JPH01258761A - 両面同時塗布装置 - Google Patents

両面同時塗布装置

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JPH01258761A
JPH01258761A JP8484388A JP8484388A JPH01258761A JP H01258761 A JPH01258761 A JP H01258761A JP 8484388 A JP8484388 A JP 8484388A JP 8484388 A JP8484388 A JP 8484388A JP H01258761 A JPH01258761 A JP H01258761A
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coater
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rolls
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Masamichi Kido
貴堂 雅路
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Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
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OKAZAKI KIKAI KOGYO KK
Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C9/00Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important
    • B05C9/04Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important for applying liquid or other fluent material to opposite sides of the work

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  • Coating Apparatus (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 「産業上の利用分野」 本発明は両面同時塗布装置に関し、更に詳しくは、特に
フッ素系等の水性ディスパージョン等をプラスチックフ
ィルム等からなる基材両面に同時に塗布するのに好適な
リバースロールコーク一方式の両面同時塗布装置に関す
るものである。
「従来技術と問題点」 従来、基材の両面に同時に水性ディスパージョン等を塗
布する両面同時塗布装置としては種々の装置が実用化さ
れている。しかし、これらの装置は基材が紙の場合が多
く、例えば、第1図のものが代表的である。この装置は
巻出機(1)から繰り出された紙からなる基材(4)を
ガイドロール(6)を経て浸漬槽(2)中に浸漬したス
チールロール(5)に導き、基材(4)の両面に塗布液
(7)を塗布した後、かきとりロール(3)、(3′)
等にてスクイズして塗布液(7)を基材(4)に浸透さ
せ、両面塗布された基材(8)を得る。この装置は塗布
液(7)が基材(4)に浸透する場合には効果的である
が、プラスチックフィルムを基材として所定の塗布厚に
塗布しようとするような場合には、プラスチックフィル
ムは祇の場合の様にロールで押さえて安定的に保持でき
ないため、基材(4)をかきとりロール(3)、(3′
)等の間で一定位置に安定的に固定保持することが掻め
て困Iηである。
又、第2図はもう1つの代表的な装置である。
この装置の場合は転写式である。即ち、巻出機(1)よ
り繰り出された基材(4)はガイドロール(6)を経て
、塗布液貯槽(9)、(9′)内の塗布液(7)、(7
′)をクリーニングドクター(12)、(12’)によ
り適当量くみ上げたピックアップロール(lO)、(1
0’)及びコーターロール(11)、(11’)により
殆ど同時に転写塗布される。この装置の場合は転写率が
高い(即ち、基材と塗布液の組み合わせがよい)場合に
は品質的に良好なものが得られるが、基材の親和性、液
そのものの性質等により転写率の悪い塗布液、例えばフ
ッ素系の水性ディスパージョン等の場合には、品質、特
に外観上きれいなものは得られない。
「問題点を解決するための手段」 本発明者はかかる実情に鑑み、プラスチックフィルムの
両面にフッ素系水性ディスパージョンを塗布するような
場合にも好適な両面同時塗布装置について鋭意研究した
