JPH01265146A - X線回折装置 - Google Patents
X線回折装置Info
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- JPH01265146A JPH01265146A JP9430388A JP9430388A JPH01265146A JP H01265146 A JPH01265146 A JP H01265146A JP 9430388 A JP9430388 A JP 9430388A JP 9430388 A JP9430388 A JP 9430388A JP H01265146 A JPH01265146 A JP H01265146A
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 29
- 239000013078 crystal Substances 0.000 abstract description 10
- 230000004304 visual acuity Effects 0.000 abstract 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
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- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、X線回折装置にかかり、特に、試料から回折
されてくる回折X線の回折角を測定するためのX線検出
器をエネルギー分解能を有する半導体X線検出器で構成
したものに関する。
されてくる回折X線の回折角を測定するためのX線検出
器をエネルギー分解能を有する半導体X線検出器で構成
したものに関する。
[従来の技術]
X線回折装置は、結晶性試料に単色X線を照射したとき
に該試料から回折されてくる回折X線の回折角を測定す
るもので、前記試料を載置してこれを回転速度θで回転
させ、一方、該試料から回折されてくる回折X線を検出
するX線検出器を前記試料の回転中心を中心に前記試料
の回転に同期して回転速度2θで回転させるいわゆるゴ
ニオメータが用いられる。
に該試料から回折されてくる回折X線の回折角を測定す
るもので、前記試料を載置してこれを回転速度θで回転
させ、一方、該試料から回折されてくる回折X線を検出
するX線検出器を前記試料の回転中心を中心に前記試料
の回転に同期して回転速度2θで回転させるいわゆるゴ
ニオメータが用いられる。
この場合、このゴニオメータに搭載されるX線検出器と
しては、ガイガー計数管、比例計数管もしくはシンチレ
ーションカウンター等が用いられている。すなわち、前
記従来のXi回折装置は、原理的に、試料に照射するX
線を単色X線とし、前記X線検出器によって、この単色
X線が前記試料内でブラッグの回折条件を満足して特定
の方向に回折されてくる回折X線の強度を測定するもの
で、したがって、従来のX線回折装置に用いられるX線
検出器は、この単色X線の強度を正確に判別できるもの
であればよく、エネルギー分解能は、この検出器に接続
される波高分析器等で一定の雑音成分を除去できる程度
であればよいとされていた。
しては、ガイガー計数管、比例計数管もしくはシンチレ
ーションカウンター等が用いられている。すなわち、前
記従来のXi回折装置は、原理的に、試料に照射するX
線を単色X線とし、前記X線検出器によって、この単色
X線が前記試料内でブラッグの回折条件を満足して特定
の方向に回折されてくる回折X線の強度を測定するもの
で、したがって、従来のX線回折装置に用いられるX線
検出器は、この単色X線の強度を正確に判別できるもの
であればよく、エネルギー分解能は、この検出器に接続
される波高分析器等で一定の雑音成分を除去できる程度
であればよいとされていた。
[発明が解決しようとする課題]
ところで、前記従来のX線回折装置においては、前記試
料に照射するX線の単色性が劣るときは、前記X線検出
器で測定される検出値が、必ずしも前記試料の結晶情報
を正確に表すものといえなくなる。
料に照射するX線の単色性が劣るときは、前記X線検出
器で測定される検出値が、必ずしも前記試料の結晶情報
を正確に表すものといえなくなる。
このため、前記従来のX線回折装置の測定精度を向上さ
せるには、前記試料に照射するX線の単色性を向上させ
る必要があった。
せるには、前記試料に照射するX線の単色性を向上させ
る必要があった。
