JPH01258683A - 7―/D(−)アルフア―アミノ アルフア―(p―ヒドロキシフエニル)アセトアミド/―3―(1,2,3―トリアゾル―4(5)―チオメチル―3―セフエム―4―カルボン酸1,2プロピレングリコレートの製造びその製造のための新規中間体 - Google Patents
7―/D(−)アルフア―アミノ アルフア―(p―ヒドロキシフエニル)アセトアミド/―3―(1,2,3―トリアゾル―4(5)―チオメチル―3―セフエム―4―カルボン酸1,2プロピレングリコレートの製造びその製造のための新規中間体Info
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- JPH01258683A JPH01258683A JP1041989A JP4198989A JPH01258683A JP H01258683 A JPH01258683 A JP H01258683A JP 1041989 A JP1041989 A JP 1041989A JP 4198989 A JP4198989 A JP 4198989A JP H01258683 A JPH01258683 A JP H01258683A
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Classifications
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D501/00—Heterocyclic compounds containing 5-thia-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. cephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
- C07D501/14—Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7
- C07D501/16—Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7 with a double bond between positions 2 and 3
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- C07D501/24—7-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids with hydrocarbon radicals, substituted by hetero atoms or hetero rings, attached in position 3
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- A61P31/00—Antiinfectives, i.e. antibiotics, antiseptics, chemotherapeutics
- A61P31/04—Antibacterial agents
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は7−/D(−)アルファーアミノ−アルファー
(p−ヒドロキシフェニル)アセトアミド/−3−(1
,2,3−トリアゾル−4(5)チオメチル−3−セフ
ェム−4−カルボン酸 1.2 −II’ロピレングリ
コレートの製造方法、及び該合成に際して有用な新規中
間体に関する。
(p−ヒドロキシフェニル)アセトアミド/−3−(1
,2,3−トリアゾル−4(5)チオメチル−3−セフ
ェム−4−カルボン酸 1.2 −II’ロピレングリ
コレートの製造方法、及び該合成に際して有用な新規中
間体に関する。
該化合物、7−/D(−)アルファーアミノ−アルファ
ー(p−ヒドロキシフェニル)アセトアミド/−3−(
1,2,3−)リアゾル−4(5)−イル)チオメチル
−3−セフェム−4−カルボン酸は共通国際名称(Co
mmon I nternational Nar
ne −DCI)で“セファトリジン(cephatr
izine)”と命名されている、経口的に活性な合成
セファロスポリンであり、本物質は本明細書及び特許請
求の範囲において上記の名称で示されている。
