JPH01259601A - 超電導キャビティの製造方法 - Google Patents
超電導キャビティの製造方法Info
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- JPH01259601A JPH01259601A JP63087794A JP8779488A JPH01259601A JP H01259601 A JPH01259601 A JP H01259601A JP 63087794 A JP63087794 A JP 63087794A JP 8779488 A JP8779488 A JP 8779488A JP H01259601 A JPH01259601 A JP H01259601A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mold material
- superconducting
- layer
- thin film
- thermally conductive
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E40/00—Technologies for an efficient electrical power generation, transmission or distribution
- Y02E40/60—Superconducting electric elements or equipment; Power systems integrating superconducting elements or equipment
Landscapes
- Superconductor Devices And Manufacturing Methods Thereof (AREA)
- Superconductors And Manufacturing Methods Therefor (AREA)
- Control Of Motors That Do Not Use Commutators (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
この発明は、超電導キャビデイ（超電導加速空洞）など
の、内面に超電導性簿膜層を有する容器の％ノ告ｆｊ法
にｔｉｌｌ するものである。
の、内面に超電導性簿膜層を有する容器の％ノ告ｆｊ法
にｔｉｌｌ するものである。
従来、Ｘｒ３電導キャビティの製造方法としては、例え
ば特開昭６２−１８１５０８月公＋ｆ１Ｔ″開示された
ものが知られている。これ【よ、第５図に示すようにア
ルミニウム合金型ａの外表面すを鏡面仕上げし、この外
表面すに、まず水素透過防止金属層Ｃを設け、この水素
透過防止金属層Ｃの外表面にＮｂまたは超電導性金属間
化合物の層ｄを密着形成し、さらにこの層ｄの外表面に
熱伝導性の良い金Ｉｎ層Ｃと強化被覆層ｒとを設り、こ
の復、上記アルミニウム合金型ａと水素透過防止金属層
Ｃとを溶解除去し、これによって内表面にＮｂまＬ二は
超電）り竹金屈闇化合物からなる超電導＋１薄膜槽層（
１を右するＭ！４電導キ１７ビーｉイを製造するしの−
（゛ある。
ば特開昭６２−１８１５０８月公＋ｆ１Ｔ″開示された
ものが知られている。これ【よ、第５図に示すようにア
ルミニウム合金型ａの外表面すを鏡面仕上げし、この外
表面すに、まず水素透過防止金属層Ｃを設け、この水素
透過防止金属層Ｃの外表面にＮｂまたは超電導性金属間
化合物の層ｄを密着形成し、さらにこの層ｄの外表面に
熱伝導性の良い金Ｉｎ層Ｃと強化被覆層ｒとを設り、こ
の復、上記アルミニウム合金型ａと水素透過防止金属層
Ｃとを溶解除去し、これによって内表面にＮｂまＬ二は
超電）り竹金屈闇化合物からなる超電導＋１薄膜槽層（
１を右するＭ！４電導キ１７ビーｉイを製造するしの−
（゛ある。