この単色化を行うには、例えば、前記照射X線を単色化
フィルターを通して試料に照射したり、あるいは、モノ
クロ用結晶を介して照射したりする必要があった。
フィルターを通して試料に照射したり、あるいは、モノ
クロ用結晶を介して照射したりする必要があった。
ところが、このようなフィルターもしくは結晶による単
色化操作により、X線の強度が著しく減衰され、したが
って、S/N比という観点から見て、この方法による測
定精度の向上にも一定の限界があり、さらに精度を上げ
ようとすると、X線発生装置を極めて大型にしていく以
外に有効な方法が、ないが、これにも限界があった。
色化操作により、X線の強度が著しく減衰され、したが
って、S/N比という観点から見て、この方法による測
定精度の向上にも一定の限界があり、さらに精度を上げ
ようとすると、X線発生装置を極めて大型にしていく以
外に有効な方法が、ないが、これにも限界があった。
本発明の目的は、上述の欠点を除去し、従来のX線回折
装置では実現不可能であった測定精度を実現可能とする
X線回折装置を提供することにある。
装置では実現不可能であった測定精度を実現可能とする
X線回折装置を提供することにある。
[課題を解決するための手段]
本発明は、回折X線を検出するX線検出器としてエネル
ギー分解能を有する半導体X線検出器を用いるとともに
、前記半導体X線検出器に入射するX線の強度が一定値
以上となったときに該検出器に入射するX線の強度を減
衰させる減衰手段を設けたもので、これにより、前記従
来例のように単色化のためのフィルターや結晶を用いる
ことなく前記試料からの回折X線のみを検出可能とし、
これにより従来得ることのできなかった高S/N比を確
保可能としたものであって以下の構成を有する。
ギー分解能を有する半導体X線検出器を用いるとともに
、前記半導体X線検出器に入射するX線の強度が一定値
以上となったときに該検出器に入射するX線の強度を減
衰させる減衰手段を設けたもので、これにより、前記従
来例のように単色化のためのフィルターや結晶を用いる
ことなく前記試料からの回折X線のみを検出可能とし、
これにより従来得ることのできなかった高S/N比を確
保可能としたものであって以下の構成を有する。
結晶性試料を回転して該試料に照射するX線の入射角を
変えるとともに、該試料から回折されてくる回折X線を
検出するX線検出器を前記試料の回転中心を中心にして
前記試料の回転速度と一定の関係を有する速度で回転さ
せることにより、前記試料からの回折X線の回折角を測
定するようにしたX線回折装置において、 前記X線検出器を、エネルギー分解能を有する半導体X
線検出器で構成するとともに、この半導体X線検出器に
入射するX線の強度が一定値以上となったときに該検出
器に入射するX線の強度を減衰させるX線減衰手段を設
けたことを特徴とするX線回折装置。
変えるとともに、該試料から回折されてくる回折X線を
検出するX線検出器を前記試料の回転中心を中心にして
前記試料の回転速度と一定の関係を有する速度で回転さ
せることにより、前記試料からの回折X線の回折角を測
定するようにしたX線回折装置において、 前記X線検出器を、エネルギー分解能を有する半導体X
線検出器で構成するとともに、この半導体X線検出器に
入射するX線の強度が一定値以上となったときに該検出
器に入射するX線の強度を減衰させるX線減衰手段を設
けたことを特徴とするX線回折装置。
[作用]
前記構成によれば、前記特定の角度にあるX線検出器に
達するX線の中には、前記試料の特定の結晶格子によっ
てブラッグの回折条件を満足して回折されてきた特定の
波長を有するX線と、その他の波長成分のX線とが含ま
れるが、これら各X線は各波長成分毎(エネルギー毎)
に極めて分解能よく分解されて検出される。しかも、検
出されるX線強度が一定値以上となった場合には、前記
X線減衰手段によって前記X線検出器に入射されるX線
の強度が減衰されるようになっているから、過大入力に
よる前記X線検出器のエネルギー分解能が低下するおそ
れもない。
達するX線の中には、前記試料の特定の結晶格子によっ
てブラッグの回折条件を満足して回折されてきた特定の
波長を有するX線と、その他の波長成分のX線とが含ま
れるが、これら各X線は各波長成分毎(エネルギー毎)
に極めて分解能よく分解されて検出される。しかも、検
出されるX線強度が一定値以上となった場合には、前記
X線減衰手段によって前記X線検出器に入射されるX線
の強度が減衰されるようになっているから、過大入力に