ー(p−ヒドロキシフェニル)アセトアミド/−3−(
1,2,3−)リアゾル−4(5)−イル)チオメチル
−3−セフェム−4−カルボン酸は共通国際名称(Co
mmon I nternational Nar
ne −DCI)で“セファトリジン(cephatr
izine)”と命名されている、経口的に活性な合成
セファロスポリンであり、本物質は本明細書及び特許請
求の範囲において上記の名称で示されている。
本発明を要約すれば、セファトリジン l、2−プロピ
レングリコレートは、p−ヒドロキシフェニルグリシン
クロリドの塩酸塩を7−アミノ−3−ヨー トメチル
−3−セフェム−4−カルボン酸と反応させ、こうして
得られた新規中間体7−/D(−)−アルファーアミノ
−アルファー(p−ヒドロキシフェニル)アセトアミド
/−3−ヨードメチル−3−セフェム−4−カルボン酸
を1.2−プロピレングリコール中で1.2.3−トリ
アゾール−4(5)−チオールのナトリウム塩で処理し
、次いで反応混合物に水を添加し、そこで沈殿した生成
物を単離することを特徴とする方法によって製造される
。
レングリコレートは、p−ヒドロキシフェニルグリシン
クロリドの塩酸塩を7−アミノ−3−ヨー トメチル
−3−セフェム−4−カルボン酸と反応させ、こうして
得られた新規中間体7−/D(−)−アルファーアミノ
−アルファー(p−ヒドロキシフェニル)アセトアミド
/−3−ヨードメチル−3−セフェム−4−カルボン酸
を1.2−プロピレングリコール中で1.2.3−トリ
アゾール−4(5)−チオールのナトリウム塩で処理し
、次いで反応混合物に水を添加し、そこで沈殿した生成
物を単離することを特徴とする方法によって製造される
。
下記式
によって表されるセファトリジンは安定性に乏しく、従
ってその製造の際及びそれを含む製薬学的な製剤には特
別な対策を必要とする欠点がある。
ってその製造の際及びそれを含む製薬学的な製剤には特
別な対策を必要とする欠点がある。
ドイツ国特許出願DE第2.500.386号は、以後
本明細書では“セファトリジンプロピレングリコレート
“と称する、下記式 によって表されるセファトリジンと1.2−プロピレン
グリコールの付加物を開示している。
本明細書では“セファトリジンプロピレングリコレート
“と称する、下記式 によって表されるセファトリジンと1.2−プロピレン
グリコールの付加物を開示している。
この誘導体はセファトリジンの不安定性に関連する製薬
技術的な問題を解決し、そして更にセファトリジンに関
して進歩した薬理学的動態論(kinet tcs)を
も呈示している。
技術的な問題を解決し、そして更にセファトリジンに関
して進歩した薬理学的動態論(kinet tcs)を
も呈示している。
上記のドイツ特許出願によれば、セファトリジンプロピ
レングリコレートはセファトリジンから又はそのメタル
−トから1.2−プロピレングリコールとの反応により
直接に製造され、その方法は、下記式: を有する7−アミノ−3−(1,2,3−)リアゾル−
4−(5)−イル)チオメチル3−セフェム−4−カル
ボン酸とD(−)−p−ヒドロキシフェニルグリシンの
反応性誘導体との反応により、ドイツ特許出願第2.3
64.192号に記載されるように、化合物(B)が予
めシリル化されているという条件下でのセファトリジン
の予備的な合成を含んでいる。
レングリコレートはセファトリジンから又はそのメタル
−トから1.2−プロピレングリコールとの反応により
直接に製造され、その方法は、下記式: を有する7−アミノ−3−(1,2,3−)リアゾル−
4−(5)−イル)チオメチル3−セフェム−4−カル
ボン酸とD(−)−p−ヒドロキシフェニルグリシンの
反応性誘導体との反応により、ドイツ特許出願第2.3
64.192号に記載されるように、化合物(B)が予
めシリル化されているという条件下でのセファトリジン
の予備的な合成を含んでいる。
セファトリジンプロピレングリコレートの工業的製造に
おいては、二重の溶媒化(solvation)が実施
され;最初はメタノールと、その後は1.2−プロピレ
ングリコールとの溶媒化である。
おいては、二重の溶媒化(solvation)が実施
され;最初はメタノールと、その後は1.2−プロピレ
ングリコールとの溶媒化である。
更にこの方法によれば、生成物の単離の前にpHを約4
の値までに調節しなければならない。
の値までに調節しなければならない。
