JPH01257579A - マニピユレータ - Google Patents
マニピユレータInfo
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- JPH01257579A JPH01257579A JP8294188A JP8294188A JPH01257579A JP H01257579 A JPH01257579 A JP H01257579A JP 8294188 A JP8294188 A JP 8294188A JP 8294188 A JP8294188 A JP 8294188A JP H01257579 A JPH01257579 A JP H01257579A
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- manipulator
- end effector
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はマニピュレータに係り、特に、作業対象とエン
ドエフェクタとの間に一定の拘束関係を保ちながら作業
するのに好適なマニピュレータに関する。
ドエフェクタとの間に一定の拘束関係を保ちながら作業
するのに好適なマニピュレータに関する。
マスタスレーブ式のマニピュレータでは、エンドエフェ
クタの位置、姿勢を一定に保つ拘束動作を伴った作業を
マスタスレーブ制御だけで実現するのは困難である。
クタの位置、姿勢を一定に保つ拘束動作を伴った作業を
マスタスレーブ制御だけで実現するのは困難である。
また、長尺マニピュレータでも、長尺マニピュレータの
動的なたわみ、関節駆動の減速機構のバンクラッシュな
どによって、エンドエフェクタと作業対象の関係を一定
に保つことはむずかしい。
動的なたわみ、関節駆動の減速機構のバンクラッシュな
どによって、エンドエフェクタと作業対象の関係を一定
に保つことはむずかしい。
1)1j者に対する従来技術は、作業対象とエンドエフ
ェクタの関係を検出し、その出力によりスレーブの位置
、姿勢を規定するマスタマニピュレータのアーム関節に
コンプライアンスを発生させて生しるマスクの反力によ
って、操作者に作業対象とエンドエフェクタの関係を検
知させる方法がある。
ェクタの関係を検出し、その出力によりスレーブの位置
、姿勢を規定するマスタマニピュレータのアーム関節に
コンプライアンスを発生させて生しるマスクの反力によ
って、操作者に作業対象とエンドエフェクタの関係を検
知させる方法がある。
長尺マニピュレータでは、作業動作を教示する時に、T
Vカメラ等によりマニピュレータの先端を監視し、教示
内容をトライアンドエラーにより修正してから、実際の
作業に入っていた。
Vカメラ等によりマニピュレータの先端を監視し、教示
内容をトライアンドエラーにより修正してから、実際の
作業に入っていた。
マスタスレーブ式に対する従来技術では、操作者は、常
に、マスクに伝わる反力を感じ、その反力がなくなるよ
うにスレーブの位置姿勢を規定するマスクの多くの自由
度を微妙に操作することが要求されるため、操作者の疲
労は大きくなる問題がある。
に、マスクに伝わる反力を感じ、その反力がなくなるよ
うにスレーブの位置姿勢を規定するマスクの多くの自由
度を微妙に操作することが要求されるため、操作者の疲
労は大きくなる問題がある。
後者の長尺マニピュレータでは、教示時間がかかり、教
示者の疲労も大きくなる。
示者の疲労も大きくなる。
従って、本発明の目的は、マスクなどにより大まかな教
示でも、作業を確実に、かつ、容易に実現する手段を提
供することにある。
示でも、作業を確実に、かつ、容易に実現する手段を提
供することにある。
上記目的は、作業対象とエンドエフェクタとの関係を検
出する検出センサ、作業を実行するスレーブ、作業内容
教示装置、及び、検出センサの出力をマスタなどの作業
内容教示装置とスレーブのうち、スレーブの位置姿勢を
規定する以外の部分にフィードバックする制御装置を構
成することにより達成される。
出する検出センサ、作業を実行するスレーブ、作業内容
教示装置、及び、検出センサの出力をマスタなどの作業
内容教示装置とスレーブのうち、スレーブの位置姿勢を
規定する以外の部分にフィードバックする制御装置を構
