアルキルアミン類である。
本発明において、溶媒の存在下に行う場合の溶媒として
は、例えば、ヘキサン、ベンゼン、エーテル、テトラヒ
ドロフラン、ヘキサメチルホスホトリアミド、ジメチル
ホルムアミド、アセトニトリル、アセトンなどが好適に
用いられるが、アルコール類、カルボン酸類などの活性
なプロトン源となるものを除く通常用いられている溶媒
であれば任意に用いることができる。?iI媒として水
を用いることもできるが、その場合に水と非混和性の有
n ’+’il媒との2相系で用いるのが呈ましい。こ
のような2相系の溶媒においては、前記の塩基として無
機塩基が好適に用いられ、そして第四級アンモニウム塩
や第四級ホスホニウム塩のような相間移動剤の共存下に
反応させるのが好ましい。反応条件下で液体であるアミ
ン類を塩基成分として用いる場合は、これを大過剰に用
いて溶媒としての働きを同時にもたせるのも本発明の方
法の有利な態様の1つである。
は、例えば、ヘキサン、ベンゼン、エーテル、テトラヒ
ドロフラン、ヘキサメチルホスホトリアミド、ジメチル
ホルムアミド、アセトニトリル、アセトンなどが好適に
用いられるが、アルコール類、カルボン酸類などの活性
なプロトン源となるものを除く通常用いられている溶媒
であれば任意に用いることができる。?iI媒として水
を用いることもできるが、その場合に水と非混和性の有
n ’+’il媒との2相系で用いるのが呈ましい。こ
のような2相系の溶媒においては、前記の塩基として無
機塩基が好適に用いられ、そして第四級アンモニウム塩
や第四級ホスホニウム塩のような相間移動剤の共存下に
反応させるのが好ましい。反応条件下で液体であるアミ
ン類を塩基成分として用いる場合は、これを大過剰に用
いて溶媒としての働きを同時にもたせるのも本発明の方
法の有利な態様の1つである。
本発明の反応は、通常のカルボニル化反応と同様の条件
下で実施することができる。炭酸ガスの分圧は使用する
触媒の種類に依存し、また−船釣にはその分圧の高いほ
ど目的物の収率を高めるので有利であるが、その分圧が
余りにも高くなると逆に反応速度を低下させ、且つ装置
的不利益を生じる。従って、本発明で用いうる炭酸ガス
の分圧は、−船釣には、常圧〜70気圧、好ましくは1
0〜50気圧の範囲内である。使用する炭酸ガスは、純
粋なものであってもよいが、窒素、メタン、アルゴンな
どの不活性ガスで稀釈されたものであってもよい。前記
式(2)の酸ハロゲン化物と式(3)の末端アセチレン
アルコールとのモル比は厳密に制限されるものではなく
、いずれか一方を過剰に用いても反応の生起を妨げるも
のではなく、通常は50:1〜1:50の範囲内で適宜
えろばれる。また、必要に応じて用いられる塩基の量は
、酸ハロゲン化物に対して等モル以上であればよく、−
船釣には、酸ハロゲン化物1モル当たり約1〜50モル
程度の範囲内で使用される。勿論、これより多量の塩ノ
みを用いることもできるが、反応上は格別有益な結果を
もたらすものではない。遷移金属触媒の使用量は特に制
約されず、その種類や反応条件等に応じて広範囲で変え
ることができるが、−船釣には、酸ハロゲン化物1モル
ニ対して、約1/100モル程度以下、好ましくは約1
/200〜約1/1000モルの範囲内である。又、前
記鋼(1)触媒の使用量についても適宜に選択されるが
、例えば、酸ハロゲン化物1モルに対して約l/10〜
1/1000モル程度の範囲が好ましく使用される。
下で実施することができる。炭酸ガスの分圧は使用する
触媒の種類に依存し、また−船釣にはその分圧の高いほ
ど目的物の収率を高めるので有利であるが、その分圧が
余りにも高くなると逆に反応速度を低下させ、且つ装置
的不利益を生じる。従って、本発明で用いうる炭酸ガス
の分圧は、−船釣には、常圧〜70気圧、好ましくは1
0〜50気圧の範囲内である。使用する炭酸ガスは、純
粋なものであってもよいが、窒素、メタン、アルゴンな
どの不活性ガスで稀釈されたものであってもよい。前記
式(2)の酸ハロゲン化物と式(3)の末端アセチレン
アルコールとのモル比は厳密に制限されるものではなく
、いずれか一方を過剰に用いても反応の生起を妨げるも
のではなく、通常は50:1〜1:50の範囲内で適宜
えろばれる。また、必要に応じて用いられる塩基の量は
、酸ハロゲン化物に対して等モル以上であればよく、−