セファトリジンプロピレングリコレートは、7−アミノ
−3−ヨードメチル3−セフェム−4−カルボン酸から
出発して、この化合物をD (−)−p−ヒドロキシフ
ェニル−グリシルクロリド塩酸塩と反応させ、こうして
得られた新規中間体化合物、即ち7 /D(=)−ア
ルファーアミノ−アルファー(p−ヒドロキシフェニル
)アセトアミド/−3−ヨードメチル−3−セフェム−
4−カルボン酸を単離し、これを1.2.3−トリアゾ
ル−4(5)−チオールのナトリウム塩と反応させるこ
とによりセファトリジンプロピレングリコレートに変換
する直接合成法により容易に得ることができることが新
規に見出だされた。
−3−ヨードメチル3−セフェム−4−カルボン酸から
出発して、この化合物をD (−)−p−ヒドロキシフ
ェニル−グリシルクロリド塩酸塩と反応させ、こうして
得られた新規中間体化合物、即ち7 /D(=)−ア
ルファーアミノ−アルファー(p−ヒドロキシフェニル
)アセトアミド/−3−ヨードメチル−3−セフェム−
4−カルボン酸を単離し、これを1.2.3−トリアゾ
ル−4(5)−チオールのナトリウム塩と反応させるこ
とによりセファトリジンプロピレングリコレートに変換
する直接合成法により容易に得ることができることが新
規に見出だされた。
更に本発明の方法によれば、セファトリジンプロピレン
グリコレートは最終反応混合物を単に水で希釈すること
により、そのpH値を調節することなく単離できること
が見出だされた。これは混合物のpHが既に抗生物質の
等電点に対応する3゜8−4.0となっているからであ
る。
グリコレートは最終反応混合物を単に水で希釈すること
により、そのpH値を調節することなく単離できること
が見出だされた。これは混合物のpHが既に抗生物質の
等電点に対応する3゜8−4.0となっているからであ
る。
従って本発明の一つの態様によれば、本発明は=(a)
下記式: 但し、Xは塩素又は沃素である、 の7−アミノ−3−ハロメチル−3−セフェム−4−カ
ルボン酸を、下記式: %式% ロリド塩酸塩と反応させて、下記式: 但し、Xは塩素又は沃素である、 の7−:D(−)−アル7アーアミノーアルフアー(p
−ヒドロキシフェニル)アセトアミド/−3−ハロメチ
ル−3−セフェム−4−カルボン酸を得るこ゛と ; 但し、式■の化合物において、Xが塩素である場合は、
上記のようにして得られた生成物は沃素供与化合物で処
理されること: (b)上記のようにして得られたXが沃素でちる式■の
化合物を単離すること; (C)後記の化合物を1.2−プロピレングリコール中
で下記式 の1.2.3−1−リアゾール−4(5)−チオールの
ナトリウム塩と反応させること;次いで(d)反応混合
物に水を添加し、そこで沈殿した生成物を単離すること を特徴とする式Iのセファトリジンプロピレングリコレ
ートの製造方法に関する。
下記式: 但し、Xは塩素又は沃素である、 の7−アミノ−3−ハロメチル−3−セフェム−4−カ
ルボン酸を、下記式: %式% ロリド塩酸塩と反応させて、下記式: 但し、Xは塩素又は沃素である、 の7−:D(−)−アル7アーアミノーアルフアー(p
−ヒドロキシフェニル)アセトアミド/−3−ハロメチ
ル−3−セフェム−4−カルボン酸を得るこ゛と ; 但し、式■の化合物において、Xが塩素である場合は、
上記のようにして得られた生成物は沃素供与化合物で処
理されること: (b)上記のようにして得られたXが沃素でちる式■の
化合物を単離すること; (C)後記の化合物を1.2−プロピレングリコール中
で下記式 の1.2.3−1−リアゾール−4(5)−チオールの
ナトリウム塩と反応させること;次いで(d)反応混合
物に水を添加し、そこで沈殿した生成物を単離すること を特徴とする式Iのセファトリジンプロピレングリコレ
ートの製造方法に関する。
・ 本発明の工程(a)は塩化メチレンのような有機溶
剤中でトリメチルクロロシラン、七ツートリメチルシリ
ルアセトアミド、ビス−トリメチルシリルアセトアミド
、ヘキサメチルジシラザン、ビス−トリメチルシリル尿
素又はそれらの混合物のようなシリル化剤の存在におい
て行なわれることが好適である。
剤中でトリメチルクロロシラン、七ツートリメチルシリ
ルアセトアミド、ビス−トリメチルシリルアセトアミド
、ヘキサメチルジシラザン、ビス−トリメチルシリル尿
素又はそれらの混合物のようなシリル化剤の存在におい
て行なわれることが好適である。