結果、本発明に到達したものである。
即ら、本発明は水性ディスパージョンを基材の両面に同
時に塗布する装置において、2つのコーターヘッドを有
し夫々のコーターロールを基材の厚み相当の距離まで近
接させ、夫々のコーターロールカ他のコーターヘッドの
バノクアフプロールとなるように配設したリバースロー
ルコーター方式の両面同時塗布装置を内容とするもので
ある。
本発明に使用される基材としては特に制限されないが、
特にプラスチックフィルムを基材とする場合に好適であ
り、例えばポリイミドフィルム、ポリアミドフィルム、
ポリパラバン酸フィルム、芳香族ポリアミドフィルムに
代表されるいわゆる耐熱性のプラスチックフィルムが挙
げられる。厚みは特に制限されないが、あまり薄すぎる
とフィルムの破断を招き、又、あまり厚すぎるとコータ
ーロールへの密着も不安全となることから5μm〜30
0μmが好ましい。
本発明に使用される水性ディスパージョンは特に制限さ
れないが、特に転写率の悪いフッ素系ディスパージョン
等に好適である。フッ素系のディスパージョンはフッ素
を含有する水性のディスパージョンであり、テトラフル
オロエチレン(TFE)、テトラフルオロエチレン−へ
キサフルオロプロピレン共重合体(FEP) 、テトラ
フルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテ
ル共重合体(PFA)、テトラフルオロエチレン−エチ
レン共重合体(ETFE)及び塩素を含むポリクロロ1
−リフルオロエチレン等のフッ素樹脂ヲ含む水性のディ
スパージョンである。
このディスパージョンの固形分濃度は10−tχ〜70
wtzが適当であるが、最終の製品厚み、ディスパージ
ョン粘度等との関連で決定される。また、このディスパ
ージョンの粘度としては1cp(センチボイズ)〜10
0p(ボイズ)が好ましい。より好ましくは50cp〜
5pである*ICp未満あるいはtoopを越える粘度
の場合は、転写効率が悪くなり、外観の悪い塗布面とな
る。
一方、このディスパージョンに粘度を調整するための増
粘剤あるいは、メタノール等の溶剤、塗布時に発生する
泡を消すための消泡剤、あるいはディスパージョンを着
色するための顔料等を添加することは一向に構わない。
本発明を実施態様を示す図面に基づいて説明する。
第3図、第4図はともに1つのコーターヘッドが、2本
のロール即ち、ピンクアップロールとコーク−ロール(
23)(24)、及び(23’)(24’)とから構成
されている。第3図は基材(25)を上方に引っばる場
合であり、第4図は基材(25)を水平方向に引っばる
場合である。
第3図、第4図において、基材(25)は巻出機(21
)より繰り出され、塗布液貯槽(22)、(22’)よ
りピックアンプロール(23)、(23′)で塗布ン1
!i、(27)、(27’)をくみあげ、コーターロー
ル(24)、(24’)にて基材(25)の両面にほぼ
同時に塗布され、塗布液が両面に塗布された基材(28
)を得る。基本的にはピンクアノブロール(23)、(
23’)をゴムロールとし、コーターロール(24)、
(24’)をスチールロールとする方が塗布厚みの厚み
117度の点から好ましいが、2つのコーターヘッドの
内の1つのコーターヘッドについてはピックアップロー
ルをスチールロールとし、コーターロールをゴムロール
とすることは一向に構わない。ピックアップロール(2
3)、(23’)はクリーニングドクターを有していな
い。2つのコーターロール(24)、(24’)の間の
クリアランスは、基材(25)の厚みより若干広く設定
される。クリアランスの下限は基材の厚みであり、上限
は夫々のコーターヘッドが相互のバックアップロールの
機能を発揮するクリアランスである。塗布厚にも依存す
るが、基材の3倍の厚さがクリアランスのほぼ上限値に
なる。
次に、基材(25)のスピードとコーターロール(24
)、(24’)の表面のスピードであるが、この塗布法
において、コーク−ロールとビックアンプロール(24
)  (23)、 (24’)  (23)の間のクリ
アランスは基本的にはできるだけ狭くして、コーターロ
ール(24)、(24’)上に薄膜をつくり、基材(2
5)の上にコーターロール(24)、(24’)上の薄
膜を1.1回〜20回重ねて転写していく方法が好まし
い。従って、コーターロール(24)、(24’)の表
面のスピードは基材(25)のスピードの1.1倍〜2
0倍が好ましい。もし、2つのコーターロール(24)
、(24’)の間のクリアランスが十分に基材(25)
の厚みに近づけば、バックアップロールの機能が十分発
揮されて転写率が高まり、従って同じ塗布厚を得ようと
すれば、コーターロール表面と基材のスピードの比を小
さくする必要が生じる。また、逆に2つのコーターロー