成することにより達成される。
(作用〕
スレーブは、教示手段、例えば、マスクによってエンド
エフェクタの大まかな位置・姿勢を規定する。検出セン
サは、この時のエンドエフェクタの作業対象に対する位
置・姿勢を検出する。スレーブの位置・姿勢を規定する
以外の部分は、スレーブでは、スレーブの位置・姿勢を
自由度(これを主自由度と呼ぶ)以外の自由度(これを
補助自由度と呼ぶ)があり、マスクでは、エンドエフェ
クタ操作器などがある。スレーブの補助自由度を例にと
って説明すれば、検出センサによりスレーブの補助自由
度は、エンドエフェクタの作業対象に対する位置・姿勢
が、一定の状態になるように制御装置によって制御され
る。このことによって、スレーブに対する教示内容が大
まかであっても、作業を確実に、かつ、容易に実現でき
る。特に、マスタスレーブ制御では、マスクの操作が簡
単になり、操作者の疲労も少なくなる。
エフェクタの大まかな位置・姿勢を規定する。検出セン
サは、この時のエンドエフェクタの作業対象に対する位
置・姿勢を検出する。スレーブの位置・姿勢を規定する
以外の部分は、スレーブでは、スレーブの位置・姿勢を
自由度(これを主自由度と呼ぶ)以外の自由度(これを
補助自由度と呼ぶ)があり、マスクでは、エンドエフェ
クタ操作器などがある。スレーブの補助自由度を例にと
って説明すれば、検出センサによりスレーブの補助自由
度は、エンドエフェクタの作業対象に対する位置・姿勢
が、一定の状態になるように制御装置によって制御され
る。このことによって、スレーブに対する教示内容が大
まかであっても、作業を確実に、かつ、容易に実現でき
る。特に、マスタスレーブ制御では、マスクの操作が簡
単になり、操作者の疲労も少なくなる。
以下、本発明の実施例をプラズマ切断作業を例にとって
説明する。
説明する。
第一の実施例として、補助自由度をエンドエフェクタに
設けた場合を第1図から第5図を用いて説明する。第1
図で、スレーブ8は、アーム81エンドエフエクタ1、
検出センサ2及びプラズマトーチ3から構成される。ア
ーム81はエンドエフェクタ1の位置・姿勢を規定でき
るように六自由度の主自由度から構成される。第2図は
、エンドエフェクタ1と検出センサ2の一実施例を示す
。
設けた場合を第1図から第5図を用いて説明する。第1
図で、スレーブ8は、アーム81エンドエフエクタ1、
検出センサ2及びプラズマトーチ3から構成される。ア
ーム81はエンドエフェクタ1の位置・姿勢を規定でき
るように六自由度の主自由度から構成される。第2図は
、エンドエフェクタ1と検出センサ2の一実施例を示す
。
第3図は、検出センサ2のエンドエフェクタ1の作業対
象9に対する姿勢検出の説明図である。検出センサは、
リング状の検出センサプレートと検出センサプレート2
1の上下、左右に取り付けられた距離センサ2u、2a
、2しy 2Rからなる。
象9に対する姿勢検出の説明図である。検出センサは、
リング状の検出センサプレートと検出センサプレート2
1の上下、左右に取り付けられた距離センサ2u、2a
、2しy 2Rからなる。
添字u、d、L、Rは、各々距離センサの取り付は位置
が上、下、左及び右であることを示す。距離センサ2u
、SL、2R12Lは、各々、作業対象9との距離をQ
u、Qar QRl及びQ、Lを検出する。
が上、下、左及び右であることを示す。距離センサ2u
、SL、2R12Lは、各々、作業対象9との距離をQ
u、Qar QRl及びQ、Lを検出する。
エンドエフェクタ1は、プラズマトーチをアーム81に
対して前後に移動させる伸縮軸11、左右に施回させる
左右旅回軸12、及び、上下に施回させる上下旅回軸1
3をもつ。伸縮軸11は、モータ111、エンコーダ1
12及びボールネジ113から構成される。プラズマト
ーチ3は、プラズマトーチ保持部14に固定され、ボー
ルネジ113により前後に移動する。検出センサ2も、
検出センサガイド捧22を介してプラズマトーチ保持部
に固定され、プラズマトーチとともに、ボールネジ11
3によって前後に移動する。左右旅回軸12は、モータ
121、エンコーダ122ベアリング123、及びシャ
フト124から構成され、モータ121を駆動すること
によって、モータ121のロータに固定されたシャフト
