JPH01266721A - 位置合わせ装置 - Google Patents
位置合わせ装置Info
- Publication number
- JPH01266721A JPH01266721A JP63095321A JP9532188A JPH01266721A JP H01266721 A JPH01266721 A JP H01266721A JP 63095321 A JP63095321 A JP 63095321A JP 9532188 A JP9532188 A JP 9532188A JP H01266721 A JPH01266721 A JP H01266721A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- alignment
- imaging
- fine
- wafer
- alignment mark
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は位置合わせ装置に関し、特に半導体製造プロセ
スにおける露光?t22においてマスクとウェハが所定
の関係となるように位置合せをした後マスク面上のパタ
ーンをウェハ面上に焼付ける際に好適な位置合わせ装置
に関するものである。
スにおける露光?t22においてマスクとウェハが所定
の関係となるように位置合せをした後マスク面上のパタ
ーンをウェハ面上に焼付ける際に好適な位置合わせ装置
に関するものである。
(従来の技術)
最近の半導体製造用の露光装置におけるマスクとウェハ
の位置合わせ装置には集積回路の微細化に伴い、例えば
サブミクロン程度のパターンを転写することができる程
度の高精度な位置合わせ装こが要望されている。
の位置合わせ装置には集積回路の微細化に伴い、例えば
サブミクロン程度のパターンを転写することができる程
度の高精度な位置合わせ装こが要望されている。
特にxil用の露光装置においてはマスクとウェハとの
位置合せを従来に比べてより高精度に行うことのできる
位置合わせ装置が要求されている。
位置合せを従来に比べてより高精度に行うことのできる
位置合わせ装置が要求されている。
一般にマスクとウェハとの高精度な位置合わせ、所謂フ
ァインアライメントを行う際にはファインアライメント
エリアの捕捉の困難さからファインアライメントを行う
前に相位と合わせ、所謂プリアライメントを行っている
。
ァインアライメントを行う際にはファインアライメント
エリアの捕捉の困難さからファインアライメントを行う
前に相位と合わせ、所謂プリアライメントを行っている
。
この場合、ファインアライメントではすでにセットされ
たマスクに対して、所定の位置関係およびギャップに成
る様にクエへが設定される。このときファインアライメ
ントを行った結果、アライメントが不能となる場合があ
る。その原因の1つとしてはファインアライメントマー
クの損傷、アライメントマークへのゴミの付着等がある
。
たマスクに対して、所定の位置関係およびギャップに成
る様にクエへが設定される。このときファインアライメ
ントを行った結果、アライメントが不能となる場合があ
る。その原因の1つとしてはファインアライメントマー
クの損傷、アライメントマークへのゴミの付着等がある
。
従って、このアライメントマークの状態を目視観察する
必要性が生じる0例えばX線用の露光装置におけるファ
インアライメントは従来に比べより高精度な位置合せが
必要となってくる。この為、信号検出方式には回折格子
を利用した方式が採用されている。この場合、前記検出
系を使用して目視観察のためのアライメントマーク像を
得ることは困難であり、従って目視観察用の光学系が別
途必要となってくる。
必要性が生じる0例えばX線用の露光装置におけるファ
インアライメントは従来に比べより高精度な位置合せが
必要となってくる。この為、信号検出方式には回折格子
を利用した方式が採用されている。この場合、前記検出
系を使用して目視観察のためのアライメントマーク像を
得ることは困難であり、従って目視観察用の光学系が別
途必要となってくる。
一方、ファインアライメント位置においては、ウェハは
マスクと近接した位置にあるため、ウェハ面上のアライ
メントマークを観察しようとすると、マスク側のパター
ンないしはアライメントマークが目視1妨げになワてく
る。
マスクと近接した位置にあるため、ウェハ面上のアライ
メントマークを観察しようとすると、マスク側のパター
ンないしはアライメントマークが目視1妨げになワてく
る。
この為、目視観察用の光学系はファインアライメントの
位置から、はずれた位置即ちマスクを逃げた位置に配置
しなければならず、その結果、装ご全体の構成が複雑化
し、又大型化してくる等の問題点があった。
位置から、はずれた位置即ちマスクを逃げた位置に配置