こうして式■の出発化合物は可溶化され、シリル化剤に
よって活性化される。
よって活性化される。
D C−) −p−ヒドロキシフェニル−グリシルクロ
リド塩酸塩との縮合はN、N−ジメチルアニリンスは4
−(N、N−ジメチルアミノ)ピリジンの存在下に低温
度で、好適には−15℃ないし一20℃において行なわ
れる。
リド塩酸塩との縮合はN、N−ジメチルアニリンスは4
−(N、N−ジメチルアミノ)ピリジンの存在下に低温
度で、好適には−15℃ないし一20℃において行なわ
れる。
式■の出発化合物においてXが塩素である時には、以上
のようにして得られるXが塩素である式■の化合物を沃
素供与体で処理し、Xが沃素である式■の基幹的中間体
に変換される。
のようにして得られるXが塩素である式■の化合物を沃
素供与体で処理し、Xが沃素である式■の基幹的中間体
に変換される。
沃素供与体としては塩素原子を沃素原子に交換できる沃
素化化合物であれば何でも使用でき、例えばアルカリ金
属の沃素化物、好適には沃化ナトリウムが使用できる。
素化化合物であれば何でも使用でき、例えばアルカリ金
属の沃素化物、好適には沃化ナトリウムが使用できる。
こうして得られt;xが沃素である式■の化合物は、後
に本発明の工程(b)において、標準的方法により、例
えば室温で反応混合物に水を添加し、そこで得られた沈
殿を濾過することにより、更に精製することなく単離さ
れる。
に本発明の工程(b)において、標準的方法により、例
えば室温で反応混合物に水を添加し、そこで得られた沈
殿を濾過することにより、更に精製することなく単離さ
れる。
工程(c)において、Xが沃素である弐■の化合物は、
最高20%の水を含んでいてもよい1.2−プロピレン
グリコール中に溶解され、水に溶解した僅かに過剰量の
Vの化合物で処理され、そしてこの反応は室温(約20
ないし25℃)で所要時間が30分間ないし2時間にわ
たって行なわれる。
最高20%の水を含んでいてもよい1.2−プロピレン
グリコール中に溶解され、水に溶解した僅かに過剰量の
Vの化合物で処理され、そしてこの反応は室温(約20
ないし25℃)で所要時間が30分間ないし2時間にわ
たって行なわれる。
その後の工程(d)においては、反応混合物に水が加え
られ、沈殿するセファトリジンプロピレングリコレート
が簡単な濾過により単離される。
られ、沈殿するセファトリジンプロピレングリコレート
が簡単な濾過により単離される。
本発明によれば新規且つ有用な中間体を使用して、セフ
ァトリジンプロピレングリコレートを最適な収率で製造
することが可能である。
ァトリジンプロピレングリコレートを最適な収率で製造
することが可能である。
その結果として本発明のもう一つの特徴は式■の新規中
間体化合物に存し、とりわけ沃素化誘導体(X−沃素)
が特に好適である。
間体化合物に存し、とりわけ沃素化誘導体(X−沃素)
が特に好適である。
式■及び弐■の出発化合物は各文献中で周知である。
下記の実施例は本発明を例示するものであるが、本発明
を限定するものではない。
を限定するものではない。
実施例 1
(a)120 amの塩化メチレン中に懸濁した0、0
3モルの7−アミノ−3−ヨードメチル−3−セフェム
−4−カルボン酸の懸濁物に0.062モルのへキサメ
チルジシラザン及び0.55 gのトリメチルクロロシ
ランを添加する。
3モルの7−アミノ−3−ヨードメチル−3−セフェム
−4−カルボン酸の懸濁物に0.062モルのへキサメ
チルジシラザン及び0.55 gのトリメチルクロロシ
ランを添加する。
混合物を3時間還流すると透明な溶液が得られる。−2
0℃に冷却後、0.09モルのN、N−ジメチルアニリ
ン及び次いで0.033モルのD(−)−p−ヒドロキ
シフェニルグリシンクロリド塩酸塩をジオキサン半溶媒
化物(hemidioxane 5olvate)の形
態で添加する。
0℃に冷却後、0.09モルのN、N−ジメチルアニリ
ン及び次いで0.033モルのD(−)−p−ヒドロキ
シフェニルグリシンクロリド塩酸塩をジオキサン半溶媒
化物(hemidioxane 5olvate)の形
態で添加する。
混合物を−15ないし一20℃で2時間撹拌する。
(b)反応の終わりに温度が20℃に上がるままにし、
混合物を60鱈の水で処理する;固形の生成物が分離し
、それを濾過し、水及び次ぎにアセトン−で洗浄し、3
0℃で真空下に乾燥する。