124によってエンドエフェクタ1全体を左右に施回す
る。
対して前後に移動させる伸縮軸11、左右に施回させる
左右旅回軸12、及び、上下に施回させる上下旅回軸1
3をもつ。伸縮軸11は、モータ111、エンコーダ1
12及びボールネジ113から構成される。プラズマト
ーチ3は、プラズマトーチ保持部14に固定され、ボー
ルネジ113により前後に移動する。検出センサ2も、
検出センサガイド捧22を介してプラズマトーチ保持部
に固定され、プラズマトーチとともに、ボールネジ11
3によって前後に移動する。左右旅回軸12は、モータ
121、エンコーダ122ベアリング123、及びシャ
フト124から構成され、モータ121を駆動すること
によって、モータ121のロータに固定されたシャフト
124によってエンドエフェクタ1全体を左右に施回す
る。
上下旅回軸13も左右旅回軸12と同様に構成され、エ
ンドエフェクタ1の全体を上下に施回する。
ンドエフェクタ1の全体を上下に施回する。
次に、検出センサ2によって、エンドエフェクタ1にあ
る補助自由度の制御方法について説明する。第4図は、
その制御装置6のブロック図を示し、伸縮軸11を制御
する場合を示す。制御装置6は検出センサ2の出力Qに
より各軸の指令値演算部61、指令値により所望の制御
を行なうために操作量を決める制御要素62、及び、モ
ータドライバ63からなる。第5図に、指令演算部にお
ける制御アルゴリズムを示す。プラズマ切断では。
る補助自由度の制御方法について説明する。第4図は、
その制御装置6のブロック図を示し、伸縮軸11を制御
する場合を示す。制御装置6は検出センサ2の出力Qに
より各軸の指令値演算部61、指令値により所望の制御
を行なうために操作量を決める制御要素62、及び、モ
ータドライバ63からなる。第5図に、指令演算部にお
ける制御アルゴリズムを示す。プラズマ切断では。
プラズマトーチ3と作業対象9との距離(これをスタン
ドオフと呼ぶ)を一定にし、かつ作業対象9に対するプ
ラズマトーチ3の姿勢を垂直に保つことが望まれる。ス
タンドオフを一定に保つため、四つの距離センサの平均
値りを求め、(シーケンス10、これ以後シーケンスを
Sと略す)望むべきスタンドオフLoと比較しく520
)、その差によって伸縮軸11を制御する(S30,5
40)。
ドオフと呼ぶ)を一定にし、かつ作業対象9に対するプ
ラズマトーチ3の姿勢を垂直に保つことが望まれる。ス
タンドオフを一定に保つため、四つの距離センサの平均
値りを求め、(シーケンス10、これ以後シーケンスを
Sと略す)望むべきスタンドオフLoと比較しく520
)、その差によって伸縮軸11を制御する(S30,5
40)。
制御要素62を第4図に示すような不感帯を持つ非線形
要素で構成すれば、伸縮軸11はオンオフ的に制御され
ることになる。また、プラズマトーチの姿勢を一定に保
つため、左右の距離センサQL+ Qnを比較しく55
0)、その差によって左右旅回軸12を制御(S60.
70)L、上下の距離QL、ORによって同様に上下流
回転13を制御する(S80,90,100)。この制
御を作業終了までくり返す。第6図は、作業対象9の端
部で、4つの距離センサのうちの一つが作業対象との距
離を検出できない時の処理を示し、上側の距離センサQ
uの場合を示す。距離センサの値がQuがある一定以上
(Q uu)になった時、作業対象9を検出できないと
定義する。スタンドオフαは、左右距離センサ21.、
2Rの平均値でも、上下距離センサ2..2.の平均値
でも求まるから、この場合は前者によって求める(S2
10)、伸縮軸11と左右旋回転の処理は、第4図と同
じである(S220)。上下流回転に対しては、このス
タンドオフLと下側の距離センサQ−との比較によって
、第4図と同じように制御する(S250゜260.2
70)。このように、検出センサ2とエンドエフェクタ
1にある補助自由度によって、エンドエフェクタ1の位
置・姿勢を大まかに教示しても、作業対象とプラズマト
ーチ3との関係を所望の状態に保持でき作業が確実、か
つ、容易にできる。
要素で構成すれば、伸縮軸11はオンオフ的に制御され
ることになる。また、プラズマトーチの姿勢を一定に保
つため、左右の距離センサQL+ Qnを比較しく55
0)、その差によって左右旅回軸12を制御(S60.