（発明が解決しＪｚうとする課題）
上記従来の製造方法において髪よ、アルミニウム合金型
ａの外表面すに、水素透過防止金属層Ｃと、超電導性薄
膜層ｄと、熱伝導性金属層ｅと、強化被覆層「とを！ｌ
いに手合Ｕて順次密査形成しなりればならず、比較的多
くの王敢がかかる。
ａの外表面すに、水素透過防止金属層Ｃと、超電導性薄
膜層ｄと、熱伝導性金属層ｅと、強化被覆層「とを！ｌ
いに手合Ｕて順次密査形成しなりればならず、比較的多
くの王敢がかかる。
また超１導１４簿摸層（１が形成された状態でアルミニ
ウム合金型２）の溶解を行うｔこめに、この溶解時に発
生する水素による上記超電導性薄膜層ｄの脆化を防止す
る必要があり、このため水糸透過防止金属層Ｃを形成す
る必要がある。したがってアルミニウム合金型ａの溶解
除去とともに、この水素透過防止金属層Ｃの溶解除去も
行う必要が生じ、工数を増加させコストの増加要因とな
っている。
ウム合金型２）の溶解を行うｔこめに、この溶解時に発
生する水素による上記超電導性薄膜層ｄの脆化を防止す
る必要があり、このため水糸透過防止金属層Ｃを形成す
る必要がある。したがってアルミニウム合金型ａの溶解
除去とともに、この水素透過防止金属層Ｃの溶解除去も
行う必要が生じ、工数を増加させコストの増加要因とな
っている。
また強化被覆層ｆの形成は、一般に電鋳により行なわれ
るが、この電鋳においては水素成分が残留するために、
この水素が超電導性薄膜層ｄに入り込まないように、こ
の強化被覆層ｆと超ｆｆｉ導性１１１膜層ｄとの間に熱
伝導性金属層ｅを形成する必要が生じている。これによ
って工数が増加することになるうえに、上記熱伝導性金
属層ｅｒ：は水素混入防止能が十分ではなく上記水素成
分が超″ｆｆｉ導性１１膜層ｄに入り込むおそれがある
。この場合、水素成分が超電導性薄膜層ｄに入り込むと
、上記超電導性薄膜Ｗ４ｄの熱伝導率が低下するととも
に、超電導特性が大幅に劣化することになる。
るが、この電鋳においては水素成分が残留するために、
この水素が超電導性薄膜層ｄに入り込まないように、こ
の強化被覆層ｆと超ｆｆｉ導性１１１膜層ｄとの間に熱
伝導性金属層ｅを形成する必要が生じている。これによ
って工数が増加することになるうえに、上記熱伝導性金
属層ｅｒ：は水素混入防止能が十分ではなく上記水素成
分が超″ｆｆｉ導性１１膜層ｄに入り込むおそれがある
。この場合、水素成分が超電導性薄膜層ｄに入り込むと
、上記超電導性薄膜Ｗ４ｄの熱伝導率が低下するととも
に、超電導特性が大幅に劣化することになる。
この発明は、このような従来の問題を解決するためにな
されたものであり、超電導特性の劣化をル′「実に防止
づることができ、しかも作業工数を低減して製造コスト
の低減化に奇５Ｊることができる超電導キャビティの製
造方法を提供することを目的としている。
されたものであり、超電導特性の劣化をル′「実に防止
づることができ、しかも作業工数を低減して製造コスト
の低減化に奇５Ｊることができる超電導キャビティの製
造方法を提供することを目的としている。
上記目的を達成するために、この発明の超電導キ１１ビ
ティの製造方法ではアルミニウム合金製の型材の外表面
を鏡面仕上げした後に、この型材の外表面を熱伝導性の
良い金属材料で被覆することにより上記型材の外表面形
状と同一の内＆面形状を右ザる熱伝導性被覆層を形成し
、この後、上記型材のみを溶解除去し、熱伝導性被覆層
の内表面に超電導性薄膜を密着形成するように構成した
。
ティの製造方法ではアルミニウム合金製の型材の外表面
を鏡面仕上げした後に、この型材の外表面を熱伝導性の
良い金属材料で被覆することにより上記型材の外表面形
状と同一の内＆面形状を右ザる熱伝導性被覆層を形成し
、この後、上記型材のみを溶解除去し、熱伝導性被覆層
の内表面に超電導性薄膜を密着形成するように構成した
。
（作用〕
上記構成によれば、超電導性薄膜層の形成を最終工程で