船釣には、酸ハロゲン化物1モル当たり約1〜50モル
程度の範囲内で使用される。勿論、これより多量の塩ノ
みを用いることもできるが、反応上は格別有益な結果を
もたらすものではない。遷移金属触媒の使用量は特に制
約されず、その種類や反応条件等に応じて広範囲で変え
ることができるが、−船釣には、酸ハロゲン化物1モル
ニ対して、約1/100モル程度以下、好ましくは約1
/200〜約1/1000モルの範囲内である。又、前
記鋼(1)触媒の使用量についても適宜に選択されるが
、例えば、酸ハロゲン化物1モルに対して約l/10〜
1/1000モル程度の範囲が好ましく使用される。
本発明の反応は、用いる式(2)の酸ハロゲン化物の構
造によって室温でも進行するが、−船釣には、好ましい
反応速度を得るために、約300℃程度までの温度に加
熱するのが好都合である。
造によって室温でも進行するが、−船釣には、好ましい
反応速度を得るために、約300℃程度までの温度に加
熱するのが好都合である。
しかし、本発明の反応は、あまりに高温で行うと、アセ
チレン結合の原料及び生成物の分解組合が起こるので、
好ましい反応温度は約50”C〜約150℃の範囲内で
ある。
チレン結合の原料及び生成物の分解組合が起こるので、
好ましい反応温度は約50”C〜約150℃の範囲内で
ある。
本発明の反応により得られる前記式(1)の化合物を包
含して前記式(1)−1の化合物の反応混合物からの分
離精製は、それ自体既知の方法で行うことができ、例え
ば、先ず、反応溶液を遠心分離、l憲通などの同一液分
離手段に付すことにより又は反応溶液を水洗することに
より副生じた塩類を除去した後、例えば、エーテルのご
とき溶媒で抽出して、エーテル層を水洗、希酸性水溶液
で洗浄した後、更に水洗を繰り返し、次に蒸留等の精製
手段に付することによって実施することができる。
含して前記式(1)−1の化合物の反応混合物からの分
離精製は、それ自体既知の方法で行うことができ、例え
ば、先ず、反応溶液を遠心分離、l憲通などの同一液分
離手段に付すことにより又は反応溶液を水洗することに
より副生じた塩類を除去した後、例えば、エーテルのご
とき溶媒で抽出して、エーテル層を水洗、希酸性水溶液
で洗浄した後、更に水洗を繰り返し、次に蒸留等の精製
手段に付することによって実施することができる。
(B)法
まず原料として用いる前記式(4)のアセチレンアルコ
ールは、5ynthes is、777頁、1977年
に記載の方法により容易に合成することができる。
ールは、5ynthes is、777頁、1977年
に記載の方法により容易に合成することができる。
上述のようにして合成される式(4)のアセチレンアル
コールから本発明の式(1)の化合物を包含して式(1
)−1の化合物を合成する反応は、通常は、オートクレ
ーブ中でアセチレンアルコール[式(4)]と炭酸ガス
とを接触させることにより行われる。上記反応は有81
溶媒中で行うのが有利であり、これに使用される有機溶
媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、テトラヒド
ロフラン、ジメチルスルフィド、アセトニトリル、トリ
エチルアミンのごとき溶媒がしばしば採用される。これ
らの有機溶媒の使用量には特別の制約はなく適宜に選択
されるが、例えば、前記式(4)の化合物に対して約0
.5〜約20重量倍程度の範囲が好適である。又、この
反応は炭酸ガスの圧力下に行うのが有利であり、一般的
には約1〜約70気圧、好ましくは約1〜約70気圧程
度の範囲である。使用する炭酸ガスは純粋なものであっ
てもよいが、窒素、アルゴン、ヘリウムなとのごとき不
活性ガスで稀釈されたものであってもよい0反応温度は
、高温すぎると生成物の分解が生じる恐れがあるので、
約150℃程度以下で行うのが好ましい。又反応時間は
使用する溶媒の種類、使用量或いは炭酸ガスの圧力の程
度などにより適宜選択されるが、一般的には約1〜約1
0時間程度の範囲で行われる。反応生成物は、カラムク
ロマトグラフィー或いは再結晶のごとき手段で精製して
目的化合物が好純度で得られる。
コールから本発明の式(1)の化合物を包含して式(1
)−1の化合物を合成する反応は、通常は、オートクレ
ーブ中でアセチレンアルコール[式(4)]と炭酸ガス
とを接触させることにより行われる。上記反応は有81