ル(24)、(24’)の間のクリアランスが基材(2
5)の厚みより遠ざかれば、バックアップロールの機能
も低下し転写率が低下するため、コーターロール表面と
基材のスピードの比を大きくする必要があ各ロールの回
転方向であるが、コーターロール(24)、(24’)
については基材(25)の進む方向と反対方向に転写さ
せる。一方、ピックアップロール(23)、(23’)
の回転方向はどちらでも構わな、い。但し、第4図のよ
うに上方の塗布液貯槽(22’)より供給する場合は回
転方向は制約され、コーターロール(24’)は基材(
25)の進む方向と逆方向に、ピンクアップロール(2
3’)は基材(25)の進む方向に回転させる。
第5図、第6図はいずれも本発明装置の他の実施r4様
を示し、ともに各コーターヘッドが3本のロール即ち、
ピックアンプロールとメタリングロールとコーターロー
ル(23)(29)(24)、(23’)(29’)(
24’)とから構成されている。第5図は基材(25)
を上方に引っばる場合であり、第6図は基材(25)を
水平方向に引っばる場合である。
第5図、第6図において、基材(25)は巻出In(2
1)より繰り出され、塗布液貯槽(22)、(22’)
よりピンクアノブロール(23)、(23′)で塗布液
(27)、(27’)をくみあげメタリングロール(2
9)、(29’)で計量され、コーターロール(24)
、(24’)にて基材(25)の両面にほぼ同時に塗布
され、塗布液が両面に塗布された基材(28)を得る。
3本のロールの材質はコーターロール(24)、(24
’)はスチールロール、メタリングロール(29)、(
29′)はゴムロールとする方が塗布厚みの厚み精度の
点から好ましいが、2つのコーターヘッドの内、1つの
コーターヘッドについてはコーターロールをゴムロール
、メタリングロールをスチールロールとしても構わない
、一方、ピンクアップロールについてはメタリングロー
ルがスチールロールであればゴムロールとし、メタリン
グロールがゴムロールであればピックアップロールをス
チールロールとした方が好ましい、ピンクアップロール
(23)、(23’)は第5図、第6図から明らがな如
く、クリーニングドクターを有していない。
2つのコーターロール(24)、(24’)の間のクリ
アランスは第3図、第4図の場合と同様であり、又、基
材(25)とコーターロール(24)、(24’)の表
面のスピードの関係も第3図、第4図の場合と同様であ
る。各ロールの回転方向であるが、コーターロール(2
4)、(24’)については基材(25)の進む方向と
反対方向に回転させる。一方、ピックアップロール(2
3)、(23′)、メタリングロール(29)、(29
′)の回転方向はどちらでも構わない。但し、第6図の
ように、上方の塗布液貯槽(22’)より塗布液(27
’)を供給する場合は、回転方向は制約され、ピックア
ップロール(23’)は基材(25)の進む方向、メタ
リングロール(29’)は基材(25)の進む方向と逆
方向に回転させる。
第7図は本発明の更に他の実施態様を示し、コーターヘ
ッドがそれぞれ1本のコーターロールと塗布量を計量す
るためのコーティングナイフ(24)(30)、(24
’)(30’)とから構成されている。同図において、
基材(25)は巻出機(21)より繰り出され、塗布液
貯槽(22)、(22’)でコーターロール(24)、
(24’)上に付着した塗布液(27)、(27’)が
コーティングナイフ(30)、(30’)によりコーク
−ロール(24)、(24’)上で計量され、基材(2
5)の両面にほぼ同時に塗布され、塗布液が両面に塗布
された基材(28)が得られる。
2つのコーターロール(24)、(24’)の間のクリ
アランスは、前記第3図、第4図の場合と同様である。
コーターロール(24)、(24’ )の材質はスチー
ルロールであってもゴムロールであっても構わないが、
2つのコーターロールの内1つがスチールロールであれ
ば、もう1つのコーターロールはゴムロールである方が
好ましい。また、コーターロールの回転方向はそれぞれ
コーティングナイフとコーターロール(30)  (2
4)、(30’)(24’)の位置関係できまり、基材
(25)の進行方向の逆である。コーターロール表面の
スピードと基材のスピードの関係は同じスピードでも構
わないが、外観をより綺麗に仕上げるためにはコーター
ロールの薄膜を薄く形成した方が好ましいのでコーク−
ロール表面のスピードと基材のスピードの比は1.1〜
20とし、基材上で1.1回〜20回重ねて転写してい
く方法が好ましい。
コーティングナイフについては、いろいろなナイフが使
用可能であるが、外観を綺麗に仕上げるには第7図に示
したような「牛の鼻型」ナイフなどが好ましい。
「作用・効果」 本発明のリバースロールコーター方式の両面同時塗布装