混合物を60鱈の水で処理する;固形の生成物が分離し
、それを濾過し、水及び次ぎにアセトン−で洗浄し、3
0℃で真空下に乾燥する。
こうして式■の7−/D(−)−アルファーアミノ−ア
ルファー(p−ヒドロキシフェニル)アセトアミI’/
−3−ヨードメチル−3−セフェム−4−カルボン酸(
X−沃素)が理論量の88%の収率で得られる; 融点180−183℃(分解)。
ルファー(p−ヒドロキシフェニル)アセトアミI’/
−3−ヨードメチル−3−セフェム−4−カルボン酸(
X−沃素)が理論量の88%の収率で得られる; 融点180−183℃(分解)。
赤外(KBr中)及び’H−NMR(DMSO−d、)
スペクトルは前掲の構造に一致している。
スペクトルは前掲の構造に一致している。
Cr 6 Hr 6 N s I Os S (分子量
489.289)としての分析。
489.289)としての分析。
計算%:C39,28−H3,3O−N8−59−I−
25,93−56,55 実測%:C39,34−H3,33−N9.57−1−
25.97−56.55 (C)80!112の1,2 プロピレングリコール
及び10mgの水から成る混合物中に溶かした0、01
5モルの化合物IV(X−沃素)の溶液に12m+2の
水に溶かした0、018モルの1.2.3−トリアゾー
ル−4(5)−チオールのナトリウム塩の溶液を添加し
、反応混合物を撹拌しなから20ないし25℃に1時間
保つ。
25,93−56,55 実測%:C39,34−H3,33−N9.57−1−
25.97−56.55 (C)80!112の1,2 プロピレングリコール
及び10mgの水から成る混合物中に溶かした0、01
5モルの化合物IV(X−沃素)の溶液に12m+2の
水に溶かした0、018モルの1.2.3−トリアゾー
ル−4(5)−チオールのナトリウム塩の溶液を添加し
、反応混合物を撹拌しなから20ないし25℃に1時間
保つ。
(d)反応混合物を55mgの水で希釈し、沈殿する生
成物を炉別し、l、2−プロピレングリコール−水の混
合物(5/1 v/v)で洗浄し、真空下に35°C
で乾燥する。標準試料と同一なセファトリジンプロピレ
ングリコレートが95%の収率で得られる。
成物を炉別し、l、2−プロピレングリコール−水の混
合物(5/1 v/v)で洗浄し、真空下に35°C
で乾燥する。標準試料と同一なセファトリジンプロピレ
ングリコレートが95%の収率で得られる。
実施例 2
(a)l OOmQのジオキサンに懸濁した0、03モ
ルの7−アミノ−3−ヨードメチル−3−セフェム−4
−カルボン酸の懸濁物に0.062モルのへキサメチレ
ンジシラザン及び0.55 gのトリメチルクロロシラ
ンを添加し、得られた混合物を35°Cで2時間半加熱
する。
ルの7−アミノ−3−ヨードメチル−3−セフェム−4
−カルボン酸の懸濁物に0.062モルのへキサメチレ
ンジシラザン及び0.55 gのトリメチルクロロシラ
ンを添加し、得られた混合物を35°Cで2時間半加熱
する。
こうして得られた透明な溶液を次いで約10℃に冷却し
、0.09モルのD−(−)−p−ヒドロキシフェニル
グリシルクロリド塩酸塩をジオキサンの半溶媒化物とし
て添加し、混合物を一15℃ないし一20°Cで2時間
撹拌する。
、0.09モルのD−(−)−p−ヒドロキシフェニル
グリシルクロリド塩酸塩をジオキサンの半溶媒化物とし
て添加し、混合物を一15℃ないし一20°Cで2時間
撹拌する。
(b)実施例1 (b)に記載されたように処理すると
、実施例1(b)の化合物と同一な7−/D(−)−ア
ルファーアミノ−アルファー(p−ヒドロキシフェニル
)アセトアミド/−3−ヨードメチル−3−セフェム−
4−カルボン酸が90%の収率で得られる。
、実施例1(b)の化合物と同一な7−/D(−)−ア
ルファーアミノ−アルファー(p−ヒドロキシフェニル
)アセトアミド/−3−ヨードメチル−3−セフェム−
4−カルボン酸が90%の収率で得られる。
引き続き実施例1 (c)及び(d)に記載されたよう
に処理すると、セファトリジンプロピレングリコレート
が95%の収率で得られる。
に処理すると、セファトリジンプロピレングリコレート
が95%の収率で得られる。
実施例 3
(a)l 00 mQのジオキサン中に懸濁しIl、0
3モルの7−アミノ−3−クロロメチル−3−セフェム
−4−カルボン酸の懸濁物に0.062モルのヘキサメ
チルジシラザンを添加し、得られた混合物を35℃で3