よる前記X線検出器のエネルギー分解能が低下するおそ
れもない。
したがって、この波長成分毎(エネルギー毎)に分解さ
れたX線のうち前記ブラッグの回折条件を満足した回折
X線の波長成分のみの強度を測定することで、従来のX
線回折装置と同様の測定をすることができる。
れたX線のうち前記ブラッグの回折条件を満足した回折
X線の波長成分のみの強度を測定することで、従来のX
線回折装置と同様の測定をすることができる。
この場合、従来のX線回折装置に用いられていたX線検
出器に比軸して、前記半導体検出器はエネルギー分解能
が格段にすぐれていることから、従来のように、試料に
照射するX線をあらかじめ単色化させたり、あるいは、
試料から回折されてくる回折X線を検出器に入射させる
前に単色化する等の処理を全く施さなくてもブラッグの
回折条件を満足して入射した特定波長のX線のみを他の
X線とを明確に区別して感度よく正確に測定することが
できる。
出器に比軸して、前記半導体検出器はエネルギー分解能
が格段にすぐれていることから、従来のように、試料に
照射するX線をあらかじめ単色化させたり、あるいは、
試料から回折されてくる回折X線を検出器に入射させる
前に単色化する等の処理を全く施さなくてもブラッグの
回折条件を満足して入射した特定波長のX線のみを他の
X線とを明確に区別して感度よく正確に測定することが
できる。
それ故、従来の単色化フィルターやモノクロ用結晶等を
用いる場合に比較して著しく S/N比の高い測定を可
能にする。
用いる場合に比較して著しく S/N比の高い測定を可
能にする。
[実施例]
第1図は本発明の実施例にかかるX線回折装置の構成を
示す図である。
示す図である。
図において、符号1がX線源、符号2がゴニオメータ、
符号3が半導体X線検出器、符号4がX線減衰手段、符
号5がX線計数手段、符号6が演算制御手段、符号7が
記録手段である。
符号3が半導体X線検出器、符号4がX線減衰手段、符
号5がX線計数手段、符号6が演算制御手段、符号7が
記録手段である。
前記X線源1は、Cu、MoもしくはCO等をターゲッ
トとするX線管によって構成されており、前記ターゲッ
トに対応した特性X線を射出できるものである。
トとするX線管によって構成されており、前記ターゲッ
トに対応した特性X線を射出できるものである。
また、前記ゴニオメータ2は、ゴニオメータ本体21と
、このゴニオメータ本体21上に回転自在に設けられた
試料回転台22と、この試料回転台22の回転中心Oを
中心に回転自在に設けられたJll角台23と、この測
角台23上に11置されたX線検出器3と、このX線検
出器3に入射するX線を減衰させることができるX線減
衰手段4とから構成されている。
、このゴニオメータ本体21上に回転自在に設けられた
試料回転台22と、この試料回転台22の回転中心Oを
中心に回転自在に設けられたJll角台23と、この測
角台23上に11置されたX線検出器3と、このX線検
出器3に入射するX線を減衰させることができるX線減
衰手段4とから構成されている。
前記ゴニオメータ本体21は、前記試料回転台22を角
速度θで回転させると同時に、前記測角台23を角速度
2θで回転させる駆動機構が内蔵されている。
速度θで回転させると同時に、前記測角台23を角速度
2θで回転させる駆動機構が内蔵されている。
また、前記半導体X線検出器3は、SlもしくはGe等
の半導体を検出素子として用いたものである。この半導
体X線検出器3は、該X線検出器3に入射したX線のエ
ネルギー(波長)に比例した波高を有し、入射X線の強
度に比例した数のパルス信号を送出するもので、比例計
数管やシンチレーショウカンター等に比較してエネルギ
ー分解能が著しく高い、すなわち、例えば、検出すべき
X線のエネルギーが5.9KeVの付近においては、エ
ネルギー分解能=ΔE/E<0.03である。
の半導体を検出素子として用いたものである。この半導
体X線検出器3は、該X線検出器3に入射したX線のエ
ネルギー(波長)に比例した波高を有し、入射X線の強
度に比例した数のパルス信号を送出するもので、比例計
数管やシンチレーショウカンター等に比較してエネルギ
ー分解能が著しく高い、すなわち、例えば、検出すべき
X線のエネルギーが5.9KeVの付近においては、エ
ネルギー分解能=ΔE/E<0.03である。
さらに、前記X線減衰手段4は、前記X線源1から射出
される特性X線に対して一定の透過率を有する減衰板5
1と、この減衰板41を駆動して、該減衰板41を前記
X線検出器3に入射するX線光路中に挿入及び離脱する