行っているので・、従来の製造方法における強化被覆層
形成時に残留する水素やアルミニウム合金製型材の溶解
時に発生する水素などが上記超電導性薄膜に混入するこ
とはなく、これにより１１電導特性の劣化を防止するこ
とができる。
行っているので・、従来の製造方法における強化被覆層
形成時に残留する水素やアルミニウム合金製型材の溶解
時に発生する水素などが上記超電導性薄膜に混入するこ
とはなく、これにより１１電導特性の劣化を防止するこ
とができる。
また型材の外表面は鏡面仕上げされるので、熱伝導性液
ｉ層の内表面も上記型材の外表面と同様に鏡面となり、
このため熱伝導性被覆層の内表面に被覆する超電導性薄
膜は均一かつ平滑に形成することができる。
ｉ層の内表面も上記型材の外表面と同様に鏡面となり、
このため熱伝導性被覆層の内表面に被覆する超電導性薄
膜は均一かつ平滑に形成することができる。
しかも、従来の製造方法と比べて工程数を少なくするこ
とができるので、製造コストの低減化を図ることができ
る。
とができるので、製造コストの低減化を図ることができ
る。
第１図において、超電導キャビティの製造方法は型材１
の外表面仕上げ工程Ｐ１と、を記型材１の外表面への熱
伝導性被覆煕形成工程Ｐ２と、型材１の溶解除去工程Ｐ
３と、超電導性薄膜層形成工程Ｐ４とから基本構成され
ている。
の外表面仕上げ工程Ｐ１と、を記型材１の外表面への熱
伝導性被覆煕形成工程Ｐ２と、型材１の溶解除去工程Ｐ
３と、超電導性薄膜層形成工程Ｐ４とから基本構成され
ている。
上記型材１は中央部に大径部１１、両端部に細径部１２
を有する筒状容置で、アルミニウム合金によって一体に
成形されている。この型材１は第２図に示す方法または
第３図に示す方法によって成形される。第２図に示す第
１の方法は、焼鈍したアルミニウム合金管（シームレス
管）１０ａの両端部を元の直径りに対して６０〜７０％
の絞り加工を行うことにより細径部１２を形成しく絞り
■稈Ｐａ１）、つぎに中央部の未絞り部１３を元の直径
りに対して１２０％の拡管加工を行うことにより大径部
１１を形成する（拡管工程Ｐａ２）ものである。１記拡
管加工は、拡管用精密型２１を用い、未絞り部１３に内
圧として液圧（例えば２０〜３０Ｋｇ／ｃｊの油圧）を
作用させることにより行う。
を有する筒状容置で、アルミニウム合金によって一体に
成形されている。この型材１は第２図に示す方法または
第３図に示す方法によって成形される。第２図に示す第
１の方法は、焼鈍したアルミニウム合金管（シームレス
管）１０ａの両端部を元の直径りに対して６０〜７０％
の絞り加工を行うことにより細径部１２を形成しく絞り
■稈Ｐａ１）、つぎに中央部の未絞り部１３を元の直径
りに対して１２０％の拡管加工を行うことにより大径部
１１を形成する（拡管工程Ｐａ２）ものである。１記拡
管加工は、拡管用精密型２１を用い、未絞り部１３に内
圧として液圧（例えば２０〜３０Ｋｇ／ｃｊの油圧）を
作用させることにより行う。
第３図に示す第２の方法は、焼鈍したアルミニウム合金
管（シームレス管）１０ｂの一端を絞り、他端を精密型
２２を用いて拡径することにより半、切り型１ｂを形成
しく半割り型成形工程Ｐｂ１）、つぎに一対の半割り型
１ｂをその大径部１１で例えばＴＩＧ溶接もしくは電子
ビーム溶接によりひいに接合する（溶接工程Ｐｂ２）こ
とにより、所定形状の型材１を形成Ｊるもの−Ｃある。
管（シームレス管）１０ｂの一端を絞り、他端を精密型
２２を用いて拡径することにより半、切り型１ｂを形成
しく半割り型成形工程Ｐｂ１）、つぎに一対の半割り型
１ｂをその大径部１１で例えばＴＩＧ溶接もしくは電子
ビーム溶接によりひいに接合する（溶接工程Ｐｂ２）こ
とにより、所定形状の型材１を形成Ｊるもの−Ｃある。
これによって細径部１２の外径（１に対する太径部１１
の外径Ｄａの比率である絞り比（Ｄａ／ｄ）が比較的大
きい値（例えば１．８より大きい（ｆｌ）となるような