70)L、上下の距離QL、ORによって同様に上下流
回転13を制御する(S80,90,100)。この制
御を作業終了までくり返す。第6図は、作業対象9の端
部で、4つの距離センサのうちの一つが作業対象との距
離を検出できない時の処理を示し、上側の距離センサQ
uの場合を示す。距離センサの値がQuがある一定以上
(Q uu)になった時、作業対象9を検出できないと
定義する。スタンドオフαは、左右距離センサ21.、
2Rの平均値でも、上下距離センサ2..2.の平均値
でも求まるから、この場合は前者によって求める(S2
10)、伸縮軸11と左右旋回転の処理は、第4図と同
じである(S220)。上下流回転に対しては、このス
タンドオフLと下側の距離センサQ−との比較によって
、第4図と同じように制御する(S250゜260.2
70)。このように、検出センサ2とエンドエフェクタ
1にある補助自由度によって、エンドエフェクタ1の位
置・姿勢を大まかに教示しても、作業対象とプラズマト
ーチ3との関係を所望の状態に保持でき作業が確実、か
つ、容易にできる。
次に、第二の実施例として補助自由度をアーム内に配置
し、かつ補助自由度を主自由度で兼ねる場合を第7図か
ら第9図を用いて説明する。第8図は、本発明を適用と
するマニピュレータ8の自由度配置の一例を示す0本マ
ニピュレータ8は、根元側からロールθ1.ピッチθ2
.ピッチ03.ロールθ番、ピッチθ6及びロールθG
の自由度配置をもち、先端に第8図に示すエンドエフェ
クタ5を装着している。マニピュレータ8は、θ+、O
z。
し、かつ補助自由度を主自由度で兼ねる場合を第7図か
ら第9図を用いて説明する。第8図は、本発明を適用と
するマニピュレータ8の自由度配置の一例を示す0本マ
ニピュレータ8は、根元側からロールθ1.ピッチθ2
.ピッチ03.ロールθ番、ピッチθ6及びロールθG
の自由度配置をもち、先端に第8図に示すエンドエフェ
クタ5を装着している。マニピュレータ8は、θ+、O
z。
θ3の根元側三軸によって、エンドエフェクタの位置を
規定し、θ番、θ5.θBの先端側3軸によってエンド
エフェクタ5の姿勢を決定する。エンドエフェクタ5は
、θB軸の先端に固定されている。第8図に示すエンド
エフェクタ4は、プラズマトーチ3、プラズマトーチ保
持部41、及び、接触型検出センサ5から構成されてい
る。接触型検出センサ5は、検出センサの第二の実施例
であり、作業対象9との距離Qul Qa+ QL+
QR(添字内容は、検出センサ2と同じ)を検出するの
に接触型距離センサ5u+ 5d+ 5Ll 5Rを用
いたものである。接触型距離センサ5..5=、5L、
5Rは、バネ51で摺動棒52を常に作業対象9に押付
ける機構となっており、摺動棒52の先端には、摺動棒
52が作業対象9を滑らかにすべることができるように
ポールキャスタ53を装着している。
規定し、θ番、θ5.θBの先端側3軸によってエンド
エフェクタ5の姿勢を決定する。エンドエフェクタ5は
、θB軸の先端に固定されている。第8図に示すエンド
エフェクタ4は、プラズマトーチ3、プラズマトーチ保
持部41、及び、接触型検出センサ5から構成されてい
る。接触型検出センサ5は、検出センサの第二の実施例
であり、作業対象9との距離Qul Qa+ QL+
QR(添字内容は、検出センサ2と同じ)を検出するの
に接触型距離センサ5u+ 5d+ 5Ll 5Rを用
いたものである。接触型距離センサ5..5=、5L、
5Rは、バネ51で摺動棒52を常に作業対象9に押付
ける機構となっており、摺動棒52の先端には、摺動棒
52が作業対象9を滑らかにすべることができるように
ポールキャスタ53を装着している。
距離Qは摺動棒52のガイド54に対する位置で検出す
る。接触型検出センサ5では、スタンドオフは、バネ5
1によって自動的に補正される。従って、本発明ではア
クティブに制御しなくてはならないのは、エンドエフェ
クタの姿勢である。この姿勢を効率的に補正するマニピ
ュレータの自由度は、θ4軸の左右旅回軸と、05軸の
上下旅回軸である。
る。接触型検出センサ5では、スタンドオフは、バネ5
1によって自動的に補正される。従って、本発明ではア