溶媒中で行うのが有利であり、これに使用される有機溶
媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、テトラヒド
ロフラン、ジメチルスルフィド、アセトニトリル、トリ
エチルアミンのごとき溶媒がしばしば採用される。これ
らの有機溶媒の使用量には特別の制約はなく適宜に選択
されるが、例えば、前記式(4)の化合物に対して約0
.5〜約20重量倍程度の範囲が好適である。又、この
反応は炭酸ガスの圧力下に行うのが有利であり、一般的
には約1〜約70気圧、好ましくは約1〜約70気圧程
度の範囲である。使用する炭酸ガスは純粋なものであっ
てもよいが、窒素、アルゴン、ヘリウムなとのごとき不
活性ガスで稀釈されたものであってもよい0反応温度は
、高温すぎると生成物の分解が生じる恐れがあるので、
約150℃程度以下で行うのが好ましい。又反応時間は
使用する溶媒の種類、使用量或いは炭酸ガスの圧力の程
度などにより適宜選択されるが、一般的には約1〜約1
0時間程度の範囲で行われる。反応生成物は、カラムク
ロマトグラフィー或いは再結晶のごとき手段で精製して
目的化合物が好純度で得られる。
本発明で用いる前記式(4)のアセチレンアルコールに
おいて、R、R及びRの具体例は上記の(A)で述べた
基と同一の糸を挙げることができる。
おいて、R、R及びRの具体例は上記の(A)で述べた
基と同一の糸を挙げることができる。
以上述べた如くして製造される前記式(])の化合物を
包含して前記式(1)−1の化合物は5、例えば、下記
反応式に示したように前記式(1)を包含して下記式(
1)−1の化合物を有機溶媒の存在下もしくは不存在下
に、150℃〜200°C程度の温度下に加熱せしめる
だけで香料として有用な下記式(a)の化合物に容易に
転換することができる。
包含して前記式(1)−1の化合物は5、例えば、下記
反応式に示したように前記式(1)を包含して下記式(
1)−1の化合物を有機溶媒の存在下もしくは不存在下
に、150℃〜200°C程度の温度下に加熱せしめる
だけで香料として有用な下記式(a)の化合物に容易に
転換することができる。
(+)−1
以下に本発明の式(1)の化合物を包含して式(1)−
1化合物の製造方法を実施例を挙げて説明する。
1化合物の製造方法を実施例を挙げて説明する。
(実施例)
実施例(1)
2−メチル−5−フェニル−5−オキソ−3−ペンテン
−2,3−ジオール炭酸エステルの合成。
−2,3−ジオール炭酸エステルの合成。
安息香酸クロリド(10ミリモル)、2−メチル−3−
ブチン−2−オール(10ミリモル)、ジクロルビスト
リフェニルホスフィンパラジウム(20ミリグラム)、
ヨウ化第−銅(20ミリグラム)をトリエチルアミン(
20ミリリツトル)とともに100ccオートクレーブ
中に仕込み、炭酸ガス圧30気圧、70℃で3時間反応
する。
ブチン−2−オール(10ミリモル)、ジクロルビスト
リフェニルホスフィンパラジウム(20ミリグラム)、
ヨウ化第−銅(20ミリグラム)をトリエチルアミン(
20ミリリツトル)とともに100ccオートクレーブ
中に仕込み、炭酸ガス圧30気圧、70℃で3時間反応
する。
終了後、エバポレータで濃縮、残査をシリカゲルカラム
クロマトにかけ、ベンゼンで溶出することにより標記化
合物1.3gを得た。
クロマトにかけ、ベンゼンで溶出することにより標記化
合物1.3gを得た。
収率;50%
石−NMRδ(CDCl2 ) : 1.89 (6H
。
。
S) 、6.79 (IH,S)、7.3〜8.1(5
H+m)一 実施例(2) 2.6−シメチルー5−オキソ−3−へブテン−2,3
−ジオール炭酸エステルの合成。
H+m)一 実施例(2) 2.6−シメチルー5−オキソ−3−へブテン−2,3
−ジオール炭酸エステルの合成。
実施例(1)において、安息香酸クロリドの代りに2−
メチルプロピオン酸クロリドを用いた他は実施例(1)
と同様に行って、標記化合物を得た。
メチルプロピオン酸クロリドを用いた他は実施例(1)
と同様に行って、標記化合物を得た。
収率;65%
IH−N M Rδ(CDC13): 1.15 (6
H。
H。
d、J=3.1)、1.81 (6H,S) 、6゜1
1(IH,S)。
1(IH,S)。
実施例(3)