形状の型材１であっても確実に成形することができる。
の外径Ｄａの比率である絞り比（Ｄａ／ｄ）が比較的大
きい値（例えば１．８より大きい（ｆｌ）となるような
形状の型材１であっても確実に成形することができる。
上記第２の方法において多連型の型材を成形するには、
第４図に示すように精密型２４を用いて素材の両端を拡
径することにより中間型１Ｃを成形すればよい。１もし
くは複数個の中間型１Ｃの両側端に半割り型１ｂをＴＩ
Ｇ溶接などにより接合すれば細径部１２と太径部１１と
が交互に連続する所望の多連型の型材を成形することが
できる。
第４図に示すように精密型２４を用いて素材の両端を拡
径することにより中間型１Ｃを成形すればよい。１もし
くは複数個の中間型１Ｃの両側端に半割り型１ｂをＴＩ
Ｇ溶接などにより接合すれば細径部１２と太径部１１と
が交互に連続する所望の多連型の型材を成形することが
できる。
なお、第２図、第３図および第４図において２３はコテ
を示す。また素材としてはシームレス管の他に板材を管
状に成形したものを用いることもできる。
を示す。また素材としてはシームレス管の他に板材を管
状に成形したものを用いることもできる。
外表面仕上げ工程Ｐ１では、パフ研磨または電解研磨を
行うことにより型材１の外表面１４が０゜５μｍＲｚ（
十点平均粗さ）程度以上に鏡面仕上げされる。
行うことにより型材１の外表面１４が０゜５μｍＲｚ（
十点平均粗さ）程度以上に鏡面仕上げされる。
熱伝導性被覆層形成工程Ｐ２では、電鋳型として上記型
材１、電鋳金属として熱伝導性の良い例えばＣｕ（銅）
をそれぞれ用い、上記型材１の外表面１４にＣｕからな
る熱伝導性被覆層３が電鋳を利用して密着形成される。
材１、電鋳金属として熱伝導性の良い例えばＣｕ（銅）
をそれぞれ用い、上記型材１の外表面１４にＣｕからな
る熱伝導性被覆層３が電鋳を利用して密着形成される。
この’、ｖｕに用いる電解液としては、硫酸銅浴、ピロ
リン酸銅浴、ホウフッ化銅浴、シアン化銅浴、スルファ
ミンＰＩｔ銅浴もしくはアルカンスルホン銅浴などを利
用することができるが、なかでも硫酸銅浴ムしくはピロ
リン酸銅浴が好ましい。この＋ｉｌ！ｉ酸銅浴の場合に
は、均一な肉厚の層を形成するために例えば６０〜２０
０ｇ／ＵのｒＡＭ銅（ＣｕＳＯ４ ・ ５８２０）
、 ７０ 〜 ２２０ ｇ ／ｕ の
硫 酸（ト１２ ８０４ ）およヒ３０ 〜１ ００１
＃／Ｑ（７）塩素からなる組成を有するものが用いられ
、なかでも１００〜１８０ｇ／ａの’ＧＡ Ｍ銅（ Ｃ
ｕ Ｓ ０４ ・５Ｈ２０） 、１ ００〜１６０ｇ／
ＱのＩｉ！を酸（Ｈ２ Ｓ０４ ）および３５〜８５■
／ｇの塩素からなる組成を有するものが好ましく、これ
を２０〜４０℃の浴温で？ｎ電流密度１〜４Ａ／ｄｍ２
に設定して電鋳が行われる。なお添加剤については平滑
なめっきが１ｑられる必要最小限のｍを加える。
リン酸銅浴、ホウフッ化銅浴、シアン化銅浴、スルファ
ミンＰＩｔ銅浴もしくはアルカンスルホン銅浴などを利
用することができるが、なかでも硫酸銅浴ムしくはピロ
リン酸銅浴が好ましい。この＋ｉｌ！ｉ酸銅浴の場合に
は、均一な肉厚の層を形成するために例えば６０〜２０
０ｇ／ＵのｒＡＭ銅（ＣｕＳＯ４ ・ ５８２０）
、 ７０ 〜 ２２０ ｇ ／ｕ の
硫 酸（ト１２ ８０４ ）およヒ３０ 〜１ ００１
＃／Ｑ（７）塩素からなる組成を有するものが用いられ
、なかでも１００〜１８０ｇ／ａの’ＧＡ Ｍ銅（ Ｃ
ｕ Ｓ ０４ ・５Ｈ２０） 、１ ００〜１６０ｇ／
ＱのＩｉ！を酸（Ｈ２ Ｓ０４ ）および３５〜８５■
／ｇの塩素からなる組成を有するものが好ましく、これ
を２０〜４０℃の浴温で？ｎ電流密度１〜４Ａ／ｄｍ２
に設定して電鋳が行われる。なお添加剤については平滑
なめっきが１ｑられる必要最小限のｍを加える。
またピロリン酸銅浴の場合には、例えば６０〜１１０９
／Ｑのどロリン酸銅、２００〜４００９／Ｑのどロリン