しなければならず、その結果、装ご全体の構成が複雑化
し、又大型化してくる等の問題点があった。
(発明が解決しようとする問題点)
本発明はプリアライメントを行つた後のファインアライ
メントが不能のときにファインアライメントマークを目
視観察する為の観察手段の一部をプリアライメントのマ
ーク計測用のtit像手段の一部と共有することにより
、両機能を効率的に発揮させて高精度な位置合せができ
る簡易な構成の半導体製造用の露光*Itに好適な位置
合わせ装置の提供を目的とする。
メントが不能のときにファインアライメントマークを目
視観察する為の観察手段の一部をプリアライメントのマ
ーク計測用のtit像手段の一部と共有することにより
、両機能を効率的に発揮させて高精度な位置合せができ
る簡易な構成の半導体製造用の露光*Itに好適な位置
合わせ装置の提供を目的とする。
(問題点を解決するための手段)
マスクとウェハを位置合わせする際、基準位置にプリア
ライメントをした後、ファインアライメントを行う位置
合わせ*mにおいて該ウェハ面上のプリアライメントマ
ークを撮像する撮像手段と該ウェハ面上のファインアラ
イメントマーク近傍を観察する観察手段そして該撮像手
段と該観察手段との機俺を切換える撮像切換手段とを有
する11像部を設け、ファインアライメントが不能のと
きに該ウェハをプリアライメント位置からファインアラ
イメント位置へ及びその逆に駆動させる駆動手段により
、該撮像部の位置に移動させて、該撮像部により該ファ
インアライメントマーク近傍を観察するようにしたこと
である。
ライメントをした後、ファインアライメントを行う位置
合わせ*mにおいて該ウェハ面上のプリアライメントマ
ークを撮像する撮像手段と該ウェハ面上のファインアラ
イメントマーク近傍を観察する観察手段そして該撮像手
段と該観察手段との機俺を切換える撮像切換手段とを有
する11像部を設け、ファインアライメントが不能のと
きに該ウェハをプリアライメント位置からファインアラ
イメント位置へ及びその逆に駆動させる駆動手段により
、該撮像部の位置に移動させて、該撮像部により該ファ
インアライメントマーク近傍を観察するようにしたこと
である。
(実施例)
第1図は本発明の位置合わせ装置に係るアライメンl−
マーク検出用及び観察用の撮像部の一実施例の概略図で
ある。
マーク検出用及び観察用の撮像部の一実施例の概略図で
ある。
同図において100は照明系であり、該照明系100は
ファイバーガイドlから発散した光束をコンデンサーレ
ンズ2で集光し、色消しフィルター3を通過させ暗視野
用と明視野用の照明切換手段101により切換え可渣に
構成されている絞り4を通過させ、結像レンズ5を介し
た後ビームスプリッタ−8に導光している。ビームスプ
リッタ−8は照明系100からの光束を対物レンズ7側
に反射させている。
ファイバーガイドlから発散した光束をコンデンサーレ
ンズ2で集光し、色消しフィルター3を通過させ暗視野
用と明視野用の照明切換手段101により切換え可渣に
構成されている絞り4を通過させ、結像レンズ5を介し
た後ビームスプリッタ−8に導光している。ビームスプ
リッタ−8は照明系100からの光束を対物レンズ7側
に反射させている。
対物レンズ7はビームスプリッタ−8からの光束でウニ
八6面上のアライメントマークを落射照明している。
八6面上のアライメントマークを落射照明している。
9はリレーレンズでありウニ八6面から反射し、対物レ
ンズ7とビームスプリッタ−8を通過した光束により撮
像切換手段であるビームスプリッタ10面上にウニへ〇
面土のアライメントマークを1次結像させている。ビー
ムスプリッタ10は矢印の如く回動可能に設定されてお
り、ブリアライメント計測時は点線で示す水平方向に位
置し、又ファインアライメント時には実線で示すように
傾けて位置され撮像切換手段を構成している。
ンズ7とビームスプリッタ−8を通過した光束により撮
像切換手段であるビームスプリッタ10面上にウニへ〇
面土のアライメントマークを1次結像させている。ビー
ムスプリッタ10は矢印の如く回動可能に設定されてお
り、ブリアライメント計測時は点線で示す水平方向に位
置し、又ファインアライメント時には実線で示すように
傾けて位置され撮像切換手段を構成している。
プリアライメントのときはビームスプリッタ10に入射
し、該ビームスプリッタ10を通過した光束によりエレ
クタ−11を介してテレビカメラ12の撮像画面上アラ
イメントマークを結像している。
し、該ビームスプリッタ10を通過した光束によりエレ
クタ−11を介してテレビカメラ12の撮像画面上アラ
イメントマークを結像している。
対物レンズ7からテレビカメラに至る光学系で撮像手段
を構成している。
を構成している。
このときエレクタ−11の撮像倍率は低倍になっており
、該倍率はプリアライメントマークの大きさを捕捉すべ
