JPH0126198B2 - - Google Patents

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JPH0126198B2
JPH0126198B2 JP58125717A JP12571783A JPH0126198B2 JP H0126198 B2 JPH0126198 B2 JP H0126198B2 JP 58125717 A JP58125717 A JP 58125717A JP 12571783 A JP12571783 A JP 12571783A JP H0126198 B2 JPH0126198 B2 JP H0126198B2
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JP
Japan
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pulsed laser
mirror
discharge
unstable resonator
concave mirror
Prior art date
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Expired
Application number
JP58125717A
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English (en)
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JPS6017974A (ja
Inventor
Yoshihide Kanehara
Shigeru Koikawa
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP12571783A priority Critical patent/JPS6017974A/ja
Publication of JPS6017974A publication Critical patent/JPS6017974A/ja
Publication of JPH0126198B2 publication Critical patent/JPH0126198B2/ja
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/23Arrangements of two or more lasers not provided for in groups H01S3/02 - H01S3/22, e.g. tandem arrangements of separate active media
    • H01S3/2308Amplifier arrangements, e.g. MOPA
    • H01S3/2325Multi-pass amplifiers, e.g. regenerative amplifiers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/05Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
    • H01S3/08Construction or shape of optical resonators or components thereof
    • H01S3/08081Unstable resonators
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/14Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
    • H01S3/22Gases
    • H01S3/223Gases the active gas being polyatomic, i.e. containing two or more atoms
    • H01S3/2232Carbon dioxide (CO2) or monoxide [CO]