酸カリウム、１〜６１１Ｑ／Ｑのアン［ニア溶液（２８
重ａ％濃度）、０〜１５ｇ／Ｑの硝酸カリウムおよび適
量の光沢剤からなる組成を有するものを用い、この電解
液をＰＭ比（Ｐ２ ０７ ／ＣＬＩ ＞が６．０〜８．
０、ｐｔｌが８．０〜９．０、液温が５０〜６０℃とな
るように設定し、電流密度を１〜６ Ａ ／ ｄａ２に
設定して電鋳が行われる。
／Ｑのどロリン酸銅、２００〜４００９／Ｑのどロリン
酸カリウム、１〜６１１Ｑ／Ｑのアン［ニア溶液（２８
重ａ％濃度）、０〜１５ｇ／Ｑの硝酸カリウムおよび適
量の光沢剤からなる組成を有するものを用い、この電解
液をＰＭ比（Ｐ２ ０７ ／ＣＬＩ ＞が６．０〜８．
０、ｐｔｌが８．０〜９．０、液温が５０〜６０℃とな
るように設定し、電流密度を１〜６ Ａ ／ ｄａ２に
設定して電鋳が行われる。
なお上記電鋳においては、まず亜鉛防換法により型材１
の表面に亜鉛置換膜を形成してから行うことが望ましい
。これにより熱伝導性被覆層３と型材１との密着性を向
上させることができる。ただし上記硫Ｍａ４浴の場合に
は、その硫酸銅浴が強酸性であるために、ピロリン酸銅
浴やシアン化銅浴により上記亜鉛置換膜をあらかじめ銅
で被覆してＪ３＜ことが望ましい。ピロリン酸銅浴の場
合には亜鉛置換後ただちに電鋳に移行すればよい。
の表面に亜鉛置換膜を形成してから行うことが望ましい
。これにより熱伝導性被覆層３と型材１との密着性を向
上させることができる。ただし上記硫Ｍａ４浴の場合に
は、その硫酸銅浴が強酸性であるために、ピロリン酸銅
浴やシアン化銅浴により上記亜鉛置換膜をあらかじめ銅
で被覆してＪ３＜ことが望ましい。ピロリン酸銅浴の場
合には亜鉛置換後ただちに電鋳に移行すればよい。
上記熱伝導性被覆層形成工程Ｐ２によって、型材１の外
表面形状と同じ内表面形状を有する熱伝導性液？ｉｌＷ
３が形成される。これとともに、この熱伝導性被覆層３
は鏡面仕上げされた型材１の外表面１４に密着形成され
、その鏡面が境界面である上記熱伝導性ｍ１層３の内表
面３１に転写されるので、これにより熱伝導性被１１層
３の内表面３１を型材１の外表面１４と同様に０．５μ
ｒａＲｚ稈度以上の鏡面に形成することができる。
表面形状と同じ内表面形状を有する熱伝導性液？ｉｌＷ
３が形成される。これとともに、この熱伝導性被覆層３
は鏡面仕上げされた型材１の外表面１４に密着形成され
、その鏡面が境界面である上記熱伝導性ｍ１層３の内表
面３１に転写されるので、これにより熱伝導性被１１層
３の内表面３１を型材１の外表面１４と同様に０．５μ
ｒａＲｚ稈度以上の鏡面に形成することができる。
溶解除去工程Ｐ３では、アルミニウム合金製の型４４１
のみが酸またはアルカリを用いて化学的に溶解除去され
、これによりＣｕ製の熱伝導性被覆層３からなるセル３
ａが残る。この溶解に用いられる酸としては例えば塩Ｍ
などの非酸化性酸、アルカリとしては例えば水酸化ナト
リウム４【どの水酸化アルカリが好ましく、これらを用
いることにより熱伝導性被覆層３の銅が溶解されたり内
表面３１が粗化されたりするのを防止することができ、
上記内表面３１の鏡面精度を維持することができる。な
お、上記酸もしくはアルカリによる溶解に際し、銅の腐
食抑制剤（インヒビター）を必要に応じて使用すればよ
い。
のみが酸またはアルカリを用いて化学的に溶解除去され
、これによりＣｕ製の熱伝導性被覆層３からなるセル３
ａが残る。この溶解に用いられる酸としては例えば塩Ｍ
などの非酸化性酸、アルカリとしては例えば水酸化ナト
リウム４【どの水酸化アルカリが好ましく、これらを用
いることにより熱伝導性被覆層３の銅が溶解されたり内
表面３１が粗化されたりするのを防止することができ、
上記内表面３１の鏡面精度を維持することができる。な
お、上記酸もしくはアルカリによる溶解に際し、銅の腐
食抑制剤（インヒビター）を必要に応じて使用すればよ
い。