2−メチル−7−フェニル−5−オキソ−3゜6−へブ
タジェン−2,3−ジオール炭酸エステルの合成。
タジェン−2,3−ジオール炭酸エステルの合成。
実施例(1)において、PdC12(PPh3)2/C
ulの代りにCOCl2 (PPh3)/Cul、安
息香酸クロリドの代りに桂皮酸クロリド、炭酸ガス圧5
0気圧及び100℃にした他は実施例(1)と同様に行
って、標記化合物を得た収率;57%。
ulの代りにCOCl2 (PPh3)/Cul、安
息香酸クロリドの代りに桂皮酸クロリド、炭酸ガス圧5
0気圧及び100℃にした他は実施例(1)と同様に行
って、標記化合物を得た収率;57%。
IH−NMRδ(CDC13): 1.87 (6H。
S) 、6.35 (IH,S) 、6.70〜7.6
9(7H,m)。
9(7H,m)。
実施例(4)
2.6.6−)ツメチル−6−オキソ−3−へブテン−
2,3−ジオール炭酸エステルの合成。
2,3−ジオール炭酸エステルの合成。
実施例(1)において、安息香酸クロリドの代りに2,
2−ジメチルプロピオン酸クロリドを用いた池は、実施
例(1)と同様に行って、標記化合物を得た。
2−ジメチルプロピオン酸クロリドを用いた池は、実施
例(1)と同様に行って、標記化合物を得た。
収率;68%。
’H−NMR& (CDC13) : 1 、10 (
9H。
9H。
S) 、1.81 (6H,S) 、6.11 (IH
。
。
S)。
実施例(4)〜(12)
下記表−2に示すような反応条件下で、下記表−1に示
す所定の酸ハロゲン化物及び末端アセチレンアルコール
を用いて、実施例(1)と同様にして各種の2−オキソ
−1,3−ジオキソラン誘導体の合成を行った。
す所定の酸ハロゲン化物及び末端アセチレンアルコール
を用いて、実施例(1)と同様にして各種の2−オキソ
−1,3−ジオキソラン誘導体の合成を行った。
この場合、特記しない限り仕込みの酸ハロゲン化物、末
端アセチレンアルコール、塩基及び触媒のモル数は実施
例(1)と同一である。その結果を下記表−2にまとめ
て示す。
端アセチレンアルコール、塩基及び触媒のモル数は実施
例(1)と同一である。その結果を下記表−2にまとめ
て示す。
表−1
註:Pb=フェニル基
M e =メチルノ、(
E b =エチル糸
(表−2においても同じ)
表−2
表−2(つづき)
実施例(13)
2−メチル−5−フェニル−5−オキソ−3−ペンテン
−2,3−ジオール炭酸エステルの合成2−メチル−5
−フェニル−5−オキソ−3−ペンチン−2−オール(
5ミリモル)をトリエチルアミン5mlとともに100
m1オートクレーブ中に仕込み炭酸ガス圧10気圧下7
0℃で1時間反応する0反応終了後トリエチルアミンを
回収し、残金をシリカゲルカラムクロマトにかけ精製す
ることにより標記化合物を収率68%で得た。
−2,3−ジオール炭酸エステルの合成2−メチル−5
−フェニル−5−オキソ−3−ペンチン−2−オール(
5ミリモル)をトリエチルアミン5mlとともに100
m1オートクレーブ中に仕込み炭酸ガス圧10気圧下7
0℃で1時間反応する0反応終了後トリエチルアミンを
回収し、残金をシリカゲルカラムクロマトにかけ精製す
ることにより標記化合物を収率68%で得た。
実施例(14)
実施例(13)において、トリエチルアミンの代りにベ
ンゼンを用いた他は実施例(13)と同様に行って、2
−メチル−5−フェニル−5−オキソ−3−ペンテン−
2,3−ジオール炭酸エステルを収率35%で得た。
ンゼンを用いた他は実施例(13)と同様に行って、2
−メチル−5−フェニル−5−オキソ−3−ペンテン−
2,3−ジオール炭酸エステルを収率35%で得た。
実施例(lδ)
5−オキソ−3−ヘキセン−2,3−ジオール炭酸エス
テルの合成。
テルの合成。
実施例(13)において、2−メチル−5−フェニル−
5−オキソ−3−ペンチン−2−オールの代りに6−メ
チル−5−オキソ−3−ヘプチン−2−オールを用いた
他は実施例(13)と同様に行って、標記化合物を収率
53%で得た。
5−オキソ−3−ペンチン−2−オールの代りに6−メ
チル−5−オキソ−3−ヘプチン−2−オールを用いた
他は実施例(13)と同様に行って、標記化合物を収率
53%で得た。
(発明の効果)
本発明は、香料、医薬或いは農薬の合成中間体として有
用な従来の文献には記載されていない新規化合物である
