JPH01262454A - 蓄積性蛍光板からのx線回折像読取り方法 - Google Patents

蓄積性蛍光板からのx線回折像読取り方法

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JPH01262454A
JPH01262454A JP63089000A JP8900088A JPH01262454A JP H01262454 A JPH01262454 A JP H01262454A JP 63089000 A JP63089000 A JP 63089000A JP 8900088 A JP8900088 A JP 8900088A JP H01262454 A JPH01262454 A JP H01262454A
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JP
Japan
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reading
fluorescent plate
ray diffraction
single crystal
time
Prior art date
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Pending
Application number
JP63089000A
Other languages
English (en)
Inventor
Keizo Ogawa
恵三 小川
Yutaka Yokozawa
横沢 裕
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Rigaku Denki Co Ltd
Rigaku Corp
Original Assignee
Rigaku Denki Co Ltd
Rigaku Corp
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Publication date
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Publication of JPH01262454A publication Critical patent/JPH01262454A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、X線回折像を潜像として記録している蓄積性
蛍光板に励起光線を照射して、そこから発生する蛍光を
検出する形式のX線回折@読取り方法に関し、特に、被
測定単結晶の軸立てを行うための読取り方法に関する。
[従来の技術] この種の蓄積性蛍光板からX線回折像を読み取るには、
レーザ光などの励起光線を、蓄積性蛍光板上で走査し、
発生する蛍光を所定のサンプリング間隔で測定している
。読取りの画素サイズは、X線回折像が必要とする分解
能に応じて定められる。単結晶の#l造解析を行うため
には、単結晶による回折強度を精度良く測定しなければ
ならず、したがって、画素サイズは小さくする必要があ
る。
ところで、X線回折像による結晶構造解析の際には、被
測定単結晶の軸立てが正しくなされていれば、その後の
処理がより簡単にかつ迅速になる。
ここで、「軸立て」とは、測定すべき単結晶の特定の結
晶軸を、X線入射軸および結晶回転軸に対して所定の方
向に正確に位置決めすることである。
この軸立てを行うには、まず、ゴニオメータヘッドにセ
ットした単結晶に対して、予備的なX線回折測定を行う
。そして、この回折パターンを参考にしてゴニオメータ
ヘッドを微調整し、単結晶を正しい方向にもっていく。
このような軸立て作業を何回も繰り返すことによって、
軸立てが完了することになる。
[発明が解決しようとする課題] 結晶構造解析の精度を良くするために読取りの画素サイ
ズは小ざくされているので、蓄積性蛍光板の読取りには
ある程度の時間がかかる。一方で、上述の軸立て作業に
あっては、蓄積性蛍光1反の読取りを何回も行わなけれ
ばならず、その都度、励起光線を走査することになる。
したがって、軸立て作業には多くの時間が費やされてい
た。
本発明は、このような事情に罵みてなされたものであり
、その目的は、軸立て作業時間を短縮できるような読取
り方法を堤供することにある。
[課題を解決するための手段コ 上記目的を達成するため、本発明の読取り方j人は、被
測定単結晶の軸立てを行うために、正規の読取り画素サ
イズよりも大きな画素サイズで読取りを行うことを特徴
とする。
また、本発明に係る別の読取り方法では、被測定単結晶
の軸立てを行うために、正規の読取り領域よりも狭い中
心領域だけで読取りを行うことを特徴とする。
本発明に係るさらに別の読取り方法では、上述の二つの
読取り方法を組み合わせている。
し作用] 軸立てに必要な情報は、回折パターンのみであり、正確
な回折強度は必要ではない。したがって、必要な範囲内
で画素サイズを大きくすれば、全体の読取り時間が短縮
できる。
また、正規の読取り領域よりも狭い中心領域だけを読み
取れば、読取り時間の短縮に直接つながる。軸立てをす
るには、中心領域だけの回折パターンがあれば十分であ
る。
さらに、上述の二つの読取り方法を組み合わせれば、当
然、読取り時間は、より短縮される。すなわら、中心領
域だけを、大きな画素サイズで読み取るわけである。
[実施例] 次に、図面を参照して本発明の詳細な説明する。
第4図は本発明の読取り方法で使用している読取り装置
の一例を示した斜視図である。平面状の蓄積性蛍光板1
0の正面には、蛍光読取り装置が配置されている。この
蛍光読取装置は、X−Y二次元スキャン方式であり、上