き1を野から決定される。
、該倍率はプリアライメントマークの大きさを捕捉すべ
き1を野から決定される。
本実施例ではアライメントマークの大きさの変更等に伴
う最適な倍率はエレクタ−11をセレクトすることで設
定している。
う最適な倍率はエレクタ−11をセレクトすることで設
定している。
一方ファインアライメントマークを観察する際にはビー
ムスプリッタ10を実線で示す位置に回動し、リレーレ
ンズ9からの光束をビームスプリッタlOで反射させた
後、エレクタ−13を介してテレビカメラ14の撮像面
上にアライメントマークを結像させている。対物レンズ
7からテレビカメラ14に至る光学系で観察手段を構成
している。
ムスプリッタ10を実線で示す位置に回動し、リレーレ
ンズ9からの光束をビームスプリッタlOで反射させた
後、エレクタ−13を介してテレビカメラ14の撮像面
上にアライメントマークを結像させている。対物レンズ
7からテレビカメラ14に至る光学系で観察手段を構成
している。
この場合の観察倍率は観察するアライメントマークの大
きさによって決定されるが一般的には高倍率か要求され
る。この為、本実施例ではエレクタ−13の倍率を適切
に設定することによりアライメントマークの目視観察に
おいて必要十分な解像力が得られるようにしている。
きさによって決定されるが一般的には高倍率か要求され
る。この為、本実施例ではエレクタ−13の倍率を適切
に設定することによりアライメントマークの目視観察に
おいて必要十分な解像力が得られるようにしている。
以上のように本実施例においては2つのエレクタ−11
,13はいずれも倍率が各々独立に調整可イ鯰となるよ
うに構成されている。
,13はいずれも倍率が各々独立に調整可イ鯰となるよ
うに構成されている。
第2図は本発明の位置合わせ装ごを半導体製造用の露光
装置に適用したときの一実施例の概略図である。
装置に適用したときの一実施例の概略図である。
同図において20は第1図に示した撮像部である。21
はファインアライメント系でありファインアライメント
用の検出系21a〜21dを有している。
はファインアライメント系でありファインアライメント
用の検出系21a〜21dを有している。
撮像部20とファインアライメント系21は所定の距離
を隔てて配置されている。
を隔てて配置されている。
ファインアライメント系21の下方部にはマスク23が
マスクステージ22上に設置されている。マスク23上
には図示するようなファインアライメントマークが描か
れている。26.27は各々XステージとYステージで
あり、各々駆動手段を構成するX駆動アクチュエータ2
9とY駆動アクチュエータ30により図示のXY力方向
駆動されている。Xステージ26上にはZステージ28
と不図示のウェハチャックを介してウェハ25か載置さ
れており、このウェハ25は撮像部20の光軸下及びフ
ァインアライメント系21の光軸下を移動可能に又は各
光軸下でXYZ方向に移動可能に設置されている。
マスクステージ22上に設置されている。マスク23上
には図示するようなファインアライメントマークが描か
れている。26.27は各々XステージとYステージで
あり、各々駆動手段を構成するX駆動アクチュエータ2
9とY駆動アクチュエータ30により図示のXY力方向
駆動されている。Xステージ26上にはZステージ28
と不図示のウェハチャックを介してウェハ25か載置さ
れており、このウェハ25は撮像部20の光軸下及びフ
ァインアライメント系21の光軸下を移動可能に又は各
光軸下でXYZ方向に移動可能に設置されている。
31はドライバ部であり、XYZ方向の駆動アクチュエ
ータ28.29を駆動させている。
ータ28.29を駆動させている。
24及び32〜37は各々電気系処理部である。このう
ち24はファインアライメント信号処理部てあり、ファ
インアライメント系21からの検出信号によりマスクと
ウェハのずれ量を算出している。
ち24はファインアライメント信号処理部てあり、ファ
インアライメント系21からの検出信号によりマスクと
ウェハのずれ量を算出している。
32はステージ制御インターフェイス部でありドライバ
部31を介してxYZステージを制御している。
部31を介してxYZステージを制御している。
33はCPUであり位置合わせ装置全体のシステムを制
御している。
御している。
34はプリアライメント信号処理部てあり、35はコン
トロール部であり、m1図のプリアライメント用のテレ
ビカメラ12をfll mしている。
トロール部であり、m1図のプリアライメント用のテレ
ビカメラ12をfll mしている。
34はプリアライメント信号処理部であり。
コントロール部35からのビデオ信号を処理してプリア
ライメント位置を検出している。36はコントロール部
であり、ファインアライメントマークの観察用の第1図