この溶解除去工程１つ３の（す、上記セル３ａをほぼ３
００℃より低い温度で真空アニールすることによって脱
水素処理し、洗浄、乾燥して超電導性薄膜層形成］［程
１〕４の下準備を行う。なお、この段階でセル３ａの内
表面３１を電解１ＩＩＩＩＰ！により再仕上げするよう
にしてもよい。
００℃より低い温度で真空アニールすることによって脱
水素処理し、洗浄、乾燥して超電導性薄膜層形成］［程
１〕４の下準備を行う。なお、この段階でセル３ａの内
表面３１を電解１ＩＩＩＩＰ！により再仕上げするよう
にしてもよい。
超電導性薄膜層形成１１ｆｌＰ４ ぐ（よ、上記セル３
ａの内表面３１にＮｂ ＜ニオブ）、Ｎｂ３Ｓｎ、Ｎ
ｂ７ｉ もしくは超電導性金属間化合物からなる超電導
性薄膜４が形成される。この超電導性薄膜４ｔよ、Ｎｂ
などの超電導性材料の融点が比較的高いためにＰＶＤ法
（物理的蒸気凝縮法）もしくはＣＶ ｌ）法（化学的蒸
気凝縮法）によって形成される。十記ＰＶＤ法にはスパ
ッタリング、真空蒸着もしくはイオンブレーティングな
どの方法がある。
ａの内表面３１にＮｂ ＜ニオブ）、Ｎｂ３Ｓｎ、Ｎ
ｂ７ｉ もしくは超電導性金属間化合物からなる超電導
性薄膜４が形成される。この超電導性薄膜４ｔよ、Ｎｂ
などの超電導性材料の融点が比較的高いためにＰＶＤ法
（物理的蒸気凝縮法）もしくはＣＶ ｌ）法（化学的蒸
気凝縮法）によって形成される。十記ＰＶＤ法にはスパ
ッタリング、真空蒸着もしくはイオンブレーティングな
どの方法がある。
例えばスパッタリング法を適用して上記超電導性薄膜層
４を形成するには、上記セル３ａ内を１Ｑ−２〜１０
’ Ｔｏｒｒの真空状態に保持し、このセル３ａ内にタ
ーゲットとしてＮｂを入れ、高周波らしくは直流電源に
より３００〜２０００Ｖの電圧をか１Ｊ（Ｎｂからのス
パックを丘／トさせ、このＮｂ原ｊ″−をけル３５１の
内に面３１に付着させればよい。さらに磁石を（７１Ｉ
ＩＩするマグネ１〜１−ｌレスバッタ法らあり、この方
法を採用４にとにＪ、リスバッタ率を高めることがぐき
る。
４を形成するには、上記セル３ａ内を１Ｑ−２〜１０
’ Ｔｏｒｒの真空状態に保持し、このセル３ａ内にタ
ーゲットとしてＮｂを入れ、高周波らしくは直流電源に
より３００〜２０００Ｖの電圧をか１Ｊ（Ｎｂからのス
パックを丘／トさせ、このＮｂ原ｊ″−をけル３５１の
内に面３１に付着させればよい。さらに磁石を（７１Ｉ
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法を採用４にとにＪ、リスバッタ率を高めることがぐき
る。
上記超電導性薄膜層４の形成によって超電導Ｖセビｒイ
を形成することができ、この超電導性薄膜層４【ま鏡面
に形成されたセル３ａの内表面に被覆されるために、平
滑て・、かつ均一に形成することかぐきる。。
を形成することができ、この超電導性薄膜層４【ま鏡面
に形成されたセル３ａの内表面に被覆されるために、平
滑て・、かつ均一に形成することかぐきる。。
なお、超電導性薄膜層４を形成した後、この薄膜層４に
酸化被膜が生じる呪合がある。この醇化股を除去するに
は酸化、研磨（オキシポリッシュ）処１１ｉ！を行えば
よい。このＡＩ＝シボリツシュ処理ト１酸化王稈とｒｔ
ｌｌｃ工稈とか工程り、酸化工程は例えばアンしニア溶
液などのアルカリ溶液を用いて電解処理するもので、こ
れにより上記、祷膜層４の表面には強制的に酸化被膜が
形成される。上記゛市ＹＨ処理において、アンモニア溶
液は１〜２８重１１％、好ましくは５ ＝−１０小間％
の濃度のものが゛ヤ温で用いられ、電流密度が０．１〜
５１１１Ａ／Ｃｌ１１の定電流モードで電圧１００Ｖを
上限として処理を行う。
酸化被膜が生じる呪合がある。この醇化股を除去するに
は酸化、研磨（オキシポリッシュ）処１１ｉ！を行えば
よい。このＡＩ＝シボリツシュ処理ト１酸化王稈とｒｔ
ｌｌｃ工稈とか工程り、酸化工程は例えばアンしニア溶