下方向に移動するXステージと、このXステージに載っ
ていて水平方向に移動するYステージとを有する。Xス
テージには反則ミラー11が固定され、Yステージには
、反射ミラー12と対物レンズ13が固定されている。
反則ミラー11の下方には別の反則ミラー14があり、
この反射ミラー14には孔15が開いている。反射ミラ
ー14の下方にはレーザ発生装置17があり、反射ミラ
ー14の手前には光電子増倍管16が配置されている。
光電子増倍管16の出力はアナログ・ディジタル変換器
でディジタル信号に変換されるが、このとき、所定のサ
ンプリングタイムでディジタル信号をホールドしている
。異体的な例を挙げると、入力されたアナログ信号を1
00nSの間だけ(4分して、その値をディジタル信号
としてホールドする。そして、その後は、10μsの間
だけ、ホールドを続ける。次に、また100nSの間だ
け入力アナログ信号を積分して、その値をディジタル信
号としてホールドする。このようにして、10μsごと
にサンプリングを行っている。
レーザ発生装置17から発射されたレーザ光は、反則ミ
ラー14の孔15を通過して、反射ミラー11と反射ミ
ラー12と対物レンズ13とを経て、蓄積性蛍光板10
に当たる。そのとき発生した蛍光は、同様の経路を戻っ
ていき、最終的に光電子増倍管16で検出される。この
読取りは、X−Y二次元スキャンとともに実施される。
この実施例で使用する蓄積性蛍光板は、二価のユーロピ
ウムイオンをドープしたバリウムフロロブロマイド(B
aFBr : Eu” )の粉末結晶蛍光体を、プラス
チックフィルム上に塗布したものである。読取りに使用
するレーザ光は、He−Neレーザ光(波長633nm
>であり、発生する蛍光は波長390nmにピークを持
つものである。
第2図は、正規のX線回折測定における読取り方法を示
す。すなわち、被測定単結晶の軸立てが完了した状態で
、そのX線回折像が蓄積性蛍光板に記録されてあり、こ
の蓄積性蛍光板に対して読取りを行うものである。この
図の黒丸20は、各サンプリング時刻における、蓄積性
蛍光板上でのレーザ光の位置を示す。すなわち、蛍光が
読み取られる位置を示している。レーザ光は水平に走査
されていき、水平方向でのサンプリング間隔はaである
。レーザ光が蓄積性蛍光板の端まで到達すると、距離a
だけ下に移動して、反対方向に走査されていく。図の縦
横の直線21.22で区切られた正方形は、一つの読取
り位置が代表する領域を表す。この実施例では、200
mmx200mmの寸法の蓄積性蛍光板に対して、読取
り画素サイズは、105μmX105μmである。すな
わちa=105μmである。レーザ光のビーム径は、こ
の画素サイズに合わせて、105μmに絞られている。
第1図は、被測定単結晶の軸立てのための読取りを示す
。すなわち、軸立てのためのX線回折像が蓄積性蛍光板
に記録されており、この蓄積性蛍光板に対して読取りを
行うものである。第2図の場合と異なるのは、サンプリ
ング間隔すが、aの2倍になっていることでおる。これ
は、レーザ光の走査速度を、X方向およびY方向で、2
倍にしているためである。したがって、画素サイズは、
210μmx210μmとなっている。すなわちb=2
10μmである。破線で示す正方形23は、一つの読取
り位置が代表する領域を表している。
このような読取り方法により、第2図のものに比べて、
読取り時間が4分の1に短縮されている。
もちろん、X方向のみ、あるいはY方向のみの走査速度
を2倍にすることもでき、この場合は、読取り時間は2
分の1に短縮される。
なあ、第1図の例では画素サイズを2倍にしているが、
これを任意の倍数にすることができるのはもちろんであ
る。
第3図は、軸立ての際の読取り方法の別の例である。こ
の例では、蓄積性蛍光板10の中心領域30だけを読み
取っている。この領域30の中では、第2図に示すのと
同じ読取り方法を行っている。この実施例では、200
mmx200mmの寸法の蓄積性蛍光板に対して、io
ommxloommの中心領域30を設定している。こ
れにより、読取り時間が4分の1に短縮されている。
実際は、大まかな軸立てに対しては、中心領域30は、
50mmx50mmぐらイニしても問題はなく、この場
合は、読取り時間は、第2図のものに比べて、16分の
1に短縮される。なあ、中心領域の寸法としては、これ
らの値以外にも、任意の寸法を取ることができるのはも
ちろんである。
さらに、第1図と第3図の読取り方法を組み合わせるこ
ともできる。すなわち、中心領域だけの読取りを行い、
しかも、2倍の画素サイズで読取りを行うのである。こ
うすれば、読取り時間は大幅に短縮される。何回かの軸
立て作業のうち、最初の方の軸立て作業では、必より精
度を必要としない場合も多く、したがって、このような
読取り方法も採用できる。
[発明の効果] 以上説明したように、請求項1の発明は、被測定単結晶
の軸立てを行うために、正規の読取り画素サイズよりも
大きな画素サイズで読取りを行っているので、読取り時
間が短縮される。
また、請求項2の発明は、被測定単結晶の軸立てを行う
ために、正規の読取り領域よりも狭い中心領域だけで読
取り゛を行っているので、同PAc、読取り時間が短縮
される。
ざらに、請求項3の発明では、上述の二つの読取り方法
を組み合わせているので、読取り時間が大幅に短縮され
る。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一例を示す説明図、 第2図は正規の読取り方法を示す説明図、第3図は本発
明の別の例を示す説明図、第4図は本発明で使用してい
る読取り装置の一例を示す斜視図である。 a・・・正規の画素サイズ b・・・大ぎな画素サイズ 10・・・蓄積性蛍光板 30・・・中心領域