置は、次の特徴を有する。
特徴の第1は、2つのコーターヘッドの夫々のコーター
ロールが夫々他のコーターロールのバックアップロール
となっていることである。従って、2つのコーターロー
ルの間はその間を通過する基材の厚み相当、言い換える
と基材の厚みより若干大きなりリアランスを有している
。これによりバックアップロールとしての機能が働き、
コーターロールから基材への転写率が大きく高まる。
特徴の第2は、ピックアップロールにはクリーニングド
クター相当のかきとり仮を備えていない点である。クリ
ーニングドクターの使用はピックアップロール上に除去
しきれない塗布液の痕跡を筋状に残し、これがフィルム
にそのまま転写され外観を悪くする原因になっているが
、本発明によればこのようなかきとり板は不要であるか
ら、綺麗な外観を有するフィルムが得られる。
かくして、本発明によれば転写率の悪い水性ディスパー
ジョンであっても、また基材がロール間で安定的に保持
することが困難なプラスチックフィルムであっても、効
果的に基材上に転写塗布され、また仕上がりの外観も綺
麗なものが得られる。
尚、本発明の装置は塗布後の工程が同じである場合、例
えば同じ塗布液を両面に塗布する場合は熱論のこと、異
なる塗布液であっても、塗布後の工程(乾燥・キュア等
)が同じであれば採用可能である。
「実施例」 以下、本発明を実施例を挙げて説明するが、本発明はこ
れらに限定されるものではない。
実施例 塗布液の調整法は以下の通りである。
純水をI O,2ktr、カーボポール934(増粘剤
、グッドリンチ製)を60g計量し、混合機にて15分
間攪拌した0次いで、アンモニア水(25−28−1χ
)を112g添加し、ひきつづき連続してネオフロンN
D−1(FEP水性ディスパージョン、ダイキン工業■
製)  19.8kg、 KM−85(消泡剤、信越化
学0s製)6gを添加し、その後15分間攪拌した。得
られた塗布液は固形分濃度33−tχ、粘度100cp
であった。
上記の如くして得られた塗布液を25ON巾の25μm
厚のポリイミドフィルム(商品名アビカル25酊1、鐘
淵化学工業側製)に第3図で示した装置にて両面のFE
Pjiが夫々固形分で2.5μmとなように塗布した。
装置の仕様及び条件は以下の通りである。
(両面塗布機の仕様) 1つのコーターヘッド コーターロール: 150 φ径で300−面長のスチ
ールロール ピックアップロール:15oφ径で300 sn面長の
シリコンゴムa−ル (硬度70度) もう1つのコーターヘッド コーターロール:15oφ径で300 mm面長シリコ
ンゴムロール(硬度70度) ピックアップロール:15oφ径で3001自面長スチ
ールロール 2つのコーターロールの間のクリアランス:27μm(
条件) ラインスピード:10m/分 コーターロール周速:リバース回転で30m/分ピック
アップロール周速:リバース回転で10m/分コーター
ロールとピックアップロールのクリアランス=10μm 以上の如き条件で塗布後、1ootの乾燥炉で30秒、
400℃のキュア炉で30秒の焼き付けを行い、25μ
mのポリイミドフィルムの両面に2.5μmづつのFE
P暦を有する複合フィルムを得た。このフィルムの外観
は綺麗であり、且つ厚みも均一(トータル厚みで31μ
m〜29μm)であった。
【図面の簡単な説明】
第1図及び第2図は、それぞれ従来装置を示す概要図、
第3図乃至第7図は、それぞれ本発明装置の実施B様を
示す概要図である。 21・・・巻出機、    22.22′・・・塗布液
貯槽23.23’・・・ビックアンプロール24.24
′・・・コーターロール、 25・・・基材26・・・
ガイドロール、 27.27′・・・塗布液28・・・
塗布液が両面に塗布された基材29.29′・・・メタ
リングロール 30.30’・・・コーティングナイフ特許出願人 鐘
淵化学工業株式会社 第1図 第4図 第5図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、水性ディスパージョンを基材の両面に同時に塗布す
    る装置において、2つのコーターヘッドを有し夫々のコ
    ーターロールを基材の厚み相当の距離まで近接させ、夫
    々のコーターロールが他のコーターヘッドのバックアッ
    プロールとなるように配設したリバースロールコーター
    方式の両面同時塗布装置。 2、コーターロール表面のスピードが基材のスピードの
    1.1倍から20倍である請求項1項記載の装置。 3、水性ディスパージョンがフッ素系であり、基材がプ
    ラスチックフィルムである請求項1又は2項記載の装置
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