JPH01260868A - 酸化物超電導体を用いたdc型超電導量子干渉素子 - Google Patents
酸化物超電導体を用いたdc型超電導量子干渉素子Info
- Publication number
- JPH01260868A JPH01260868A JP63088233A JP8823388A JPH01260868A JP H01260868 A JPH01260868 A JP H01260868A JP 63088233 A JP63088233 A JP 63088233A JP 8823388 A JP8823388 A JP 8823388A JP H01260868 A JPH01260868 A JP H01260868A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- weak links
- superconducting
- thin film
- quantum interference
- superconducting quantum
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000002887 superconductor Substances 0.000 title abstract description 13
- 239000010408 film Substances 0.000 abstract description 11
- 239000010409 thin film Substances 0.000 abstract description 9
- 241000238366 Cephalopoda Species 0.000 abstract description 5
- 239000013078 crystal Substances 0.000 abstract description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 abstract description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 abstract description 2
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 abstract description 2
- 238000000059 patterning Methods 0.000 abstract description 2
- 229910003097 YBa2Cu3O7−δ Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 abstract 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 5
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005668 Josephson effect Effects 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 230000002747 voluntary effect Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Superconductor Devices And Manufacturing Methods Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は酸化物超電導体を用いたDC型超電導量子干渉
素子(以下DC−3QUIDと呼称する)に関するもの
である。
素子(以下DC−3QUIDと呼称する)に関するもの
である。
[従来技術]
一般に、超電導体からなるループ回路に、ジョセフソン
接合を1個または2個接続したデバイスを5QUID
(Superconducting Quantum
InterferenQQ oev+ccの略で超電
導量子千庫素子)といい、ジョセフソンディジタルデバ
イスや5QUID磁束計に用いられる基本デバイスであ
る。
接合を1個または2個接続したデバイスを5QUID
(Superconducting Quantum
InterferenQQ oev+ccの略で超電
導量子千庫素子)といい、ジョセフソンディジタルデバ
イスや5QUID磁束計に用いられる基本デバイスであ
る。
また1個の接合を持つSQU I Dはl?P−3QI
JID磁束計や記憶素子として用いられ、2個の接合を
持つSQU I DはDC−9QU I Dと呼ばれ、
記憶及びスイッチング用としてDC−8QUID磁束計
に用いられている。
JID磁束計や記憶素子として用いられ、2個の接合を
持つSQU I DはDC−9QU I Dと呼ばれ、
記憶及びスイッチング用としてDC−8QUID磁束計
に用いられている。
この種のデバイスとしては、応用物理学会欧文誌Jap
anese Journal of AppHed P
hyslcs Vol、2B、No、 11 Nov、
1987.pp、L1925−192[+に“酸化物超
電導体膜の高臨界温度のDC−8QU I D″と題し
て開示されている。
anese Journal of AppHed P
hyslcs Vol、2B、No、 11 Nov、
1987.pp、L1925−192[+に“酸化物超