時間加熱する。こうして得られた透明な溶液を約10℃
に冷却し、その後0.09モルのD−(−)−p−ヒド
ロキシフェニルグリシルクロリド塩酸塩をジオキサンの
半溶媒化物として添加し、混合物を一15°Cないし一
20°Cで2時間撹拌する。
3モルの7−アミノ−3−クロロメチル−3−セフェム
−4−カルボン酸の懸濁物に0.062モルのヘキサメ
チルジシラザンを添加し、得られた混合物を35℃で3
時間加熱する。こうして得られた透明な溶液を約10℃
に冷却し、その後0.09モルのD−(−)−p−ヒド
ロキシフェニルグリシルクロリド塩酸塩をジオキサンの
半溶媒化物として添加し、混合物を一15°Cないし一
20°Cで2時間撹拌する。
放置して反応温度を20−25℃に上げ、次いで60藺
aの水で処理する。
aの水で処理する。
分離した固体状の生成物を濾過し、水及び次いでアセト
ンで洗浄し、真空下で30°Cで乾燥する。
ンで洗浄し、真空下で30°Cで乾燥する。
7−/D(−)−アルファーアミノ−アルファー(p−
ヒドロキシフェニル)アセトアミド/−3−クロロメチ
ル−3−セフェム−4−カルボン酸(式■、X−塩素)
が理論量の89%の収率で得られる。融点161−16
4℃(分解)。
ヒドロキシフェニル)アセトアミド/−3−クロロメチ
ル−3−セフェム−4−カルボン酸(式■、X−塩素)
が理論量の89%の収率で得られる。融点161−16
4℃(分解)。
赤外CKBr中)及び’ HN M R(D M S
O−di)スペクトルは前掲の構造と一致している。4
50mQのアセトニトリルに溶かした0、3モルの沃化
ナトリウムの溶液に0.3モルの生成化合物(式■、X
−塩素)を添加し、そして反応混合物を室温(20/2
5℃)で2時間撹拌する。
O−di)スペクトルは前掲の構造と一致している。4
50mQのアセトニトリルに溶かした0、3モルの沃化
ナトリウムの溶液に0.3モルの生成化合物(式■、X
−塩素)を添加し、そして反応混合物を室温(20/2
5℃)で2時間撹拌する。
(b)反応の終了後、混合物を450mQの水に注加す
る。沈殿を濾過し、水で洗浄し、真空下で30°Cで乾
燥する。実施例1 (b)の化合物と同一な7−/D(
−)−アルファーアミノ−アルファー(p−ヒドロキシ
フェニル)アセトアミド/−3−ヨードメチル−3−セ
フェム−4−カルボン酸が得られる。収率は理論値の8
0%である。実施例1(C)及び(d)に記載されたよ
うに処理すると、セフ71−リジンプロピレングリコレ
ートが理論量の90%の収率で得られる。
る。沈殿を濾過し、水で洗浄し、真空下で30°Cで乾
燥する。実施例1 (b)の化合物と同一な7−/D(
−)−アルファーアミノ−アルファー(p−ヒドロキシ
フェニル)アセトアミド/−3−ヨードメチル−3−セ
フェム−4−カルボン酸が得られる。収率は理論値の8
0%である。実施例1(C)及び(d)に記載されたよ
うに処理すると、セフ71−リジンプロピレングリコレ
ートが理論量の90%の収率で得られる。
本発明の主なる特徴及び態様は以下の通りである。
1、(a)下記式:
但し、Xは塩素又は沃素である、
の7−アミノ−3−ハロメチル−3−セフェム−4−カ
ルボン酸を、下記式: %式% ロリド塩酸塩と反応させて、下記式: 但し、Xは塩素又は沃素である、 の7−/D(−)−アルファーアミノ−アルファー(p
−ヒドロキシフェニル)アセトアミド/−3−ハロメチ
ル−3−セフェム−4−カルボン酸ヲ得ること; 但し、式■の化合物において、Xが塩素である場合は、
上記のようにして得られた生成物は沃素供与化合物で処
理されること: (b)上記のようにして得られたXが沃素である式■の
化合物を単離すること; (c)後記の化合物を1.2−プロピレングリコール中
で下記式 の1,2.3−1−リアゾール−4(5)−チオールの
ナトリウム塩と反応させること;次いで(d)反応混合
物に水を添加し、そこで沈殿した生成物を単離すること を特徴とする式: のセファトリジンプロピlノングリコレートの製造方法
。
ルボン酸を、下記式: %式% ロリド塩酸塩と反応させて、下記式: 但し、Xは塩素又は沃素である、 の7−/D(−)−アルファーアミノ−アルファー(p
−ヒドロキシフェニル)アセトアミド/−3−ハロメチ
ル−3−セフェム−4−カルボン酸ヲ得ること; 但し、式■の化合物において、Xが塩素である場合は、