下記式(1) 式中、R1および波線は上記したと同義である、 で表される2−オキソ−1,3−ジオキソラン誘導体を
提供するにある。更に本発明は上記式(1)を包含して
下記式(1) −1 式中、R2、R3、R4及び波線は上記したと同義であ
る、 で表される2−オキソ−1,3−ジオキソラン誘導体の
製造方法を提供するにある。
用な従来の文献には記載されていない新規化合物である
下記式(1) 式中、R1および波線は上記したと同義である、 で表される2−オキソ−1,3−ジオキソラン誘導体を
提供するにある。更に本発明は上記式(1)を包含して
下記式(1) −1 式中、R2、R3、R4及び波線は上記したと同義であ
る、 で表される2−オキソ−1,3−ジオキソラン誘導体の
製造方法を提供するにある。
ほか1名
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、下記式(1) ▲数式、化学式、表等があります▼(1) 式中、R^1は低級アルキル基及びアリール基よりなる
群から選ばれた基を示し、波線はシス又はトランス結合
を示す、 で表される2−オキソ−2,3−ジオキソラン誘導体。 2、下記式(2) R^2COX(2) 式中、R^2はアルキル基、アルケニル基、アリール基
及び複素環式基よりなる群から選ばれた基を示し、Xは
ハロゲン原子を示す、 で表される酸ハロゲン化物と下記式(3) ▲数式、化学式、表等があります▼(3) 式中、R^3及びR^4は夫々、水素原子、アルキル基
、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アラルキ
ル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アルコキシカ
ルボニル基、アルキルチオ基、アルコキシアルキル基、
複素環式基及びオルガノシリル基よりなる群から選ばれ
た基を示す、 で表される末端アセチレンアルコールと炭酸ガスとを、
周期率表第VIII族金属触媒及び第一銅イオンの存在下に
反応させることを特徴とする下記式(1)−1 ▲数式、化学式、表等があります▼(1)−1 式中、波線はシス又はトランス結合を示し、R^2、R
^3及びR^4は上記したと同義である、で表される2
−オキソ−1,3−ジオキソラン誘導体の製法。 3、下記式(4) ▲数式、化学式、表等があります▼(4) 式中、R^2はアルキル基、アルケニル基、アリール基
及び複素環式基よりなる群から選ばれた基を示し、R^
3及びR^4は、夫々、水素原子、アルキル基、アルケ
ニル基、アルキニル基、アリール基、アラルキル基、シ
クロアルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル
基、アルキルチオ基、アルコキシアルキル基、複素環式
基及びオルガノシリル基よりなる群から選ばれた基を示
す、 で表されるアセチレンアルコールを有機溶媒中、炭酸ガ
スと反応させることを特徴とする下記式(1)−1 ▲数式、化学式、表等があります▼(1)−1 式中、波線、R^2、R^3及びR^4は上記したと同
義である。 で表される2−オキソ−1,3−ジオキソラン誘導体の
製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7825688A JPH0651695B2 (ja) | 1988-04-01 | 1988-04-01 | 2―オキソ―1,3―ジオキソラン誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7825688A JPH0651695B2 (ja) | 1988-04-01 | 1988-04-01 | 2―オキソ―1,3―ジオキソラン誘導体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01254677A true JPH01254677A (ja) | 1989-10-11 |
| JPH0651695B2 JPH0651695B2 (ja) | 1994-07-06 |
Family
ID=13656914