電導体膜の高臨界温度のDC−8QU I D″と題し
て開示されている。
これにはYBa Cu O膜を用いたDC−3QU
I D237−δ の磁束と電圧との関係が研究されたことか記載されてい
る。
I D237−δ の磁束と電圧との関係が研究されたことか記載されてい
る。
またBa2 Cu30 膜を用いたDC−3QU
I Dは、す7−δ ソグラフィカルなパターンによって製作され、そのDC
−8QLI I Dは臨界温度72に以上で操作された
ことが開示されている。
I Dは、す7−δ ソグラフィカルなパターンによって製作され、そのDC
−8QLI I Dは臨界温度72に以上で操作された
ことが開示されている。
従来この種のデバイスは上記文献に示されるように、Y
Ba Cu Oの薄膜をRFマグネトロン237−
δ スパッタリングにより形成し、フオトエ・ノチングによ
って、ウィークリンク2ケ所を含む超電導ループを形成
したものである。
Ba Cu Oの薄膜をRFマグネトロン237−
δ スパッタリングにより形成し、フオトエ・ノチングによ
って、ウィークリンク2ケ所を含む超電導ループを形成
したものである。
このウィークリンクは、YBa2Cu307−δ系薄膜
における粒界部分がジョセフソン接合を形成するため、
Nb系やpb系の旧来の超伝導体のように、トンネル接
合を形成したり、ウィークリンクをサブミクロンオーダ
ーの加工等を行わずにジョセフソン効果が生ずる。
における粒界部分がジョセフソン接合を形成するため、
Nb系やpb系の旧来の超伝導体のように、トンネル接
合を形成したり、ウィークリンクをサブミクロンオーダ
ーの加工等を行わずにジョセフソン効果が生ずる。
従来の超電導体においては、サブミクロンオーダーの非
常に小さいウィークリンクであり、加工精度上問題があ
ったが、前記文献に示すように、酸化物超電導体の場合
数百ミクロン巾のウィークリンクを有するDC−9QU
IDを形成することが可能となるので加工が容易になっ
た。
常に小さいウィークリンクであり、加工精度上問題があ
ったが、前記文献に示すように、酸化物超電導体の場合
数百ミクロン巾のウィークリンクを有するDC−9QU
IDを形成することが可能となるので加工が容易になっ
た。
[発明が解決しようとする課題]
しかしながら前述の文献に記載されているように、磁束
に対する出力電圧の変化量が1μV程度しか発生せず、
この出力電圧の小ささが、SQU I Dを用いた磁束
計等を構成する場合、問題となっていた。
に対する出力電圧の変化量が1μV程度しか発生せず、
この出力電圧の小ささが、SQU I Dを用いた磁束
計等を構成する場合、問題となっていた。
この大きな原因として、ウィークリンクの超電導臨界電
流1 と常電導抵抗Rの積I Rがo
n on
小さいということが挙げられる。
流1 と常電導抵抗Rの積I Rがo
n on
小さいということが挙げられる。
このため抵抗を大にするためにウィークリンクを長くす
ることが考えられるが、これを行うと、SQU I D
の孔の面積が大きくなり、ループのインダクタンスが大
きくなり、外部磁界の影響を受は易くなったり、熱雑音
が大きくなるなどの5QUID動作に支障を来たすため
に不可能であった。
ることが考えられるが、これを行うと、SQU I D
の孔の面積が大きくなり、ループのインダクタンスが大
きくなり、外部磁界の影響を受は易くなったり、熱雑音
が大きくなるなどの5QUID動作に支障を来たすため
に不可能であった。
本発明は、以上述べた従来のDC−9QU ! Dにお
ける出力電圧が小さいという欠点を排除し、出力電圧の
大きいDC−8QU I Dを提供することを目的とす
るものである。
ける出力電圧が小さいという欠点を排除し、出力電圧の
大きいDC−8QU I Dを提供することを目的とす
るものである。
[課題を解決するための手段]
本発明は、酸化物超電導膜を用いた2ケ所のウィークリ
ンクを有するDC型超電導量子干渉素子において、前記
ウィークリンクをミアンダ形状としたことを特徴とする
酸化物超電導体を用いたDC型超電導量子干渉素子であ
る。
ンクを有するDC型超電導量子干渉素子において、前記
ウィークリンクをミアンダ形状としたことを特徴とする
酸化物超電導体を用いたDC型超電導量子干渉素子であ
る。
[作用]
本発明の酸化物超電導体を用いた2ケ所のウィークリン
クを有するDC型超電導量子干渉素子においては、磁気
抵抗素子としてのウィークリンクをミアンダ−形状(m
eander曲がりくねり型)とすることによって、抵
抗値を増加せしめたので、ループのインダクタンスを殆
ど大きくせず、ウィークリンクの超電導臨界電流1 と
常電導抵抗Rnの積I Rを大きくすることを可能とし
たもの n である。
クを有するDC型超電導量子干渉素子においては、磁気
抵抗素子としてのウィークリンクをミアンダ−形状(m
eander曲がりくねり型)とすることによって、抵
抗値を増加せしめたので、ループのインダクタンスを殆
ど大きくせず、ウィークリンクの超電導臨界電流1 と
常電導抵抗Rnの積I Rを大きくすることを可能とし
たもの n である。
次に本発明の実施例について述べる。
[実施例]
第1図(a)は、酸化物超電導膜によるDC−8QU
I Dの等価回路の説明図を示し、第1図(b)は一般
的なパターンの説明図、第1図(e)は、本発明のDC
−3QU I Dのパターンの説明図である。
I Dの等価回路の説明図を示し、第1図(b)は一般