上記のようにして得られた生成物は沃素供与化合物で処
理されること: (b)上記のようにして得られたXが沃素である式■の
化合物を単離すること; (c)後記の化合物を1.2−プロピレングリコール中
で下記式 の1,2.3−1−リアゾール−4(5)−チオールの
ナトリウム塩と反応させること;次いで(d)反応混合
物に水を添加し、そこで沈殿した生成物を単離すること を特徴とする式: のセファトリジンプロピlノングリコレートの製造方法
。
2、工程(a)においてD(−7i−p−ヒドロキシ7
1ニル−グリシルクロリド塩酸塩がジオキリン半溶媒化
物(hemidioxane 5olvate)である
付加物として使用される上記lに記載の方法。
1ニル−グリシルクロリド塩酸塩がジオキリン半溶媒化
物(hemidioxane 5olvate)である
付加物として使用される上記lに記載の方法。
3、工程(a)において、出発物質として7−アミノ−
3−ヨードメチル−3−セフェム−4−カルボン酸が使
用される上記lに記載の方法。
3−ヨードメチル−3−セフェム−4−カルボン酸が使
用される上記lに記載の方法。
4、出発物質として7−アミノ−3−クロロメチル−3
−セフェム−4−カルボン酸が使用され、次いで得られ
且つ生成物が沃素供与化合物で処理される上記lに記載
の方法。
−セフェム−4−カルボン酸が使用され、次いで得られ
且つ生成物が沃素供与化合物で処理される上記lに記載
の方法。
5、沃素供与化合物として沃化ナトリウムが使用される
上記4に記載の方法。
上記4に記載の方法。
6、工程(c)において、反応が20%迄の水を含む1
,2−プロピレングリコール中で行なわれる上記lない
し5のいずれかに記載の方法。
,2−プロピレングリコール中で行なわれる上記lない
し5のいずれかに記載の方法。
76下記式
但し、Xは塩素又は沃素である、
の化合物。
8、上記7による7−/D(−)−アルファーアミノ−
アルファー(p−ヒドロキシフェニル)アセトアミ)’
/−3−ヨードメチルー3−セフェム−4−カルボン酸
。
アルファー(p−ヒドロキシフェニル)アセトアミ)’
/−3−ヨードメチルー3−セフェム−4−カルボン酸
。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、(a)下記式: ▲数式、化学式、表等があります▼(II) 但し、Xは塩素又は沃素である、 の7−アミノ−3−ハロメチル−3−セフェム−4−カ
ルボン酸を、下記式: ▲数式、化学式、表等があります▼(III) のD(−)−p−ヒドロキシフェニル−グリシルクロリ
ド塩酸塩と反応させて、下記式:▲数式、化学式、表等
があります▼(IV) 但し、Xは塩素又は沃素である、 の7−/D(−)−アルファ−アミノ−アルファ−(p
−ヒドロキシフェニル)アセトアミド/−3−ハロメチ
ル−3−セフェム−4−カルボン酸を得ること; 但し、式IVの化合物において、Xが塩素である場合は、
上記のようにして得られた生成物は沃素供与化合物で処
理される、 (b)上記のようにして得られたXが沃素である式IVの
化合物を単離すること; (c)後記の化合物を1,2−プロピレングリコール中
で下記式 ▲数式、化学式、表等があります▼(V) の1,2,3−トリアゾール−4(5)−チオールのナ
トリウム塩と反応させること;次いで (d)反応混合物に水を添加し、そこで沈殿した生成物
を単離すること を特徴とする式: ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) のセファトリジンプロピレングリコレートの製造方法。 2、下記式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 但し、Xは塩素又は沃素である、 の化合物。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| IT19513A/88 | 1988-02-24 | ||