液などのアルカリ溶液を用いて電解処理するもので、こ
れにより上記、祷膜層４の表面には強制的に酸化被膜が
形成される。上記゛市ＹＨ処理において、アンモニア溶
液は１〜２８重１１％、好ましくは５ ＝−１０小間％
の濃度のものが゛ヤ温で用いられ、電流密度が０．１〜
５１１１Ａ／Ｃｌ１１の定電流モードで電圧１００Ｖを
上限として処理を行う。
＋ｊｌ磨工程では例えば５〜４６Φ通％１１１度のフッ
酸により室温で上記酸化工程で形成した酸化被膜が溶解
除去される。これによりＦ記ａり膜層４の表面を清浄に
することができる。なお、このオキシボリッジ１処理は
、１回だりでなく必要に応じて数回繰返して行ってｂＪ
、い。
酸により室温で上記酸化工程で形成した酸化被膜が溶解
除去される。これによりＦ記ａり膜層４の表面を清浄に
することができる。なお、このオキシボリッジ１処理は
、１回だりでなく必要に応じて数回繰返して行ってｂＪ
、い。
また上記超電導性７ａ膜４の形成は最終工程で行４ｔわ
れるために、熱伝導性被覆層形成工程Ｐ２やアルミニウ
ム合金製型材１の溶解除去り稈Ｐ３において発生する水
素などの不純物が超電導性薄膜層４に混入すること（ま
なく、これによって十記超電導竹薄模４の超を導特竹の
劣化を確実に防止することができる１、シたがって上記
超電導性薄膜４を素材であるＮｂなどと同じ超′￥導特
性を発揮さけることがでさ“る９、 これとともに、超電導性薄膜４の形成を最終工程で行う
ようにしＩζために、第５図に示す従来の製）前方法に
１６いて超電導性薄膜ｄへの水素混入防１１−のために
形成される水素透過防止金属層Ｃと、熱伝導性金属層ｅ
との形成工程を省略−１にとができ、これにより製造］
ス１−の低減を図ることがぐきろ。
れるために、熱伝導性被覆層形成工程Ｐ２やアルミニウ
ム合金製型材１の溶解除去り稈Ｐ３において発生する水
素などの不純物が超電導性薄膜層４に混入すること（ま
なく、これによって十記超電導竹薄模４の超を導特竹の
劣化を確実に防止することができる１、シたがって上記
超電導性薄膜４を素材であるＮｂなどと同じ超′￥導特
性を発揮さけることがでさ“る９、 これとともに、超電導性薄膜４の形成を最終工程で行う
ようにしＩζために、第５図に示す従来の製）前方法に
１６いて超電導性薄膜ｄへの水素混入防１１−のために
形成される水素透過防止金属層Ｃと、熱伝導性金属層ｅ
との形成工程を省略−１にとができ、これにより製造］
ス１−の低減を図ることがぐきろ。
（ｆｌ明の効果〕
この発明の超電導キャビティの￥Ｊ造方法によれば、１
召１ｔ８性簿膜層の形成を最終工程で行っているので、
従来の製造方法にお【ノる熱伝導性被覆Ｈ，５形成１１
′ｉに残留づる水素やアルミニウム合金’Ｍ ’Ｖ＋
？４の溶解口１に発生する水素などが「２超電導＋ＱＩ
’＋す“漠に混入りることｔよなく、これにより超１）
（榔１？１ヤ１の劣化を確実に防ｌｌりることかできる
。
召１ｔ８性簿膜層の形成を最終工程で行っているので、
従来の製造方法にお【ノる熱伝導性被覆Ｈ，５形成１１
′ｉに残留づる水素やアルミニウム合金’Ｍ ’Ｖ＋
？４の溶解口１に発生する水素などが「２超電導＋ＱＩ
’＋す“漠に混入りることｔよなく、これにより超１）
（榔１？１ヤ１の劣化を確実に防ｌｌりることかできる
。
また■１Ｈの外表面１．１鏡面仕上げされるのぐ、熱伝
導性被覆層の内表面し−１−開型（Ａの外人面と同様に
鏡面となり、このｔこめ熱伝導性被覆層の内ん而に被覆
する超電導性薄膜は均一かつ平滑に形成・）ることがで
きる。
導性被覆層の内表面し−１−開型（Ａの外人面と同様に
鏡面となり、このｔこめ熱伝導性被覆層の内ん而に被覆
する超電導性薄膜は均一かつ平滑に形成・）ることがで
きる。
しかし、従来の製造Ｉｊ法と比べで■稈数を少％り１す
ることができるので、製造−」ス［〜の低減１ヒにも寄
与・Ｊることがでさろ。
ることができるので、製造−」ス［〜の低減１ヒにも寄