的なパターンの説明図、第1図(e)は、本発明のDC
−3QU I Dのパターンの説明図である。
図において、1は超電導膜、2はウィークリンク、3は
孔である。
孔である。
第1図(a)及び第1図(b)は、2ケ所のウィークリ
ンク2とこれを含む超電導ループで構成されている。
ンク2とこれを含む超電導ループで構成されている。
また第1図(C)は、第1図(b)の孔と同じ孔の面積
を有し、常電導抵抗を大きくすることが出来る。
を有し、常電導抵抗を大きくすることが出来る。
薄膜は、RFマグネトロンスパッタリングによるYBa
Cu O膜を用い、その形成条件は次の237−
δ 通りである。
Cu O膜を用い、その形成条件は次の237−
δ 通りである。
ガス圧 5 x 1O−3Torr。
使用ガス A「ガス。
電力 2.5 v/cd
で単結晶Mg0(100)上に1.5μ−の厚さで薄膜
を形成した。
を形成した。
続いて、熱処理を920℃、0,5時間の条件によって
超電導体薄膜とした。
超電導体薄膜とした。
この超電導体薄膜の臨界温度Tcは83にであり、臨界
電流密度Jcは900A/ cd (at77K)であ
った。
電流密度Jcは900A/ cd (at77K)であ
った。
またパターンニングはポジレジスト(東京応化■製OF
l? R800′)を用い、燐酸(2νt%)によっ
てエツチングを行った。
l? R800′)を用い、燐酸(2νt%)によっ
てエツチングを行った。
この5QUIDは、第1図(c)に示す如く、ウィーク
リング2をミアンダ形状とし、5QUIDの孔の面積は
90000(lJa+2)とし、線+l]は20−1長
さは直線換算にて約80011+mとした。
リング2をミアンダ形状とし、5QUIDの孔の面積は
90000(lJa+2)とし、線+l]は20−1長
さは直線換算にて約80011+mとした。
また第1図(b)のタイプの5QUIDも同し膜を用い
、孔の大きさ300 X 300 IImとし、ウィー
クリンク2の長さを200μm幅を20−として形成し
た。
、孔の大きさ300 X 300 IImとし、ウィー
クリンク2の長さを200μm幅を20−として形成し
た。
第2図は、上記第1図(b)及び第1図(e)における
SQU I Dの磁束(Φ。)と出力電圧(μV)の関
係図を示すものである。これらはそれぞれバイアス電流
を最適化しである。
SQU I Dの磁束(Φ。)と出力電圧(μV)の関
係図を示すものである。これらはそれぞれバイアス電流
を最適化しである。
この第2図から、両方のDC−8QU I Dにおいて
出力電圧(μ■)が磁束量子Φ。の整数倍の周期をもっ
て変化する出力特性を示していることがわかる。
出力電圧(μ■)が磁束量子Φ。の整数倍の周期をもっ
て変化する出力特性を示していることがわかる。
この特性により各種の磁気センサーへの用途に応用出来
ることが期待される。
ることが期待される。
また第2図から、出力電圧の振幅が従来法の場合の1.
2μVからミアンダタイプのウィークリンク時の4μ■
へと増加し、出力電圧はミアンダしない時に比べてミア
ンダタイプの時は、より大きな出力電圧を有しているこ
とは明らかである。
2μVからミアンダタイプのウィークリンク時の4μ■
へと増加し、出力電圧はミアンダしない時に比べてミア
ンダタイプの時は、より大きな出力電圧を有しているこ
とは明らかである。
[発明の効果]
以上説明したように、本発明の酸化物超電導体を用いた
l)C型超電導量子干渉素子によれば、DC型超電導量
子干渉素子DCのウィークリンクをミアンダ形状とし、
ループのインダクタンスを変化せずに、超電導臨界電流
! と常電導抵抗Rの積n 11ン を大きくすることが出来る。
l)C型超電導量子干渉素子によれば、DC型超電導量
子干渉素子DCのウィークリンクをミアンダ形状とし、
ループのインダクタンスを変化せずに、超電導臨界電流
! と常電導抵抗Rの積n 11ン を大きくすることが出来る。
n
さらに、本発明は、出力電圧の振幅が、従来法の場合の
1.2μVから本発明の場合は4μ■へと増加し、この
ため、磁束計等への応用がより容易になるなどの効果を
奏するものである。
1.2μVから本発明の場合は4μ■へと増加し、この
ため、磁束計等への応用がより容易になるなどの効果を
奏するものである。
第1図(a)は、酸化物超電導膜によるDC−3QU
I Dの等価回路の説明図、第1図(b)は一般的なパ
ターンの説明図、第1図(c)は、本発明のDC−3Q
U I Dのパターンの説明図、第2図は、第1図(b
)及び第1図(C)における5QUIDの磁束と出力電
圧との関係図である。 図において、1は超電導膜、2はウィークリンク、3は
孔である。 (0)(b’) 不も月のDC−5oUIDのパターン3え5月ごゴ(C
) 第1図 成東 (φ0) λテai−iジフコ電万仁との5閂イ透ミr?コ第2図 手続補正書(自発) tjj、11.21 昭和 年 月 日
I Dの等価回路の説明図、第1図(b)は一般的なパ
ターンの説明図、第1図(c)は、本発明のDC−3Q
U I Dのパターンの説明図、第2図は、第1図(b
)及び第1図(C)における5QUIDの磁束と出力電
圧との関係図である。 図において、1は超電導膜、2はウィークリンク、3は
孔である。 (0)(b’) 不も月のDC−5oUIDのパターン3え5月ごゴ(C
) 第1図 成東 (φ0) λテai−iジフコ電万仁との5閂イ透ミr?コ第2図 手続補正書(自発) tjj、11.21 昭和 年 月 日