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)X線回折像を潜像として記録している蓄積性蛍光
    板に励起光線を照射して、そこから発生する蛍光を検出
    する形式のX線回折像読取り方法において、 被測定単結晶の軸立てを行うために、正規の読取り画素
    サイズよりも大きな画素サイズで読取りを行うことを特
    徴とする読取り方法。
  2. (2)X線回折像を潜像として記録している蓄積性蛍光
    板に励起光線を照射して、そこから発生する蛍光を検出
    する形式のX線回折像読取り方法において、 被測定単結晶の軸立てを行うために、正規の読取り領域
    よりも狭い中心領域だけで読取りを行うことを特徴とす
    る読取り方法。
  3. (3)X線回折像を潜像として記録している蓄積性蛍光
    板に励起光線を照射して、そこから発生する蛍光を検出
    する形式のX線回折像読取り方法において、 被測定単結晶の軸立てを行うために、正規の読取り画素
    サイズよりも大きな画素サイズで、かつ、正規の読取り
    領域よりも狭い中心領域だけで、読取りを行うことを特
    徴とする読取り方法。
JP63089000A 1988-04-13 1988-04-13 蓄積性蛍光板からのx線回折像読取り方法 Pending JPH01262454A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07219088A (ja) * 1994-01-31 1995-08-18 Hitachi Cable Ltd X線フィルム検査装置及び電力ケーブルのx線検査方法
EP0777148A1 (en) * 1995-12-01 1997-06-04 Fuji Photo Film Co., Ltd. Radiation image read-out apparatus

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5844039A (ja) * 1981-09-11 1983-03-14 株式会社東芝 Ct画像表示方法

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5844039A (ja) * 1981-09-11 1983-03-14 株式会社東芝 Ct画像表示方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07219088A (ja) * 1994-01-31 1995-08-18 Hitachi Cable Ltd X線フィルム検査装置及び電力ケーブルのx線検査方法
EP0777148A1 (en) * 1995-12-01 1997-06-04 Fuji Photo Film Co., Ltd. Radiation image read-out apparatus
US5801391A (en) * 1995-12-01 1998-09-01 Fuji Photo Film Co., Ltd. Radiation image read-out apparatus

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