クティブに制御しなくてはならないのは、エンドエフェ
クタの姿勢である。この姿勢を効率的に補正するマニピ
ュレータの自由度は、θ4軸の左右旅回軸と、05軸の
上下旅回軸である。
次に、04軸、05軸の制御方法について説明する。第
9図は1本実施例における制御装置のブロック図を示す
。制御装置6の基本的構成は、第一の実施例と同じであ
るが、指令部演算部61の構成が多少異なる。指令部演
算部61は、検出センサ5の出力Q、〜QRにより目標
値変更量を計算する目標値変更部611と、目標値を計
算する目標値計算部611である。目標値変更部611
の処理内容は、第5図、第6図で示した第一の実施例の
制御アルゴリズムのうち、左右及び上下旅回に相当する
処理を行なう。例えば、θ4軸によりエンドエフェクタ
の左右の姿勢を補正するための姿勢補正1tRc4は次
式で定める。
9図は1本実施例における制御装置のブロック図を示す
。制御装置6の基本的構成は、第一の実施例と同じであ
るが、指令部演算部61の構成が多少異なる。指令部演
算部61は、検出センサ5の出力Q、〜QRにより目標
値変更量を計算する目標値変更部611と、目標値を計
算する目標値計算部611である。目標値変更部611
の処理内容は、第5図、第6図で示した第一の実施例の
制御アルゴリズムのうち、左右及び上下旅回に相当する
処理を行なう。例えば、θ4軸によりエンドエフェクタ
の左右の姿勢を補正するための姿勢補正1tRc4は次
式で定める。
RC4=K CQR12r)
−(1)ここでに:定数 また、目標値計算部611は式(2)の計算により、動
作信号量を計算する。
−(1)ここでに:定数 また、目標値計算部611は式(2)の計算により、動
作信号量を計算する。
Q+= (P114+RC4) Ps4
−(2)ここで P、:マスタの位置信号 Psニスレープの位置信号 添字4:04軸を示す θδ軸についても同様に求まる。式(2)に示すように
本実施例の制御の特徴は、従来のマスタスレーブ制御の
スレーブ制御系(第9図で破線内7の部分)において、
目標値であるマスクの位置信号Psに、検出センサ5に
よって決る姿勢補正量を重畳した制御方策を採ることに
ある。このように制御すれば、マスクによってスレーブ
の位置を概略指定するだけで、エンドエフェクタ4の姿
勢を自動的に所望の状態に保持できる。従って、操作者
は従来例のように微妙な反力に注意を払いながら操作す
るといった負担が無いので疲労も少なく、簡単、かつ、
確実に操作できる。
−(2)ここで P、:マスタの位置信号 Psニスレープの位置信号 添字4:04軸を示す θδ軸についても同様に求まる。式(2)に示すように
本実施例の制御の特徴は、従来のマスタスレーブ制御の
スレーブ制御系(第9図で破線内7の部分)において、
目標値であるマスクの位置信号Psに、検出センサ5に
よって決る姿勢補正量を重畳した制御方策を採ることに
ある。このように制御すれば、マスクによってスレーブ
の位置を概略指定するだけで、エンドエフェクタ4の姿
勢を自動的に所望の状態に保持できる。従って、操作者
は従来例のように微妙な反力に注意を払いながら操作す
るといった負担が無いので疲労も少なく、簡単、かつ、
確実に操作できる。
最後に、第三の実施例を第10図及び第11図を用いて
説明する。第三の実施例は、検出センサによって決る姿
勢補正量を、スレーブの補助自由度ではなく、マスクの
エンドエフェクタ操作器に反力としてフィードバックす
る方法である。本実施例では、プラズマトーチ3のスタ
ンドオフ量りを姿勢補正量とする場合を考える。
説明する。第三の実施例は、検出センサによって決る姿
勢補正量を、スレーブの補助自由度ではなく、マスクの
エンドエフェクタ操作器に反力としてフィードバックす
る方法である。本実施例では、プラズマトーチ3のスタ
ンドオフ量りを姿勢補正量とする場合を考える。
第一、第二の実施例では、スタンドオフ量りは、エンド
エフェクタ1の伸縮軸、又は、接触型距離センサ5u〜
5Rのバネ51によっである程度調整可能である。しか
し、両者の調整範囲を越える場合もあり得る。これに対
処するために、スタンドオフ量りが許容範囲にあるかど