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 酸化物超電導膜を用いた2ケ所のウィーク リンクを有するDC型超電導量子干渉素子において、前
記ウィークリンクをミアンダ形状としたことを特徴とす
る酸化物超電導体を用いたDC型超電導量子干渉素子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63088233A JPH01260868A (ja) | 1988-04-12 | 1988-04-12 | 酸化物超電導体を用いたdc型超電導量子干渉素子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63088233A JPH01260868A (ja) | 1988-04-12 | 1988-04-12 | 酸化物超電導体を用いたdc型超電導量子干渉素子 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01260868A true JPH01260868A (ja) | 1989-10-18 |
Family
ID=13937149
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63088233A Pending JPH01260868A (ja) | 1988-04-12 | 1988-04-12 | 酸化物超電導体を用いたdc型超電導量子干渉素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01260868A (ja) |
-
1988
- 1988-04-12 JP JP63088233A patent/JPH01260868A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5767043A (en) | Multiple squid direct signal injection device formed on a single layer substrate | |
| US4371796A (en) | Josephson logic gate device | |
| Hunt et al. | High‐T c superconductor/normal‐metal/superconductor edge junctions and SQUIDs with integrated groundplanes | |
| JP3589656B2 (ja) | 段付きエッジ間のSNS接合を用いる高Tcマイクロブリッジ超電導体装置 | |
| US4831421A (en) | Superconducting device | |
| US5462762A (en) | Fabrication method of superconducting quantum interference device constructed from short weak links with ultrafine metallic wires | |
| JPS592389B2 (ja) | 準粒子注入制御型超電導弱結合素子 | |
| EP0493258A2 (en) | Superconducting quantum interference device formed of oxide superconductor thin film | |
| Schneider et al. | dc SQUIDs based upon YBa2Cu3O7 nanobridges | |
| US5721197A (en) | Controllable superconductor component | |
| JP2674680B2 (ja) | 超伝導超格子結晶デバイス | |
| JP2812060B2 (ja) | Squid | |
| JPH01260868A (ja) | 酸化物超電導体を用いたdc型超電導量子干渉素子 | |
| US5338943A (en) | Magnetic flux-enhanced control line for superconducting flux flow transistor | |
| US5883051A (en) | High Tc superconducting Josephson junction element | |
| EP0381541B1 (en) | Superconductive magnetoresistive device | |
| JP2879010B2 (ja) | 超電導素子 | |
| US20080146449A1 (en) | Electrical device and method of manufacturing same | |
| JPH01273370A (ja) | Dc型超電導量子干渉素子の製造方法 | |
| JP2644284B2 (ja) | 超電導素子 | |
| JPH01161880A (ja) | 超電導素子 | |
| JP2679610B2 (ja) | 超電導素子の製造方法 | |
| JP2768276B2 (ja) | 酸化物超電導接合素子 | |
| JP2943293B2 (ja) | Dc―squid磁力計 | |
| JPH07106645A (ja) | 超電導量子干渉素子 |