与・Ｊることがでさろ。
第１図はこの発明の実施例の装）２！ｈ法を示ＩＪ斯面
説明図、第２図ｔよ型材の成形方法を示す説明図、第３
図は型材の伯の成形方法を丞り一説明図、第４図は第３
図の成形方法ににる多連型の型材の成形方法を示り一説
明図、第５図は従来の製造方法を承Ｕ’ ｔｒ′ｉ而説
明面である。 １・・・（ｔソ材、３・・・熱伝導Ｍ被覆ｈη、４・・
・超電導性薄膜層、１４・・・型材の外表面。
説明図、第２図ｔよ型材の成形方法を示す説明図、第３
図は型材の伯の成形方法を丞り一説明図、第４図は第３
図の成形方法ににる多連型の型材の成形方法を示り一説
明図、第５図は従来の製造方法を承Ｕ’ ｔｒ′ｉ而説
明面である。 １・・・（ｔソ材、３・・・熱伝導Ｍ被覆ｈη、４・・
・超電導性薄膜層、１４・・・型材の外表面。
Claims (1)
- １、アルミニウム合金製の型材の外表面を鏡面仕上げし
た後に、この型材の外表面を熱伝導性の良い金属材料で
被覆することにより上記型材の外表面形状と同一の内表
面形状を有する熱伝導性被覆層を形成し、この後、上記
型材のみを溶解除去し、熱伝導性被覆層の内表面に超電
導性薄膜を密着形成することを特徴とする超電導キャビ
ティの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63087794A JPH01259601A (ja) | 1988-04-08 | 1988-04-08 | 超電導キャビティの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63087794A JPH01259601A (ja) | 1988-04-08 | 1988-04-08 | 超電導キャビティの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01259601A true JPH01259601A (ja) | 1989-10-17 |
Family
ID=13924885
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63087794A Pending JPH01259601A (ja) | 1988-04-08 | 1988-04-08 | 超電導キャビティの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01259601A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1992013434A1 (fr) * | 1991-01-24 | 1992-08-06 | The Furukawa Electric Co., Ltd. | Conduit d'acceleration supraconducteur |
-
1988
- 1988-04-08 JP JP63087794A patent/JPH01259601A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1992013434A1 (fr) * | 1991-01-24 | 1992-08-06 | The Furukawa Electric Co., Ltd. | Conduit d'acceleration supraconducteur |
| US5347242A (en) * | 1991-01-24 | 1994-09-13 | The Furukawa Electric Co., Ltd. | Superconducting accelerating tube comprised of half-cells connected by ring shaped elements |
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