うかを操作者にフィードバックしたほうが操作性の向上
のために得策である。この場合、マスクの自由度のうち
、スレーブの位置姿勢を規定する自由度にフィードバッ
クしたのでは、スレーブの位置姿勢への外乱となり操作
上好ましくない。従って、スレーブの位置姿勢には関係
のないマスクのエンドエフェクタ操作器に反力としてフ
ィードバックする。
エフェクタ1の伸縮軸、又は、接触型距離センサ5u〜
5Rのバネ51によっである程度調整可能である。しか
し、両者の調整範囲を越える場合もあり得る。これに対
処するために、スタンドオフ量りが許容範囲にあるかど
うかを操作者にフィードバックしたほうが操作性の向上
のために得策である。この場合、マスクの自由度のうち
、スレーブの位置姿勢を規定する自由度にフィードバッ
クしたのでは、スレーブの位置姿勢への外乱となり操作
上好ましくない。従って、スレーブの位置姿勢には関係
のないマスクのエンドエフェクタ操作器に反力としてフ
ィードバックする。
第10図は、エンドエフェクタ操作器101を含むマス
タのグリッパ10の一実施例を示す。操作者はグリッパ
103を握り、人差し指でエンドエフェクタ操作器10
1の部分を操作する。モータ102にトルクを与えるこ
とによって操作者は反力を感じることができる。104
は、トルク検出器である。第11図は、本実施例におけ
る制御装置20のブロックを示す。制御装置の基本構成
は、第二の実施例と同じである。異なる点は第二の実施
例がスレーブの位置Psをフィードバックしていたのに
対し、本実施例では、マスクのグリッパの反力f、をフ
ィードバックすることである。
タのグリッパ10の一実施例を示す。操作者はグリッパ
103を握り、人差し指でエンドエフェクタ操作器10
1の部分を操作する。モータ102にトルクを与えるこ
とによって操作者は反力を感じることができる。104
は、トルク検出器である。第11図は、本実施例におけ
る制御装置20のブロックを示す。制御装置の基本構成
は、第二の実施例と同じである。異なる点は第二の実施
例がスレーブの位置Psをフィードバックしていたのに
対し、本実施例では、マスクのグリッパの反力f、をフ
ィードバックすることである。
トルク指令部211では、モータ102に発生させるト
ルクTは、 T=R(1、−L O) −
(3)そこで、目標値計算部213では破線内30で示
す従来のマスクのグリッパトルク制御系に与える目標値
を計算する。従って、本実施例によれば、エンドエフェ
クタ2、又は、4を作業対象から離すことも無く、作業
を確実に実現できる。
ルクTは、 T=R(1、−L O) −
(3)そこで、目標値計算部213では破線内30で示
す従来のマスクのグリッパトルク制御系に与える目標値
を計算する。従って、本実施例によれば、エンドエフェ
クタ2、又は、4を作業対象から離すことも無く、作業
を確実に実現できる。
本発明によれば、マスタなどの作業内容教示装置の概略
的な教示でも、作業を確実、かつ、容易に実現すること
ができる。
的な教示でも、作業を確実、かつ、容易に実現すること
ができる。
第1図は、補助自由度をエンドエフェクタに持たせた時
の本発明の一実施例の斜視図、第2図は、第1図のエン
ドエフェクタと検出センサの断面図。 第3図は、検出センサと作業対象との関係を示す斜視図
、第4図は、制御装置のブロック図、第5図は、指令演
算部の通常の制御アルゴリズム図、第6図は、エンドエ
フェクタが作業対象の端部にきた時の指令演算部の制御
アルゴリズム図、第7図は、本発明の第二の実施例に適
用するスレーブマニピュレータの一構成例図、第8図は
、本発明の第二の実施例のエンドエフェクタと検出セン
サの構成図、第9図は、第二の実施例の制御装置のブロ
ック図、第10図は、第三の実施例に使用するマスクの
グリッパを示す図、第11図は、第三の実施例の制御装
置のブロック図である。 2・・・検出センサ、2u〜2R・・・距離センサ、3
・・・プラズマトーチ、5・・・接触型検出センサ、6
・・・制御装置、8・・・スレーブマニピュレータ、9
・・・作業対第1図 第2図 第3図 第4図 第5図 第6図 第7図 第8図 8(θ6) 第9図 第10図