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Lasers (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は不安定共振器型パルスレーザ装置、
特に不安定共振器のパルスレーザ出力構成に関す
るものである。
従来、この種のレーザ装置として、第1図に示
すものがあつた。第1図において、1は不安定共
振器型レーザ装置本体、2と3は適切な空隙イを
確保して配置され、その間でグロー(又は無声)
放電させるための対をなす放電電極、4は前記放
電のための電源、5は前記空隙イ部分に炭酸ガス
を主成分とする放電媒質ロを適切な温度に冷却し
た循環供給するガス循環装置、6は全反射鏡であ
る凹面鏡、7は全反射鏡である凸面鏡であり、凹
面鏡6と凸面鏡7は光軸ハを一致させ、適切な距
離をもつて対向配置され、これらで不安定共振器
を形成する。8は凹面鏡6、凸面鏡7の間で光軸
ハ上に、45度の傾斜にて、かつ中央部にダ円形の
光軸ハの方向から見て円形の開口部を有する全反
射鏡である開口付平面鏡、9と10はレーザ光の
方向を変えるための全反射鏡である平面鏡、11
はレーザ光を集光するための凸レンズ、12は凸
レンズ11を保持する加工ヘツド、13は被加工
物、14は被加工物を光軸ヘに垂直な平面内で任
意に移動させ得る加工テーブルを示す。
次に動作について説明する。ガス循環冷却装置
5により、前述の放電媒質ロを空隙イに循環供給
し、かつ電源4より通電し、放電電極2,3の間
でグロー(又は無声)放電させることにより、前
記空隙イの放電媒質ロが励起され、炭酸ガスに特
有の約10.6μの波長の赤外光が発生する。これが
凹面鏡6と凸面鏡7で構成された不安定共振器内
で増巾され、レーザ光を発振する。レーザ光は開
口付平面鏡8により光軸ニの方向へリングモード
にて導かれ、更に平面鏡9,10にて光軸ホ方向
から光軸ヘ方向へ方向を変え、凸レンズ11にて
大きなエネルギー密度に集光され、被加工物13
に照射されこれを切断加工する。
一般に、金属材料等を切断する場合、連続出力
のレーザ光で行うと、入熱が大きいため切断面が
きたなくなり、精密な切断ができない。逆にパル
スで切断すると高精度の切断ができ、切断面が非
常にきれいになることが知られている。ところが
第1図に示すレーザ装置の場合、出力するレーザ
光の応答速度は電源4の応答が遅いということも
あり、また発振ビーム径が大きく、大きな放電体
積であるためレーザ媒質ガスの通過時間が長く、
数百Hz以上の高速パルス出力は不可能であつた。
この発明は上記のような従来のものの欠点を除
去するためになされたもので、不安定共振器を構
成する凹面鏡の中心に貫通孔を設け、同一光軸上
に第2のパルスレーザ装置を設け、これ等から得
られるパルスレーザ光を前記凹面鏡の貫通孔から
不安定共振器内に注入し、これをトリガーとして
大出力パルスレーザ光を発生させることが出来る
レーザ装置を提供することを目的としている。
この発明の一実施例を図について説明する。第
2図において6′は中心部に貫通孔トを有する全
反射鏡である小孔付凹面鏡、16はパルスレーザ
光を出力する第2のレーザ装置である。その他は
第1図と同一であり同一番号は同一のものを示
す。
第2図に示した実施例において、パルスレーザ
装置16から出たパルスレーザ光は、小孔付凹面
鏡6′の貫通孔トを通して凹面鏡6′、凸面鏡7等
から成る不安定共振器内に注入され、進行方向は
光軸ハと一致している。それゆえ、前記パルスレ
ーザ光は第3図に示すように小孔付凹面鏡6′と
凸面鏡7の間で反射を繰返しながら次第に光軸ハ
から離れ、ついには穴付平面鏡8にて不安定共振
器から外へ導かれる。この間、放電電極2,3間
のグロー(又は無声)放電により、放電媒質ロ中
の励起された炭酸ガス分子に前記レーザ光が衝突
を繰返してレーザ光は増巾され、リングモードA
の大出力レーザ光として出力される。すなわち前
記パルスレーザ光がトリガーとなつて大出力レー
ザ光が出力されるが、そのパルス応答速度はパル
スレーザ光と同一である。
また、パルスレーザ装置として高速応答のパル
スレーザである無声放電励起パルスレーザを使用
すると0〜3KHzの大出力パルスレーザを出力す
ることができる。不安定共振器の出力結合率Mを
大きく設定することにより、より大出力で良質の
ビームのパルスレーザ出力が得られる。
以上のようにこの発明によれば、不安定共振器
を構成する凹面鏡の中心に貫通孔を設け、かつ同
一光軸上に第2のパルスレーザ装置を設け、前記
貫通孔を通してパルスレーザ光を注入し、これを
トリガーとして大出力のパルスレーザ光を出力で
きる構造としたので、被加工物の精密切断に高性
能なレーザ装置が得られる効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の不安定共振器型レーザ装置を示
す構成図、第2図はこの発明の不安定共振器型レ
ーザ装置を示す構成図、第3図は第2図に示した
不安定共振器の光学系を説明するための図であ
る。 図中、6は小孔付凹面鏡、7は凸面鏡、16は
第2のパルスレーザ装置である。なお、図中同一
符号は同一又は相当部分を示す。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 空隙を介して配置され、その空隙で放電を形
    成する一対の放電電極、上記一対の放電電極間に
    炭酸ガスを主成分とする放電媒質を循環供給させ
    る手段、上記一対の放電電極間での放電による上
    記放電媒質の励起により発生する光を増幅する凹
    面鏡と凸面鏡から不安定共振器を構成し、上記凹
    面鏡と凸面鏡の間でその光軸上に所定傾斜角度
    で、かつ、中央部に開口部を有する全反射鏡の開
    口付平面鏡を配設し、上記開口付平面鏡からレー
    ザ出力を得る装置であつて、上記不安定共振器を
    構成する凹面鏡の中心に貫通孔を設けると共に、
    上記貫通孔を通して上記不安定共振器の外部から
    パルスレーザ光を注入する第2のパルスレーザ装
    置を具備し、上記第2のパルスレーザ装置からの
    パルスレーザ光をトリガーとして大出力のパルス
    レーザ光を出力する不安定共振器型パルスレーザ
    装置。
JP12571783A 1983-07-11 1983-07-11 不安定共振器型パルスレ−ザ装置 Granted JPS6017974A (ja)

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JP12571783A JPS6017974A (ja) 1983-07-11 1983-07-11 不安定共振器型パルスレ−ザ装置

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JP12571783A JPS6017974A (ja) 1983-07-11 1983-07-11 不安定共振器型パルスレ−ザ装置

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Publication Number Publication Date
JPS6017974A JPS6017974A (ja) 1985-01-29
JPH0126198B2 true JPH0126198B2 (ja) 1989-05-22

Family

ID=14917005

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JP12571783A Granted JPS6017974A (ja) 1983-07-11 1983-07-11 不安定共振器型パルスレ−ザ装置

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Publication number Publication date
JPS6017974A (ja) 1985-01-29

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