に示すテレビカメラ14を制御している。
ライメント位置を検出している。36はコントロール部
であり、ファインアライメントマークの観察用の第1図
に示すテレビカメラ14を制御している。
これらのビデオ信号出力はモニタ部38.39に連結さ
れており、アライメントマークを目視蜆察用に表示して
いる。
れており、アライメントマークを目視蜆察用に表示して
いる。
37はプリアライメント光学系の光学系制御部てあり、
明視プアー暗視野の切換用の絞りの駆動および第1図に
示したアライメントマークの計測及び観察を行う際の切
換用のビームスプリッタ10の駆動を行っている。
明視プアー暗視野の切換用の絞りの駆動および第1図に
示したアライメントマークの計測及び観察を行う際の切
換用のビームスプリッタ10の駆動を行っている。
40は操作パネルで1、このパネル上には、X、Yステ
ージの駆動をマニュアルで行うためのジョイスティック
等のの駆動手段がついており。
ージの駆動をマニュアルで行うためのジョイスティック
等のの駆動手段がついており。
ファインアライメントマークの1III察時に、任意の
アライメントマーク部分とアライメントマーク外部分等
のウェハ上の任意の個所が目視U4察できる様ウェハス
テージをX、Y駆動している。
アライメントマーク部分とアライメントマーク外部分等
のウェハ上の任意の個所が目視U4察できる様ウェハス
テージをX、Y駆動している。
この手動駆動はプリアライメント計測時にプリアライメ
ントマークをモニタ上の基準位置に合せこむマニュアル
プリアライメントでも使用している。
ントマークをモニタ上の基準位置に合せこむマニュアル
プリアライメントでも使用している。
15は光源部であり、照明用のファイバーガイドlに光
束を供給している。
束を供給している。
光源部15はウェハのプロセス状態による反射串の違い
に対応する為に自動調光され、九i電圧が制御されてい
る。41はプリアライメントマークでありウェハ25面
上に2カ所設けられている。又、ファインアライメント
マークはスクライブライン上に各ショット毎にマスク2
3のアライメントマークに対応して1組ずつ設けられて
いる。
に対応する為に自動調光され、九i電圧が制御されてい
る。41はプリアライメントマークでありウェハ25面
上に2カ所設けられている。又、ファインアライメント
マークはスクライブライン上に各ショット毎にマスク2
3のアライメントマークに対応して1組ずつ設けられて
いる。
次に本実施例における位置合わせ装置の動作について第
3図のフローチャートを用いて説明する。
3図のフローチャートを用いて説明する。
第3図において、まずステップ50では、プリアライメ
ントを行うためにプリアライメント光学系に相当する撮
像手段をプリアライメント計測モードにセットする。ス
テップ51ではプリアライメント計測用に絞りを暗視野
にセ・ントし、ステップ52においてチャック上にセ・
ントされたウェハをステージ駆動させてプリアライメン
ト光学県下ヘブリアライメントマークを移動する。ステ
ップ53ては、プリアライメントを実行するが、2ケの
プリアライメントマークについて片方のプリアライメン
トマークの撮像、画像処理によるプリアライメントマー
ク位置の検出を行い、次にステージを移動することによ
り他方のプリアライメントマークをプリアライメント光
学系下へ移動して、先と同様の処理を行い、2ケのプリ
アライメントマーク位はの光学系の基準位置からのずれ
を求め、ウェハのチャックへのセツティングエラーを求
めておく、ここでステップ54てプリアライメント結果
の判断をし、否ならばマニュアルプリアライメントを行
うためにステップ55へすすむ。目視位置合せのために
ステップ55て視野をI!視野に切りかえたあと、ステ
ップ56でモニター上のカーソルにプリアライメントマ
ークを合せこむ、ステップ54でプリアライメントが正
の場合には、ステップ57でステージを駆動してファイ
ンアライメントマークをファインアライメント光学系の
下へ移動する。この時プリアライメントにより検出され
たウェハのイニシャルセツティングエラーが同時に補正
されている。ステップ58ては、ファインアライメント
が実行される。ファインアライメントの全チャンネル共
検出できたならば、ステップ59でファインアライメン
トは正となり、ステップ67でファインアライメントは
完了する。1チヤンネルでも検出できなかった場合には
、ファインアライメント不能と判断し、ステップ60で
アライメント不能であった原因を識別する。すなわちア
ライメントのトレランス内に追いこめなかったエラーな
のか、アライメントマークが原因でアライメントマーク
が得られなかったのか、アライメント処理系か不良なの
か等の判断を行い、表示する0次にステップ61ではア
ライメントマークの目視観察を行うか否かの判断をし、