| IT8819513A IT1233864B (it) | 1988-02-24 | 1988-02-24 | Procedimento per la fabbricazione dell'acido 7-(d-(-)-alfa-amino-alfa -(p-idrossifenil)acetamido)-3-(1,2,3-triazol-4(5)-il)tiometil-3-cefem -4-carbossilico 1,2,-propilenglicolato e intermedio alogenato di detto procedimento |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01258683A true JPH01258683A (ja) | 1989-10-16 |
Family
ID=11158670
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1041989A Pending JPH01258683A (ja) | 1988-02-24 | 1989-02-23 | 7―/D(−)アルフア―アミノ アルフア―(p―ヒドロキシフエニル)アセトアミド/―3―(1,2,3―トリアゾル―4(5)―チオメチル―3―セフエム―4―カルボン酸1,2プロピレングリコレートの製造びその製造のための新規中間体 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
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| JP (1) | JPH01258683A (ja) |
| KR (1) | KR890013030A (ja) |
| CN (1) | CN1024417C (ja) |
| IT (1) | IT1233864B (ja) |
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|---|---|---|---|---|
| KR20020069432A (ko) * | 2001-02-26 | 2002-09-04 | 한미약품공업 주식회사 | 4-히드록시페닐글리신 유도체를 이용한 세팔로스포린화합물의 제조방법 |
| KR100404685B1 (ko) * | 2001-02-26 | 2003-11-10 | 한미약품 주식회사 | 4-히드록시페닐글리신 무수물을 이용한 세팔로스포린화합물의 제조방법 |
| CN100554271C (zh) * | 2007-07-27 | 2009-10-28 | 苏州中联化学制药有限公司 | 抗菌素头孢孟多酯钠的合成方法 |
| CN103772414B (zh) * | 2013-12-31 | 2016-03-09 | 福建省福抗药业股份有限公司 | 一种制备丙二醇头孢曲嗪的制备方法 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3970651A (en) * | 1974-01-07 | 1976-07-20 | Bristol-Myers Company | Crystalline cephalosporin derivative |
-
1988
- 1988-02-24 IT IT8819513A patent/IT1233864B/it active
-
1989
- 1989-02-23 US US07/314,025 patent/US4965355A/en not_active Expired - Fee Related
- 1989-02-23 KR KR1019890002133A patent/KR890013030A/ko not_active Abandoned
- 1989-02-23 JP JP1041989A patent/JPH01258683A/ja active Pending
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|---|---|
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| CN1024417C (zh) | 1994-05-04 |
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| CN1037902A (zh) | 1989-12-13 |
| KR890013030A (ko) | 1989-09-20 |
| US4965355A (en) | 1990-10-23 |
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