の本発明の一実施例の斜視図、第2図は、第1図のエン
ドエフェクタと検出センサの断面図。 第3図は、検出センサと作業対象との関係を示す斜視図
、第4図は、制御装置のブロック図、第5図は、指令演
算部の通常の制御アルゴリズム図、第6図は、エンドエ
フェクタが作業対象の端部にきた時の指令演算部の制御
アルゴリズム図、第7図は、本発明の第二の実施例に適
用するスレーブマニピュレータの一構成例図、第8図は
、本発明の第二の実施例のエンドエフェクタと検出セン
サの構成図、第9図は、第二の実施例の制御装置のブロ
ック図、第10図は、第三の実施例に使用するマスクの
グリッパを示す図、第11図は、第三の実施例の制御装
置のブロック図である。 2・・・検出センサ、2u〜2R・・・距離センサ、3
・・・プラズマトーチ、5・・・接触型検出センサ、6
・・・制御装置、8・・・スレーブマニピュレータ、9
・・・作業対第1図 第2図 第3図 第4図 第5図 第6図 第7図 第8図 8(θ6) 第9図 第10図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、作業対象とエンドエフェクタとの関係の検出センサ
、作業を実行するスレーブマニピュレータ、作業内容教
示装置から構成され、前記検出センサの出力を前記作業
内容教示装置のうち前記スレーブマニピュレータの位置
姿勢を規定する以外の部分にフィードバックする制御装
置からなることを特徴とするマニピュレータ。 2、特許請求の範囲第1項記載のマニピュレータにおい
て、 前記スレーブマニピュレータを位置姿勢を規定する主自
由度とそれ以外の補助自由度とにより構成し、前記検出
センサの出力を前記補助自由度にフィードバックする制
御装置からなることを特徴とするマニピュレータ。 3、特許請求の範囲第2項記載のマニピュレータにおい
て、 補助自由度を前記エンドエフェクタに持たせたことを特
徴とするマニピュレータ。 4、特許請求の範囲第2項記載のマニピュレータにおい
て、 補助自由度を主自由度で兼ねたことを特徴とするマニピ
ュレータ。 5、特許請求の範囲第1項ないし第4項記載のマニピュ
レータにおいて、 前記作業内容教示装置をマスタマニピュレータとしたこ
とを特徴とするマニピュレータ。6、特許請求の範囲第
5項記載のマニピュレータにおいて、 前記検出センサの出力を前記マスタマニピュレータのエ
ンドエフェクタ制御する自由度にフィードバックする制
御装置からなることを特徴とするマニピュレータ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8294188A JPH01257579A (ja) | 1988-04-06 | 1988-04-06 | マニピユレータ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8294188A JPH01257579A (ja) | 1988-04-06 | 1988-04-06 | マニピユレータ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01257579A true JPH01257579A (ja) | 1989-10-13 |
Family
ID=13788248
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8294188A Pending JPH01257579A (ja) | 1988-04-06 | 1988-04-06 | マニピユレータ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01257579A (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
1988
- 1988-04-06 JP JP8294188A patent/JPH01257579A/ja active Pending
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