駆動装置42とから構成されている。
される特性X線に対して一定の透過率を有する減衰板5
1と、この減衰板41を駆動して、該減衰板41を前記
X線検出器3に入射するX線光路中に挿入及び離脱する
駆動装置42とから構成されている。
また、前記計数手段5は、前記半導体xl検出器3から
送出されるパルスの総数を計数する反ケーラー51と、
前記半導体X線検出器3から送出されるパルス信号をエ
ネルギー毎に分解して計数するマルチチャンネルアナラ
イザー52とから構成されている。
送出されるパルスの総数を計数する反ケーラー51と、
前記半導体X線検出器3から送出されるパルス信号をエ
ネルギー毎に分解して計数するマルチチャンネルアナラ
イザー52とから構成されている。
さらに、前記演算制御手段6は、前記マルチチャンネル
アナライザー52から送出された各エネルギー毎の計数
値を入力し、入力された時間と対応ずけて次々と記憶す
るとともに、前記スケーラ−51から送出される計数値
を入力し、その計数値に応じて以下の演算制御を行う。
アナライザー52から送出された各エネルギー毎の計数
値を入力し、入力された時間と対応ずけて次々と記憶す
るとともに、前記スケーラ−51から送出される計数値
を入力し、その計数値に応じて以下の演算制御を行う。
すなわち、まず、前記スケーラ−51の計数値とあらか
じめ与えられた一定の計数値との比較が行われる0次に
、この比較の結果、スケーラ−の計数値のほうが大きい
場合は、前記X線減衰手段4の駆動装置42を駆動して
X線減衰板41を前記X線検出器3に入射するX線光路
中に挿入する。
じめ与えられた一定の計数値との比較が行われる0次に
、この比較の結果、スケーラ−の計数値のほうが大きい
場合は、前記X線減衰手段4の駆動装置42を駆動して
X線減衰板41を前記X線検出器3に入射するX線光路
中に挿入する。
これと同時に、前記X線減衰板41を挿入した後に前記
マルチチャンネルアナライザー52から送出されてくる
各エネルギーのX線の計数値に、前記減衰板41を挿入
したことによって減ぜられた分の計数値に相当する計数
値を加算して記憶する。
マルチチャンネルアナライザー52から送出されてくる
各エネルギーのX線の計数値に、前記減衰板41を挿入
したことによって減ぜられた分の計数値に相当する計数
値を加算して記憶する。
一方、前記スケーラ−51の計数値のほうが小さい場合
には、前記と逆に、前記X線減衰板41を前記X線光路
中から離脱させる。この場合、前記加!L操作を解除す
ることは勿論である。こうして記憶された計数値は、必
要に応じて外部に送出できるようになっている。
には、前記と逆に、前記X線減衰板41を前記X線光路
中から離脱させる。この場合、前記加!L操作を解除す
ることは勿論である。こうして記憶された計数値は、必
要に応じて外部に送出できるようになっている。
そして、前記記録手段7は、前記演算制御手段6から送
出される特定のエネルギーのX線の計数値を次々と記録
表示するものである。
出される特定のエネルギーのX線の計数値を次々と記録
表示するものである。
上述の構成において、X線回折法による測定を行うには
以下の手順でなす。
以下の手順でなす。
まず、前記ゴニオメータ2の試料回転台22に測定対象
たる結晶性試料24を載置する0次に、この試料24の
表面に前記X線源1から射出される特性Xapを照射す
る。この状態で、前記試料回転台22と前記測角台23
とをそれぞれθ及び2θの角速度で回転させる。これに
より、前記半導体X線検出器3には前記試料24の方向
からくるXlqが入射する。この入射X線qの中には、
前記X線源1から射出される特性X線(特定の単一波長
を有したX線)が試料24の特定の結晶面においてブラ
ッグの回折条件を満足して回折されてくる回折X線のほ
かに、種々の種々のエネルギー(波長)を持った雑音成
分が含まれている。
たる結晶性試料24を載置する0次に、この試料24の
表面に前記X線源1から射出される特性Xapを照射す
る。この状態で、前記試料回転台22と前記測角台23
とをそれぞれθ及び2θの角速度で回転させる。これに
より、前記半導体X線検出器3には前記試料24の方向
からくるXlqが入射する。この入射X線qの中には、
前記X線源1から射出される特性X線(特定の単一波長
を有したX線)が試料24の特定の結晶面においてブラ
ッグの回折条件を満足して回折されてくる回折X線のほ
かに、種々の種々のエネルギー(波長)を持った雑音成
分が含まれている。
この入射X線は前記半導体X線検出器3によって各々の
エネルギーに比例した波高を有し、その強度に比例した
数の電気的パルスに変換されて前記計数手段5に送出さ
れる。
エネルギーに比例した波高を有し、その強度に比例した
数の電気的パルスに変換されて前記計数手段5に送出さ
れる。
この計数手段5においては、前記半導体X線検出器3か
ら送出されるパルスの総数(エネルギーに関係なく)が
前記スケーラ−51によって計数される。また、これと
並行して、前記マルチチャンネルアナライザー52によ
って、エネルギー毎に分解されて各エネルギー毎の計数
がなされる。
ら送出されるパルスの総数(エネルギーに関係なく)が
前記スケーラ−51によって計数される。また、これと
並行して、前記マルチチャンネルアナライザー52によ
って、エネルギー毎に分解されて各エネルギー毎の計数
がなされる。
そして、それぞれの計数値は前記演算制御手段6に送出
される。
される。
この演算制御手段6においては、前述のように、スゲー
ラー51の計数値とあらかじめ与えられた計数値との比
較、この比較結果による前記減衰板41の制御及び記憶
の各処理プロセスが遂行される。
ラー51の計数値とあらかじめ与えられた計数値との比
較、この比較結果による前記減衰板41の制御及び記憶
の各処理プロセスが遂行される。
この場合、前記あらかじめ与えられる一定の計数値とし
て、前記半導体X線検出器3がエネルギー分解能を落と
さずに計数できる最大の計数値より小さい計数値に選定
しておくようにする。これにより、前記試料24からく
るX線が、仮に、前記最大の計数値を越えるような強い
ものであっても、常に、前記半導体X線検出器3の分解
能を落とすことなくこのX線の強度を正確に検出するこ
とができる。
て、前記半導体X線検出器3がエネルギー分解能を落と
さずに計数できる最大の計数値より小さい計数値に選定
しておくようにする。これにより、前記試料24からく
るX線が、仮に、前記最大の計数値を越えるような強い
ものであっても、常に、前記半導体X線検出器3の分解
能を落とすことなくこのX線の強度を正確に検出するこ
とができる。
そして、前記演算制御手段6から前記記録手段7に送出
する計数値として、前記X線源1から射出される特性X
線(特定の単一波長を有しなX線)が試料24の特定の
結晶面においてプラ・ラグの回折条件を満足して回折さ
れてくる回折X線の計数値を選定することにより、従来
のX線回折装置によって得られるX線回折データと同様
のX線回折データを得ることができる。
する計数値として、前記X線源1から射出される特性X
線(特定の単一波長を有しなX線)が試料24の特定の
結晶面においてプラ・ラグの回折条件を満足して回折さ
れてくる回折X線の計数値を選定することにより、従来
のX線回折装置によって得られるX線回折データと同様
のX線回折データを得ることができる。
この場合、本実施例においては、前記回折X線の計数値
は、はぼ完全に特定の結晶面がらの回折線のみによるも
のである。これは、前記回折線以外の雑音成分(試料か
らの螢光X線、X線源1から射出される特性X線に含ま
れる異なる波長成分その他の雑音成分)は前記半導体X
線検出器3及びマルチチャンネルアナライザー52によ
ってほぼ完全に除去されるからである。しかも、この際
、従来のように、雑音成分を除去するために単色化モノ
クロメータ等を全く用いる必要がないから、X@源とし
て強力なX線発生装置を用いることなく、S/N比の極
めて高い測定ができる。
は、はぼ完全に特定の結晶面がらの回折線のみによるも
のである。これは、前記回折線以外の雑音成分(試料か
らの螢光X線、X線源1から射出される特性X線に含ま
れる異なる波長成分その他の雑音成分)は前記半導体X
線検出器3及びマルチチャンネルアナライザー52によ
ってほぼ完全に除去されるからである。しかも、この際
、従来のように、雑音成分を除去するために単色化モノ
クロメータ等を全く用いる必要がないから、X@源とし
て強力なX線発生装置を用いることなく、S/N比の極
めて高い測定ができる。
[発明の効果]
以上詳述したように、本発明は、回折X線を検出するX
線検出器としてエネルギー分解能を有する半導体X線検
出器を用いるとともに、前記半導体X線検出器に入射す
るX線の強度が一定値以上となったときに該検出器に入
射するX線の強度を減衰させる減衰手段を設けたもので
、これにより、前記従来例のように単色化のためのフィ
ルターや結晶を用いることなく前記試料からの回折X線
のみを検出可能とし、これにより従来得ることのできな
かった高S/N比での測定を可能にしたものである。
線検出器としてエネルギー分解能を有する半導体X線検
出器を用いるとともに、前記半導体X線検出器に入射す
るX線の強度が一定値以上となったときに該検出器に入
射するX線の強度を減衰させる減衰手段を設けたもので
、これにより、前記従来例のように単色化のためのフィ
ルターや結晶を用いることなく前記試料からの回折X線
のみを検出可能とし、これにより従来得ることのできな
かった高S/N比での測定を可能にしたものである。
第1図は本発明の実施例にがかるX+41回折装置を示
す図である。 1・・・X線源、 2・・・ゴニオメータ、 22・・・試料回転台、 23・・・測角台、 24・・・試料、 3・・・半導体X線検出器、 4・・・xis衰手投手 5・・・計数手段、 6・・・演算制御手段、 7・・・記録手段。 出願人 株式会社マックサイエンス
す図である。 1・・・X線源、 2・・・ゴニオメータ、 22・・・試料回転台、 23・・・測角台、 24・・・試料、 3・・・半導体X線検出器、 4・・・xis衰手投手 5・・・計数手段、 6・・・演算制御手段、 7・・・記録手段。 出願人 株式会社マックサイエンス
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 結晶性試料を回転して該試料に照射するX線の入射角を
変えるとともに、該試料から回折されてくる回折X線を
検出するX線検出器を前記試料の回転中心を中心にして
前記試料の回転速度と一定の関係を有する速度で回転さ
せることにより、前記試料からの回折X線の回折角を測
定するようにしたX線回折装置において、 前記X線検出器を、エネルギー分解能を有する半導体X
線検出器で構成するとともに、 この半導体X線検出器に入射するX線の強度が一定値以
上となったときに該検出器に入射するX線の強度を減衰
させるX線減衰手段を設けたことを特徴とするX線回折
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9430388A JPH01265146A (ja) | 1988-04-16 | 1988-04-16 | X線回折装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9430388A JPH01265146A (ja) | 1988-04-16 | 1988-04-16 | X線回折装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01265146A true JPH01265146A (ja) | 1989-10-23 |
Family
ID=14106507
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9430388A Pending JPH01265146A (ja) | 1988-04-16 | 1988-04-16 | X線回折装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01265146A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008506127A (ja) * | 2004-07-14 | 2008-02-28 | サウスウエスト テクノロジー アンド エンジニアリングインスティテュート オブ チャイナ | 短波長x線回折測定装置及びその方法 |
| JP2015102397A (ja) * | 2013-11-22 | 2015-06-04 | 株式会社リガク | 補正情報生成方法および補正情報生成装置 |
-
1988
- 1988-04-16 JP JP9430388A patent/JPH01265146A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008506127A (ja) * | 2004-07-14 | 2008-02-28 | サウスウエスト テクノロジー アンド エンジニアリングインスティテュート オブ チャイナ | 短波長x線回折測定装置及びその方法 |
| JP2015102397A (ja) * | 2013-11-22 | 2015-06-04 | 株式会社リガク | 補正情報生成方法および補正情報生成装置 |
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