正ならば、ステップ62へうつって、ステージを駆動し
て、不良のファインアライメントマークをプリアライメ
ント光学系下へ移動する0判断が否の場合は、ステップ
65により、再びファインアライメントを行うかの判断
をする。ステップ63では、プリアライメント光学系を
観察モードにセットし、同時に照明系を暗視野に切換え
る。ステップ64で、モニター上てアライメントマーク
を操作パネルを動かすことにより、ウェハを動かし所定
倒所の目視all察を行う。
ントを行うためにプリアライメント光学系に相当する撮
像手段をプリアライメント計測モードにセットする。ス
テップ51ではプリアライメント計測用に絞りを暗視野
にセ・ントし、ステップ52においてチャック上にセ・
ントされたウェハをステージ駆動させてプリアライメン
ト光学県下ヘブリアライメントマークを移動する。ステ
ップ53ては、プリアライメントを実行するが、2ケの
プリアライメントマークについて片方のプリアライメン
トマークの撮像、画像処理によるプリアライメントマー
ク位置の検出を行い、次にステージを移動することによ
り他方のプリアライメントマークをプリアライメント光
学系下へ移動して、先と同様の処理を行い、2ケのプリ
アライメントマーク位はの光学系の基準位置からのずれ
を求め、ウェハのチャックへのセツティングエラーを求
めておく、ここでステップ54てプリアライメント結果
の判断をし、否ならばマニュアルプリアライメントを行
うためにステップ55へすすむ。目視位置合せのために
ステップ55て視野をI!視野に切りかえたあと、ステ
ップ56でモニター上のカーソルにプリアライメントマ
ークを合せこむ、ステップ54でプリアライメントが正
の場合には、ステップ57でステージを駆動してファイ
ンアライメントマークをファインアライメント光学系の
下へ移動する。この時プリアライメントにより検出され
たウェハのイニシャルセツティングエラーが同時に補正
されている。ステップ58ては、ファインアライメント
が実行される。ファインアライメントの全チャンネル共
検出できたならば、ステップ59でファインアライメン
トは正となり、ステップ67でファインアライメントは
完了する。1チヤンネルでも検出できなかった場合には
、ファインアライメント不能と判断し、ステップ60で
アライメント不能であった原因を識別する。すなわちア
ライメントのトレランス内に追いこめなかったエラーな
のか、アライメントマークが原因でアライメントマーク
が得られなかったのか、アライメント処理系か不良なの
か等の判断を行い、表示する0次にステップ61ではア
ライメントマークの目視観察を行うか否かの判断をし、
正ならば、ステップ62へうつって、ステージを駆動し
て、不良のファインアライメントマークをプリアライメ
ント光学系下へ移動する0判断が否の場合は、ステップ
65により、再びファインアライメントを行うかの判断
をする。ステップ63では、プリアライメント光学系を
観察モードにセットし、同時に照明系を暗視野に切換え
る。ステップ64で、モニター上てアライメントマーク
を操作パネルを動かすことにより、ウェハを動かし所定
倒所の目視all察を行う。
目視観察の結果、再びファインアライメントを行う場合
は前出のステップ57へ戻り、ステージ駆動後ステップ
58でファインアライメントを行う。ステップ65て再
度ファインアライメントを行なわない場合には、ステッ
プ66の次ステツプの処理へうつる0次処理の内容とし
ては、ファインアライメント完了ならば露光するか、又
はファインアライメント不flならば捨てショット露光
をするが、アライメント不能時の拾てショットはショッ
トNO0の管理等を別途性なっておく。
は前出のステップ57へ戻り、ステージ駆動後ステップ
58でファインアライメントを行う。ステップ65て再
度ファインアライメントを行なわない場合には、ステッ
プ66の次ステツプの処理へうつる0次処理の内容とし
ては、ファインアライメント完了ならば露光するか、又
はファインアライメント不flならば捨てショット露光
をするが、アライメント不能時の拾てショットはショッ
トNO0の管理等を別途性なっておく。
(発明の効果)
本発明によればプリアライメント後に行うファインアラ
イメントが不能のときに、異常処理としてファインアラ
イメントマーク状態の目視観察を行う為のi+t*手段
を独立に設ける代わりに観察手段の一部をプリアライメ
ント用の撮像手段の一部と共有するように構成すること
により装置全体の簡素化及び小型化を図った位と合わせ
装置を達成することができる。
イメントが不能のときに、異常処理としてファインアラ
イメントマーク状態の目視観察を行う為のi+t*手段
を独立に設ける代わりに観察手段の一部をプリアライメ
ント用の撮像手段の一部と共有するように構成すること
により装置全体の簡素化及び小型化を図った位と合わせ
装置を達成することができる。
第1図は本発明の位1合わせ装置に係るアライメントマ
ーク検出用及びlII察用の撮像部の一実施例の概略図
、第2図は本発明を半導体製造用の露光型こに適用した
ときの一実施例の概略図、f53図は本発明の位置合わ
せ装置における動作を示すブローチヤード図である。 図中、6.25はウェハ523はマスク、41はプリア
ライメントマーク、7は対物レンズ、8、ioはビーム
スプリッタ−,11,13はエレクタ−112,14は
テレビカメラ、iooは照明系、21はファインアライ
メント系、20は1m!1を部、である。
ーク検出用及びlII察用の撮像部の一実施例の概略図
、第2図は本発明を半導体製造用の露光型こに適用した
ときの一実施例の概略図、f53図は本発明の位置合わ
せ装置における動作を示すブローチヤード図である。 図中、6.25はウェハ523はマスク、41はプリア
ライメントマーク、7は対物レンズ、8、ioはビーム
スプリッタ−,11,13はエレクタ−112,14は
テレビカメラ、iooは照明系、21はファインアライ
メント系、20は1m!1を部、である。
Claims (3)
- (1)マスクとウェハを位置合わせする際、基準位置に
プリアライメントをした後、ファインアライメントを行
う位置合わせ装置において該ウェハ面上のプリアライメ
ントマークを撮像する撮像手段と該ウェハ面上のファイ
ンアライメントマーク近傍を観察する観察手段そして該
撮像手段と該観察手段との機能を切換える撮像切換手段
とを有する撮像部を設け、ファインアライメントが不能
のときに該ウェハをプリアライメント位置からファイン
アライメント位置へ及びその逆に駆動させる駆動手段に
より、該撮像部の位置に移動させて、該撮像部により該
ファインアライメントマーク近傍を観察するようにした
ことを特徴とする位置合わせ装置。 - (2)前記撮像部は該撮像手段の撮像倍率と該観察手段
の観察倍率が各々独立に可変できるように構成されてい
ることを特徴とする請求項1記載の位置合わせ装置。 - (3)前記撮像部はプリアライメントマークの撮像用の
暗視野照明手段とファインアライメントマーク観察用の
明視野照明手段そして両照明手段を切換える為の照明切
換手段とを有していることを特徴とする請求項1記載の
位置合わせ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63095321A JPH01266721A (ja) | 1988-04-18 | 1988-04-18 | 位置合わせ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63095321A JPH01266721A (ja) | 1988-04-18 | 1988-04-18 | 位置合わせ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01266721A true JPH01266721A (ja) | 1989-10-24 |
Family
ID=14134478
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63095321A Pending JPH01266721A (ja) | 1988-04-18 | 1988-04-18 | 位置合わせ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01266721A (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS433246Y1 (ja) * | 1964-07-16 | 1968-02-10 | ||
| JPS4514273Y1 (ja) * | 1964-12-28 | 1970-06-17 | ||
| JPS62164466A (ja) * | 1986-01-16 | 1987-07-21 | 高砂香料工業株式会社 | 加熱型有煙蒸散器 |
-
1988
- 1988-04-18 JP JP63095321A patent/JPH01266721A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS433246Y1 (ja) * | 1964-07-16 | 1968-02-10 | ||
| JPS4514273Y1 (ja) * | 1964-12-28 | 1970-06-17 | ||
| JPS62164466A (ja) * | 1986-01-16 | 1987-07-21 | 高砂香料工業株式会社 | 加熱型有煙蒸散器 |
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