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7825688A Expired - Fee Related JPH0651695B2 (ja) | 1988-04-01 | 1988-04-01 | 2―オキソ―1,3―ジオキソラン誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0651695B2 (ja) |
-
1988
- 1988-04-01 JP JP7825688A patent/JPH0651695B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0651695B2 (ja) | 1994-07-06 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Cacchi et al. | Palladium-catalyzed conjugate addition reaction of aryl iodides with. alpha.,. beta.-unsaturated ketones | |
| Kisanga et al. | Synthesis of new proazaphosphatranes and their application in organic synthesis | |
| Uno et al. | A new method of synthesis of arylmalononitriles catalysed by a palladium complex | |
| JP3586288B2 (ja) | ビフェニル誘導体の製法 | |
| Hua et al. | Palladium-catalysed annulation of β-chloro-α, β-unsaturated esters with internal alkynes leading to 2 H-pyran-2-ones | |
| CN111072555B (zh) | 制备杂环砜类有机化合物的方法 | |
| JPS6116376B2 (ja) | ||
| JPH06192161A (ja) | 光学活性ムスコンの製造方法 | |
| CN116162027A (zh) | 一种铁催化羰基化三组分偶联反应合成ɑ,β-不饱和酮的方法 | |
| JP4413507B2 (ja) | ピンサー型金属錯体及びその製造方法、並びにピンサー型金属錯体触媒 | |
| JPH0651695B2 (ja) | 2―オキソ―1,3―ジオキソラン誘導体 | |
| JP2004269522A (ja) | 新規なルテニウム錯体、その製造方法、及びそれを用いたアミド化合物の製造方法 | |
| JPS62292756A (ja) | 2,2,6,6−テトラアルキルピペリジン誘導体の製法 | |
| CN102947320B (zh) | 钌基络合物 | |
| JP2001302582A (ja) | トリフルオロメチルフェニル酢酸の製造方法 | |
| JPH0745483B2 (ja) | フラノン類の製造方法 | |
| JPH01121268A (ja) | 3,5−ジクロロピリジンの製造法 | |
| JP4288372B2 (ja) | アルファーピロン類およびその製造方法 | |
| US3354165A (en) | Akylation of pyridine compounds | |
| JP3008296B2 (ja) | ジアリールグリコール酸の製造方法 | |
| CN115466199A (zh) | 一种通过光/镍双催化体系进行醛与芳基酚脱氢酯化的方法 | |
| JP3563424B2 (ja) | 4h−ピラン−4−オンの製造方法 | |
| CN121021245A (zh) | 一种具有1,1-二氟烯丙基结构的羧酸酯类化合物及其制备方法与应用 | |
| JP4036522B2 (ja) | シクロヘキサノン誘導体及びその製造法 | |
| EP4232434A1 (en) | Heical dispirodiindenopyridines and dispirodiindenopyridazines, and preparation and uses thereof |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |